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下圖是一些物質(zhì)間的轉(zhuǎn)化關(guān)系圖,圖中所有物質(zhì)含有的元素中只有一種不是短周期元素,所有反應(yīng)物、生成物及溶液中的水以及部分反應(yīng)中一些生成物未標(biāo)出。C、D、E、K為單質(zhì),N為兩性化合物。J是由兩種元素組成的和SiC相同晶體類型的新型材料,且J和SiC具有相同的價(jià)電子數(shù)和原子數(shù)。I是由四種元素組成的強(qiáng)堿。反應(yīng)③用于檢驗(yàn)一種常見的有機(jī)官能團(tuán),反應(yīng)⑤、⑥用于工業(yè)中生產(chǎn)B。
回答下列問(wèn)題:
(1)寫出下列物質(zhì)的化學(xué)式:G 、I 。
(2)寫出反應(yīng)①、⑦的離子方程式:
① ,
⑦ ;
(3)J和SiC的納米級(jí)復(fù)合粉末是新一代大規(guī)模集成電路理想的散熱材料。反應(yīng)②是日本科學(xué)家研究開發(fā)制備該納米級(jí)復(fù)合粉末的最新途徑。已知反應(yīng)②中n(F)∶n(E)∶n(J)∶n(SiC)∶n(K)=1∶2∶4∶1∶3,寫出反應(yīng)②的化學(xué)方程式 。
下圖是一些常見的單質(zhì)、化合物之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系圖,有些反應(yīng)中的部分物質(zhì)被略去。常溫常壓下,A為無(wú)色有毒氣體,B為紅棕色粉末,C、E為金屬單質(zhì)。反應(yīng)①②均為工業(yè)上的重要反應(yīng)。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)(3分)寫出下列物質(zhì)的化學(xué)式A K L 。
(2)(2分)寫出F與NaOH反應(yīng)的化學(xué)方程式 。
(3)(3分)寫出B與C高溫反應(yīng)生成E和F的化學(xué)方程式: 。試列舉該反應(yīng)在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用 。
(4)(2分)寫出D與J的稀溶液反應(yīng)生成G的離子方程式: 。
(5)(2分)寫出H與強(qiáng)堿反應(yīng)后一段時(shí)間內(nèi)所能觀察出的現(xiàn)象 。
下圖是一些常見的單質(zhì)、化合物之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系圖,有些反應(yīng)中的部分物質(zhì)被略去。常溫常壓下,A為無(wú)色有毒氣體,B為紅棕色粉末,C、E為金屬單質(zhì)。反應(yīng)①②均為工業(yè)上的重要反應(yīng)。
[來(lái)源:ZXXK]
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)(3分)寫出下列物質(zhì)的化學(xué)式A K L 。
(2)(2分)寫出F與NaOH反應(yīng)的化學(xué)方程式 。
(3)(3分)寫出B與C高溫反應(yīng)生成E和F的化學(xué)方程式: 。試列舉該反應(yīng)在工業(yè)生產(chǎn)中的應(yīng)用 。
(4)(2分)寫出D與J的稀溶液反應(yīng)生成G的離子方程式: 。
(5)(2分)寫出H與強(qiáng)堿反應(yīng)后一段時(shí)間內(nèi)所能觀察出的現(xiàn)象 。
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