請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題. ①下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中少量的CuO.從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮.較好的方案是 . a.用稀HCl除去CuO b.用CO還原CuO ②要除去K2SO4溶液中的少量KOH.不能選用稀HCl.原因是會(huì)生成 而引入新的雜質(zhì). ③要使NaCl溶液中少量的Na2SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去.可選用適量的 . 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題。

①下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中少量的CuO,從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮,較好的方案是         (填a或b)。

a.用稀HCl除去CuO       b.用CO還原CuO

②要除去K2SO4溶液中的少量KOH,不能選用稀HCl,原因是會(huì)生成

     (填名稱(chēng)或化學(xué)式)而引入新的雜質(zhì)。

③要使NaCl溶液中少量的Na2SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去,可選用適量的

      (填名稱(chēng)或化學(xué)式)。

  

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請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題。

①下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中少量的CuO,從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮,較好的方案是         (填a或b)。

a.用稀HCl除去CuO       b.用CO還原CuO

②要除去K2SO4溶液中的少量KOH,不能選用稀HCl,原因是會(huì)生成     (填名稱(chēng)或化學(xué)式)而引入新的雜質(zhì)。

③要使NaCl溶液中少量的Na2SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去,可選用適量的      (填名稱(chēng)或化學(xué)式)。

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請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題。
(1)下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中少量的CuO,從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮,較好的方案是____ (填“a”或“b”)。
a.用稀HCl除去CuO b.用CO還原CuO
(2)要除去K2SO4溶液中的少量KOH,不能選用稀HCl,原因是會(huì)生成______(填名稱(chēng)或化學(xué)式)而引入新的雜質(zhì)。
(3)要使NaCl溶液中少量的Na2SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去,可選用適量的________(填名稱(chēng)或化學(xué)式)。

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請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題:
(1)下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中的少量氧化銅
①用稀鹽酸除去氧化銅 ②用CO還原氧化銅
從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮,較好的方案是_______(選填“①”或“②”);
(2)要除去K2SO4溶液中的少量KOH,不能選用稀鹽酸,原因是會(huì)生成_________(填寫(xiě)具體物質(zhì)的名稱(chēng)或化學(xué)式),而引入新的雜質(zhì);
(3)要使NaCl溶液中的少量Na2SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去,可選用適量的________;
(4)要除去氫氣中的少量水蒸氣和氯化氫氣體,將混合氣體先通過(guò)足量的濃硫酸再通過(guò)足量的氫氧化鈉溶液后,氫氣中仍含有的雜質(zhì)是_________。

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請(qǐng)回答下列與物質(zhì)提純有關(guān)的問(wèn)題:

    (1)下列兩個(gè)方案都可以除去銅粉中的少量氧化銅

    ①用稀鹽酸除去氧化銅  ②用CO還原氧化銅

    從環(huán)境保護(hù)和操作簡(jiǎn)便等方面考慮,較好的方案是            (選填“①”或“②”);

    (2)要除去K2SO4溶液中的少量KOH,不能選用稀鹽酸,原因是會(huì)生成        (填寫(xiě)具體物質(zhì)的名稱(chēng)或化學(xué)式),而引入新的雜質(zhì):

    (3)要使NaCl溶液中的少量Na2 SO4轉(zhuǎn)化為沉淀而除去,可選用適量的              ,

    (4)要除去氫氣中的少量水蒸氣和氯化氫氣體,將混合氣體先通過(guò)足量的濃硫酸再通過(guò)足量的氫氧化鈉溶液后,氫氣中仍含有的雜質(zhì)是                     。

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