W.X.Y.Z是四種常見的短周期元素.其原子半徑隨原子序數(shù)變化如下圖所示.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18.中子數(shù)為10,X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1,Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料,Z的電負(fù)性在同周期主族元素中最大. (1)X位于元素周期表中第 周期第 族,W的基態(tài)原子核外有 個未成對電子. (2)X的單質(zhì)子和Y的單質(zhì)相比.熔點(diǎn)較高的是 ,Z的氣態(tài)氫化物和溴化氫相比.較穩(wěn)定的是 . (3)Y與Z形成的化合物和足量水反應(yīng).生成一種弱酸和一種強(qiáng)酸.該反應(yīng)的化學(xué)方程式是 . (4)在25ºC.101 kPa下.已知Y的氣態(tài)化物在氧氣中完全燃燒后恢復(fù)至原狀態(tài).平均每轉(zhuǎn)移1mol 電子放熱190.0kJ.該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是 . 解析:因?yàn)閃的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18.中子數(shù)為10.說明W的質(zhì)子數(shù)為8.即為氧元素,Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料.而在短周期元素中只有元素硅符合.即Y是Si,所以由圖像中原子半徑的大小順序可知X.Y.Z應(yīng)該屬于第三周期元素.在第三周期主族元素中電負(fù)性最大的Cl元素.所以Z是Cl,又因?yàn)閄和Ne原子的核外電子數(shù)相差1.且X位于第三周期.所以X是Na. (1)O的原子電子排布式是1S22S22P4.所以O(shè)的基態(tài)原子核外有2個未成對電子, (2)單質(zhì)鈉和硅分別屬于金屬晶體和原子晶體.故單質(zhì)硅的熔點(diǎn)高,Cl的非金屬性強(qiáng)于Br的.所以HCl比HBr穩(wěn)定, (3)Y與Z形成的化合物是SiCl4.SiCl4可以和水發(fā)生水解反應(yīng)鹽酸和硅酸.反應(yīng)的化學(xué)方程式是:SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl, (4)Y的氣態(tài)化物是SiH4.燃燒后生成二氧化硅.其中Si的化合價由-4價升高到+4價.轉(zhuǎn)移8個電子.所以1mol SiH4共放出8×190.0kJ=1520.0KJ能量.因此反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是:SiH4(g)+2O2(g)=SiO2(s)+2H2O △H=-1520.0KJ/mol 答案:Si HCl (3)SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl (4)SiH4(g)+2O2(g)=SiO2(s)+2H2O(l) △H=-1520.0KJ/mol 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

精英家教網(wǎng)W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素,其原子半徑隨原子序數(shù)變化如下圖所示.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為14,中子數(shù)為7;X的離子與NH4+具有相同的質(zhì)子、電子數(shù)目; W與Y的氧化物均能導(dǎo)致酸雨的形成;Z的非金屬性在同周期主族元素中最強(qiáng).
(1)Y在周期表中的位置是
 

(2)用電子式解釋X與W能形成化合物X3W的原因
 

(3)X3W遇水可釋放出使酚酞溶液變紅的氣體A,化學(xué)方程式是
 

(4)用惰性電極電解化合物XZ溶液從陰極釋放出氣體B,反應(yīng)的離子方程式是
 

(5)已知W的單質(zhì)與氣體B在一定條件下可形成氣體A,即:W2(g)+3B (g)?2A(g)△H=-92.4kJ?mol-1
在某溫度時,一個容積固定的密閉容器中,發(fā)生上述反應(yīng).在不同時間測定的容器內(nèi)各物質(zhì)的濃度如下表:
時間 濃度(mol/L)
c(W2 c(B) c(A)
第0min 4.0 9.0 0
第10min 3.8 8.4 0.4
第20min 3.4 7.2 1.2
第30min 3.4 7.2 1.2
第40min 3.6 7.8 0.8
①W2的平均反應(yīng)速率v(0min~10min)/v(10min~20min)=
 

②反應(yīng)在第10min改變了反應(yīng)條件,改變的條件可能是
 
;
a.更新了催化劑   b.升高溫度   c.增大壓強(qiáng)   d.增加B的濃度
③若反應(yīng)從第30min末又發(fā)生了一次條件改變,改變的反應(yīng)條件可能是
 
;
a.更新了催化劑   b.升高溫度   c.增大壓強(qiáng)   d.減小A的濃度.

