題目列表(包括答案和解析)
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無機(jī)化學(xué)反應(yīng)式
1、2Na+2H2O=2NaOH+H2↑ ★ 2K+2H2O=2KOH+H2↑
2、2Na2O2+2H2O=4NaOH+O2↑ 3、2Na2O2+2CO2=2Na2CO3+O2
4、氫氧化鈉和碳酸氫鈉在溶液中反應(yīng)的離子方程式為:
OH- +HCO3- =CO32- +H2O
氯氣溶于水(新制氯水中含Cl2.HClO.H2O .H+ .Cl - .ClO - .OH-):
5、Cl2+H2O=HCl+HClO ★ Cl2+2NaOH=NaCl+NaClO+H2O
次氯酸見光分解(強(qiáng)氧化劑、殺菌消毒,漂白劑):
6、2HClO2HCl+O2↑
7、Ca(ClO)2+CO2+H2O=CaCO3+2HClO
8、MnO2+4HCl(濃)MnCl2+Cl2↑+2H2O
9、2F2+2H2O=4HF+O2 Cl2+H2O=HCl+HClO Br2+H2O=HBr+HBrO
10、2Al+2NaOH+2H2O=2NaAlO2+3H2↑ Al2O3+2NaOH=2NaAlO2+H2O
Al(OH)3+NaOH=NaAlO2+2H2O
11、H2O2的分解: 2H2O22H2O+O2↑ *H2S與SO2的反應(yīng): 2H2S+SO2=3S+2H2O
12、2SO2+O22SO3
13、Cu+2H2SO4(濃)CuSO4+SO2↑+2H2O
14、C+2H2SO4(濃)CO2↑+2SO2↑+2H2O
15、SiO2+2CSi+2CO↑
16、
17、N2+O2 2NO 2NO+O2=2NO2 3NO2+H2O=2HNO3+NO
18、4NH3 +5O24NO+6H2O
19、用濃鹽酸檢驗(yàn)氨氣(白煙生成): NH3+HCl=NH4Cl
20、(NH4)2SO4+2NaOH Na2SO4+2NH3↑+2H2O
21、NH4NO3+NaOH=NaNO3+NH3↑+H2O
22、4HNO34NO2↑+O2↑+2H2O
23、Cu+4HNO3(濃)=Cu(NO3)2+2NO2↑+2H2O
3Cu+8HNO3(稀)=3Cu(NO3)2+2NO↑+4H2O
C+4HNO3(濃)=CO2↑+4NO2↑+2H2O
24、FeCl3+3KSCN3KCl+Fe(SCN)3
25、鹽類水解: CH3COO- +H2OCH3COOH+OH- CO32- +H2OHCO3-+OH-
HCO3- +H2OH2CO3+OH- NH4+ +H2ONH3?H2O+H+
Fe3+ +3H2OFe(OH)3+3H+
27、鋁熱反應(yīng): 2Al+Fe2O32Fe+Al2O3
4Al+3MnO23Mn+2Al2O3
28、2Mg+CO2C+2MgO
29、Al2(SO4)3+6NH3·¤H2O=2Al(OH)3↓?+2(NH4)2SO4
30、NaAlO2+HCl+H2O=Al(OH)3↓? +NaCl ; NaAlO2+CO2+H2O=Al(OH)3↓? +NaHCO3
31、高溫下鐵與水反應(yīng) :3Fe+4H2O(g)Fe3O4+4H2
32、FeCl3+3NaOH=Fe(OH)3↓?+3NaCl
33、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3
34、2FeCl2+Cl2=2FeCl3 2FeCl3+Fe=3FeCl2
35、氯化鐵溶液中加入銅粉: 2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2
36、金屬的冶煉:Fe2O3+3CO2Fe+3CO2
CuO+CCu+CO↑
37、銅鋅原電池:正極:2H++2e- =H2↑
負(fù)極:Zn-2e- =Zn2+
38、鋼鐵的吸氧腐蝕:正極:O2+4e- +2H2O=4OH-
負(fù)極:Fe-2e- =Fe2+
39、Fe(OH)3膠體的制取:FeCl3 +3H2OFe(OH)3(膠體)+3HCl
40、電解CuCl2溶液:陽極:2Cl- -2e- =Cl2↑
陰極:Cu2++2e- =Cu
總反應(yīng):CuCl2Cu+Cl2↑
41、銅的電解精煉:陽極:Cu-2e- =Cu2+
陰極:Cu2++2e- =Cu
42、電鍍銅:陽極:Cu-2e- =Cu2+
陰極:Cu2++2e- =Cu
43、電解飽和食鹽水:陽極:2Cl- +2e-=Cl2↑
陰極:2H+ +2e- =H2↑
總反應(yīng):2NaOH+2H2O H2↑+2NaOH+Cl2↑
44、黃鐵礦的燃燒: 4FeS2 +11O22Fe2O3+8SO2
45、氨水吸收少量SO2: SO2+2NH3 +H2O=(NH4)2SO3
46、C+H2O(g)CO+H2
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機(jī)物,無機(jī)鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對(duì)太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好;卮鹣铝袉栴}
Ⅰ.(1)寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ,對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH一反應(yīng),生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4;诖嗽矸治龇磻(yīng)中氧化劑為 。
(2)本;瘜W(xué)興趣小組同學(xué),為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確,完成以下實(shí)驗(yàn):
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實(shí)驗(yàn)事實(shí) |
事實(shí)一 |
水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
事實(shí)二 |
盛放于鉑或石英器皿中的純水長時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
事實(shí)三 |
普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
事實(shí)四 |
在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點(diǎn)著后燜燒,可劇烈放出H2。 |
