2．下列敘述中錯誤的是 ( ) A．SiO2是硅酸和原硅酸的酸酐.但不能由SiO2直接制兩種酸 B．二氧化硅是通訊材料光導纖維的主要原料 C．氧化鋁陶瓷.碳化硅陶瓷都是重要的高溫結構陶瓷 D．二氧化硅熔點與干冰相差不大.它們都是酸性氧化物 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

下列敘述中錯誤的是

A．

SiO2是硅酸和原硅酸的酸酐，但不能由SiO2直接制兩種酸

B．

二氧化硅是通訊材料光導纖維的主要原料

C．

氧化鋁陶瓷、碳化硅陶瓷都是重要的高溫結構陶瓷

D．

二氧化硅熔點與干冰相差不大，它們都是酸性氧化物

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：

已知SiHCl3能與H2O強烈反應，生成一種可燃燒的單質氣體和兩種酸．請回答下列問題：
（1）寫出制備粗硅的化學方程式
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO
SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si+2CO
．
（2）在生成SiHCl3的反應中，還原劑與還原產物的質量比為
14：1
14：1
．
（3）整個制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高溫 
.
 
CO+H2
．
（4）下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是
B C D
B C D
（填字母代號）
A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結合
B．用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C．硅與碳位于同一主族，性質相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可與強堿（如NaOH）溶液反應，而不與任何酸反應．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：

已知SiHCl3能與H2O強烈反應，生成一種可燃燒的單質氣體和兩種酸．請回答下列問題：
（1）寫出制備粗硅的化學方程式______．
（2）在生成SiHCl3的反應中，還原劑與還原產物的質量比為______．
（3）整個制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應是______．
（4）下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是______（填字母代號）
A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結合
B．用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C．硅與碳位于同一主族，性質相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可與強堿（如NaOH）溶液反應，而不與任何酸反應．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：

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已知SiHCl3能與H2O強烈反應，生成一種可燃燒的單質氣體和兩種酸．請回答下列問題：
（1）寫出制備粗硅的化學方程式______．
（2）在生成SiHCl3的反應中，還原劑與還原產物的質量比為______．
（3）整個制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應是______．
（4）下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是______（填字母代號）
A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結合
B．用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C．硅與碳位于同一主族，性質相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可與強堿（如NaOH）溶液反應，而不與任何酸反應．

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晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：

已知SiHCl3能與H2O強烈反應，生成一種可燃燒的單質氣體和兩種酸．請回答下列問題：
（1）寫出制備粗硅的化學方程式    ．
（2）在生成SiHCl3的反應中，還原劑與還原產物的質量比為    ．
（3）整個制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應是    ．
（4）下列關于硅及其化合物的敘述錯誤的是    （填字母代號）
A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價鍵結合
B．用于現(xiàn)代通訊的光導纖維的主要成分是高純度的硅
C．硅與碳位于同一主族，性質相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D．SiO2和CO2都是酸性氧化物，均可與強堿（如NaOH）溶液反應，而不與任何酸反應．

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