題目列表(包括答案和解析)
硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式 。
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和H2,該反應(yīng)的氧化劑是 ;H2還原過程中若混O2,可能引起的后果是 。(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是 (填字母)。
A.晶體硅和二氧化硅晶體的結(jié)構(gòu)都類似金剛石,都常用來制造電子部件。
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承。
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂為原料制成的,沒有固定的熔點。
D.鹽酸可以與硅反應(yīng),故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅。
(3)三硅酸鎂(2MgO?3SiO2?nH2O)被用來治療胃潰瘍,是因為該物質(zhì)不溶于水,服用后能中和胃酸,作用持久。寫出三硅酸鎂與胃酸(鹽酸)反應(yīng)的化學(xué)方程式:
(14分)元素單質(zhì)及其化合物有廣泛用途,請根據(jù)周期表中第三周期元素相關(guān)知識回答下列問題:
(1)按原子序數(shù)遞增的順序(稀有氣體除外),以下說法正確的是 。
a.原子序數(shù)和離子半徑均減小 b.金屬性減弱,非金屬性增強
c.氧化物對應(yīng)的水合物堿性減弱,酸性增強 d.單質(zhì)的熔點降低
(2)原子最外層電子數(shù)與次外層電子數(shù)相同的元素名稱為 ,氧化性最弱的簡單陽離子是 。
(3)已知:
化合物 | MgO | Al2O3 | MgCl2 | AlCl3 |
類型 | 離子化合物 | 離子化合物 | 離子化合物 | 共價化合物 |
熔點/℃ | 2800 | 2050 | 714 | 191 |
化合物 | MgO | Al2O3 | MgCl2 | AlCl3 |
類型 | 離子化合物 | 離子化合物 | 離子化合物 | 共價化合物 |
熔點/℃ | 2800 | 2050 | 714 | 191 |
電離能(kJ/mol) | I1 | I2 | I3 | I4 |
A | 738 | 1 451 | 7 733 | 10 540 |
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