事實(shí)五 |
1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。 |
結(jié)論:從實(shí)驗(yàn)上說明堿性水溶液條件下,H2O可作 劑;NaOH作_____ 劑,降低反應(yīng) 。高溫?zé)o水環(huán)境下,NaOH作 劑。
Ⅱ.在工業(yè)中利用鎂制取硅:2Mg+SiO22MgO+Si,同時(shí)有副反應(yīng)發(fā)生:2Mg+SiMg2Si,Mg2Si遇鹽酸迅速反應(yīng)生成SiH4(硅烷),SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易分解的氣體。如圖是進(jìn)行Mg與SiO2反應(yīng)的實(shí)驗(yàn)裝置:
由于氧氣的存在對(duì)該實(shí)驗(yàn)有較大影響,實(shí)驗(yàn)中應(yīng)通入氣體X作為保護(hù)氣,試管中的固體藥品可選用________(填序號(hào))。 a.石灰石 b.鋅粒 c.純堿
(4)實(shí)驗(yàn)開始時(shí),必須先通入X氣體,再加熱反應(yīng)物,其理由是______________________________,當(dāng)反應(yīng)開始后,移走酒精燈反應(yīng)能繼續(xù)進(jìn)行,其原因是___________________________。
(5)反應(yīng)結(jié)束后,待冷卻至常溫時(shí),往反應(yīng)后的混合物中加入稀鹽酸?捎^察到閃亮的火星,產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學(xué)方程式表示為_______________________________________。
清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一,硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)(如某些有機(jī)物,無機(jī)鹽,金屬、Si、SiO2粉塵等)。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物,通常用一定濃度的HF溶液,室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面,增加硅對(duì)太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75~90℃反應(yīng)25~35 min,效果良好;卮鹣铝袉栴}
Ⅰ.(1)寫出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式 ,對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型,他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng),首先是Si與OH一反應(yīng),生成SiO44一,然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應(yīng)中氧化劑為 。
(2)本;瘜W(xué)興趣小組同學(xué),為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確,完成以下實(shí)驗(yàn):
| 實(shí)驗(yàn)事實(shí) |
事實(shí)一 | 水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。 |
事實(shí)二 | 盛放于鉑或石英器皿中的純水長時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無腐蝕作用。 |
事實(shí)三 | 普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。 |
事實(shí)四 | 在野外環(huán)境里,用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH,點(diǎn)著后燜燒,可劇烈放出H2。 |
事實(shí)五 | 1g(0.036mo1)Si和20mL含有l(wèi)gNaOH(0.025mol)的溶液,小心加熱(稍微預(yù)熱),收集到約1700mL H2,很接近理論值(1600mL)。 |
(12分)
某學(xué)習(xí)研究小組根據(jù)金屬鋅、鋁、鐵分別與稀鹽酸反應(yīng)的相對(duì)速率,探究金屬鋅、鋁、鐵的金屬活動(dòng)性。
[實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)]
為了達(dá)到實(shí)驗(yàn)?zāi)康模仨毧刂茖?shí)驗(yàn)條件。你認(rèn)為控制的實(shí)驗(yàn)條件是(可填滿也可不填滿
(1) ;(2) ;
(3) ;(4) 。
[實(shí)驗(yàn)探究]
該學(xué)習(xí)研究小組在上述實(shí)驗(yàn)條件相同的情況下,進(jìn)行三組實(shí)驗(yàn):各量取50mL稀鹽酸于小燒杯中,分別同時(shí)加入足量的三種表面無氧化膜的金屬片,用pH計(jì)測(cè)定溶液的pH并將信息傳輸?shù)诫娔X,電腦動(dòng)態(tài)地繪制出溶液中c(H+)隨時(shí)間t的變化曲線(反應(yīng)過程中溶液的體積沒有變化)。下圖是反應(yīng)到t1s時(shí)電腦記錄的曲線:
[交流與表達(dá)]
根據(jù)上述c(H+)隨時(shí)間t的變化曲線回答下列問題:
(1)表示金屬活動(dòng)性最弱的金屬與H+反應(yīng)的變化曲線是 (填“a”、“b”或“c”編號(hào))。
(2)在同一時(shí)間內(nèi),表示不同反應(yīng)的反應(yīng)速率可以有:同溫同壓下放出氫氣的體積V(H2);溶液中H+濃度的減少△c(H+);固體減少的量△m或△n。在0一t1s之間,設(shè)A1和Zn分別與鹽酸反應(yīng)的速率為v(Al)和v(Zn):
A若以溶液中c(H+)減少來表示不同反應(yīng)的速率,即v(Al)和v(Zn)的比值為 ;
B若以固體質(zhì)量的減輕來表示不同反應(yīng)的速率,即v(Al)和v(Zn)的比值為 ;
C若以固體物質(zhì)的量減少來表示不同反應(yīng)的速率,即v(Al)和v(Zn)的比值為 。
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