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(2011?安徽)W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素,其原子半徑隨原子序數(shù)變化如下圖所示.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18,中子數(shù)為10;X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1;Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料;Z的電負(fù)性在同周期主族元素中最大.
(1)X位于元素周期表中第
 周期第
ⅠA
ⅠA
 族;W的基態(tài)原子核外有
2
2
 個未成對電子.
(2)X的單質(zhì)和Y的單質(zhì)相比,熔點(diǎn)較高的是
Si
Si
(寫化學(xué)式);Z的氣態(tài)氫化物和溴化氫相比,較穩(wěn)定的是
HCl
HCl
 (寫化學(xué)式).
(3)Y與Z形成的化合物和足量水反應(yīng),生成一種弱酸和一種強(qiáng)酸,該反應(yīng)的化學(xué)方程式是
SiCl4+3H2O═H2SiO3+4HCl
SiCl4+3H2O═H2SiO3+4HCl

(4)在25°C、101kPa下,已知Y的氣態(tài)化物在氧氣中完全燃燒后恢復(fù)至原狀態(tài),平均每轉(zhuǎn)移1mol 電子放熱190.0kJ,該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是
SiH4(g)+2O2(g)
 點(diǎn)燃 
.
 
SiO2(s)+2H2O(l)△H=-1520kJ/mol
SiH4(g)+2O2(g)
 點(diǎn)燃 
.
 
SiO2(s)+2H2O(l)△H=-1520kJ/mol

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W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素,其原子半徑隨原子序數(shù)變化如下圖所示.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18,中子數(shù)為10;X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1;Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料;Z的電負(fù)性在同周期主族元素中最大.(以下答案的W、X、Y、Z必須用相應(yīng)的元素符號代替)
(1)X的原子結(jié)構(gòu)示意圖為
;W的基態(tài)原子核外有
2
2
個未成對電子.
(2)XZ與X2W都屬于
離子
離子
晶體(寫晶體類型);其熔點(diǎn)較高的是
Na2O
Na2O
 (寫化學(xué)式),原因是
氯離子的半徑大于氧離子半徑,氧化鈉中核間距小且氧離子所帶電荷多,氧化鈉的晶格能大
氯離子的半徑大于氧離子半徑,氧化鈉中核間距小且氧離子所帶電荷多,氧化鈉的晶格能大

(3)YZ4和足量的水反應(yīng),生成一種弱酸和一種強(qiáng)酸,該反應(yīng)的化學(xué)方程式是
SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl

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(2013?濟(jì)寧一模)W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素,其原子半徑隨原子序數(shù)變化如圖.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18,中子數(shù)為10;X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1;Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料;Z的非金屬性在同周期元素中最強(qiáng),下列說法正確的是(  )

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W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素,其原子半徑隨原子序數(shù)變化如圖所示.已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18,中子數(shù)為10;X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1;Y的單質(zhì)是一種常見的半導(dǎo)體材料;Z是
是同周期中非金屬性最強(qiáng)的元素.
(1)X位于元素周期表的位置
第三周期、IA族
第三周期、IA族
,X與硫元素形成的化合物的電子式為

(2)Z的氣態(tài)氫化物和溴化氫相比,較穩(wěn)定的是
HCl
HCl
 (寫化學(xué)式).理由為
氯元素的非金屬性強(qiáng)于溴元素,所以HCl比HBr穩(wěn)定
氯元素的非金屬性強(qiáng)于溴元素,所以HCl比HBr穩(wěn)定

(3)Y與Z形成的化合物硬度小、熔點(diǎn)低、沸點(diǎn)低,其晶體中有存在的作用力有
范德華力(或分子間作用力)極性共價鍵(或共價鍵)
范德華力(或分子間作用力)極性共價鍵(或共價鍵)

其分子屬于
非極性分子
非極性分子
(填極性分子、非極性分子),它和足量水反應(yīng),有白色膠狀沉淀產(chǎn)生,該反應(yīng)的化學(xué)方程式是
SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl或SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl
SiCl4+3H2O=H2SiO3↓+4HCl或SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl

(4)在25°C、101kPa下,已知Y的氣態(tài)氫化物在氧氣中完全燃燒后恢復(fù)至原狀態(tài),平均每轉(zhuǎn)移1mol 電子放熱190.0kJ,該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式是
SiH4(g)+2O2(g)=SiO2(s)+2H2O(l)△H=-1520.0kJ/mol
SiH4(g)+2O2(g)=SiO2(s)+2H2O(l)△H=-1520.0kJ/mol

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