硅是重要的半導(dǎo)體材料，構(gòu)成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ)�；卮鹣铝袉�(wèn)題：

（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號(hào)為       ，該能層具有的原子軌道數(shù)為       、電子數(shù)為          。

（2）硅主要以硅酸鹽、               等化合物的形式存在于地殼中。

（3）單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構(gòu)類似的晶體，其中原子與原子之間以               相結(jié)合，其晶胞中共有8個(gè)原子，其中在面心位置貢獻(xiàn)           個(gè)原子。

（4）單質(zhì)硅可通過(guò)甲硅烷(SiH₄)分解反應(yīng)來(lái)制備。工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質(zhì)中反應(yīng)制得SiH₄，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為                                                   。

（5）碳和硅的有關(guān)化學(xué)鍵鍵能如下所示，簡(jiǎn)要分析和解釋下列有關(guān)事實(shí)：

①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠(yuǎn)不如烷烴多，原因是                                                                                   。

②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是                                              。

（6）在硅酸鹽中，SiO₄^4－四面體(如下圖(a))通過(guò)共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結(jié)構(gòu)型式。圖(b)為一種無(wú)限長(zhǎng)單鏈結(jié)構(gòu)的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為                  。Si與O的原子數(shù)之比為             。

硅是重要的半導(dǎo)體材料，構(gòu)成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ)�；卮鹣铝袉�(wèn)題：
（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號(hào)       ，該能層具有的原子軌道數(shù)為      、電子數(shù)為         。
（2）硅主要以硅酸鹽、       等化合物的形式存在于地殼中。
（3）單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構(gòu)類似的晶體，其中原子與原子之間以        相結(jié)合，其晶胞中共有8個(gè)原子，其中在面心位置貢獻(xiàn)       個(gè)原子。
（4）單質(zhì)硅可通過(guò)甲硅烷(SiH₄)分解反應(yīng)來(lái)制備。工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄CI在液氨介質(zhì)中反應(yīng)制得SiH₄，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為              。
（5）碳和硅的有關(guān)化學(xué)鍵鍵能如下所示，簡(jiǎn)要分析和解釋下列有關(guān)事實(shí)：

硅是重要的半導(dǎo)體材料，構(gòu)成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ)．請(qǐng)回答下列問(wèn)題：
（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號(hào)為_(kāi)_____，該能層具有的原子軌道數(shù)為_(kāi)_____、電子數(shù)為_(kāi)_____．
（2）硅主要以硅酸鹽、______等化合物的形式存在于地殼中．
（3）單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構(gòu)類似的晶體，其中原子與原子之間以______相結(jié)合，其晶胞中共有8個(gè)原子，其中在面心位置貢獻(xiàn)______個(gè)原子．
（4）單質(zhì)硅可通過(guò)甲硅烷（SiH₄）分解反應(yīng)來(lái)制備．工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質(zhì)中反應(yīng)制得SiH₄，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_____．
（5）碳和硅的有關(guān)化學(xué)鍵鍵能如下所示，簡(jiǎn)要分析和解釋下列有關(guān)事實(shí)：

化學(xué)鍵	C-C	C-H	C-O	Si-Si	Si-H	Si-O
鍵能/（kJ?mol-1）	356	413	336	226	318	452

①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠(yuǎn)不如烷烴多，原因是______．
②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是______．
（6）在硅酸鹽中，SiO四面體（如下圖（a））通過(guò)共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結(jié)構(gòu)型式．圖（b）為一種無(wú)限長(zhǎng)單鏈結(jié)構(gòu)的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為_(kāi)_____，Si與O的原子數(shù)之比為_(kāi)_____，化學(xué)式為_(kāi)_____．

現(xiàn)用如下方法合成高效、低毒農(nóng)藥殺滅菊酯(       )：

（1）F分子式為_(kāi)____________________；合成G的反應(yīng)類型是______________。

（2）有關(guān)A的下列說(shuō)法正確的是__________(填序號(hào))。

a．A是苯的最簡(jiǎn)單的同系物

b．A的核磁共振氫譜有5個(gè)峰

c．燃燒等物質(zhì)的量A和環(huán)己烷消耗氧氣的量相等

d．A的所有原子可能處在同一平面上

  e．A不能使酸性KMnO₄溶液褪色

（3）寫(xiě)出反應(yīng)B→C的化學(xué)方程式（注明反應(yīng)條件）：_________________________。

（4）寫(xiě)出C在足量的氫氧化鈉水溶液條件下發(fā)生充分反應(yīng)的化學(xué)方程式：__________________

（5）D在硫酸存在下發(fā)生水解生成J：D  J

寫(xiě)出符合下列要求的J的所有同分異構(gòu)體的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式(可以不填滿)：

________、________、________、_________、__________。

①苯環(huán)上有兩個(gè)位于間位的取代基；

②能水解成兩種有機(jī)物。

（6）α-氨基酸X與I互為同分異構(gòu)體，且X是萘()的一取代物，含有碳碳叁鍵。寫(xiě)出由X通過(guò)肽鍵連接而成的高聚物Y的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式是               。