題目列表(包括答案和解析)
(18分)請回答下列Ⅰ、Ⅱ小題
Ⅰ、(8分)圖甲表示在光照充足、CO2濃度適宜的條件下,溫度對某植物真正光合作用速率和呼吸作用速率的影響。其中實線表示真正光合作用速率,虛線表示呼吸作用速率。圖乙為該植物在適宜條件下,光合作用速率隨光照強度變化的示意圖。請據(jù)圖回答:
(1)由圖甲可知,與 作用有關的酶對高溫更為敏感。溫度會影響光合作用的 階段。
(2)當環(huán)境溫度為40℃時,該植物的有機物凈積累量為 mg/h。理論上預計,在溫度為 條件下,植物生長狀況達到最佳,已知乙圖是在此溫度條件下繪制而成的曲線,理論上分析,如果溫度改變?yōu)?5℃,圖中b點將向 移。
(3)乙圖中用 的量表示植物的光合作用速率,圖中c點表示
(4)乙圖曲線中,當光照強度為0時,葉肉細胞中產(chǎn)生ATP的細胞器有 。
Ⅱ、(10分)大麻是一種雌雄異株的植物,請回答以下問題:
(1)在大麻體內,物質B的形成過程如右圖所示,基因Mm和Nn分別位于兩對常染色體上。
①據(jù)圖分析,能產(chǎn)生B物質的大麻基因型可能有 種。
②如果兩個不能產(chǎn)生B物質的大麻品種雜交,F(xiàn)1全都能產(chǎn)生B物質,則親本的基因
型是 和 。F1中雌雄個體隨機相交,后代中
能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)和不能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)之比應為 。
(2)右圖為大麻的性染色體示意圖,X、Y染色體的同源部分(圖中I片斷)上的基因互為等位,非同源部分(圖中Ⅱ1、Ⅱ2片斷)上的基因不互為等位。若大麻的抗病性狀受性染色體上的顯性基因D控制,大麻的雌、雄個體均有抗病和不抗病類型。請回答:
①控制大麻抗病性狀的基因不可能位于右圖中的 片段。
②請寫出具有抗病性狀的雄性大麻個體可能有的基因型 。
③現(xiàn)有雌性不抗病和雄性抗病兩個品種的大麻雜交,請根據(jù)以下子代可能出現(xiàn)的情
況,分別推斷出這對基因所在的片段:
如果子代全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為不抗病,雄性全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為抗病,雄性全為不抗病,則這對基因位于 片
段。
(18分)請回答下列Ⅰ、Ⅱ小題
Ⅰ、(8分)圖甲表示在光照充足、CO2濃度適宜的條件下,溫度對某植物真正光合作用速率和呼吸作用速率的影響。其中實線表示真正光合作用速率,虛線表示呼吸作用速率。圖乙為該植物在適宜條件下,光合作用速率隨光照強度變化的示意圖。請據(jù)圖回答:
(1)由圖甲可知,與 作用有關的酶對高溫更為敏感。溫度會影響光合作用的 階段。
(2)當環(huán)境溫度為40℃時,該植物的有機物凈積累量為 mg/h。理論上預計,在溫度為 條件下,植物生長狀況達到最佳,已知乙圖是在此溫度條件下繪制而成的曲線,理論上分析,如果溫度改變?yōu)?5℃,圖中b點將向 移。
(3)乙圖中用 的量表示植物的光合作用速率,圖中c點表示
(4)乙圖曲線中,當光照強度為0時,葉肉細胞中產(chǎn)生ATP的細胞器有 。
Ⅱ、(10分)大麻是一種雌雄異株的植物,請回答以下問題:
(1)在大麻體內,物質B的形成過程如右圖所示,基因Mm和Nn分別位于兩對常染色體上。
①據(jù)圖分析,能產(chǎn)生B物質的大麻基因型可能有 種。
②如果兩個不能產(chǎn)生B物質的大麻品種雜交,F(xiàn)1全都能產(chǎn)生B物質,則親本的基因
型是 和 。F1中雌雄個體隨機相交,后代中
能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)和不能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)之比應為 。
(2)右圖為大麻的性染色體示意圖,X、Y染色體的同源部分(圖中I片斷)上的基因互為等位,非同源部分(圖中Ⅱ1、Ⅱ2片斷)上的基因不互為等位。若大麻的抗病性狀受性染色體上的顯性基因D控制,大麻的雌、雄個體均有抗病和不抗病類型。請回答:
①控制大麻抗病性狀的基因不可能位于右圖中的 片段。
②請寫出具有抗病性狀的雄性大麻個體可能有的基因型 。
③現(xiàn)有雌性不抗病和雄性抗病兩個品種的大麻雜交,請根據(jù)以下子代可能出現(xiàn)的情
況,分別推斷出這對基因所在的片段:
如果子代全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為不抗病,雄性全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為抗病,雄性全為不抗病,則這對基因位于 片
段。
請回答下列Ⅰ、Ⅱ小題
Ⅰ、圖甲表示在光照充足、CO2濃度適宜的條件下,溫度對某植物真正光合作用速率和呼吸作用速率的影響。其中實線表示真正光合作用速率,虛線表示呼吸作用速率。圖乙為該植物在適宜條件下,光合作用速率隨光照強度變化的示意圖。請據(jù)圖回答:
(1)由圖甲可知,與 作用有關的酶對高溫更為敏感。溫度會影響光合作用的 階段。
(2)當環(huán)境溫度為40℃時,該植物的有機物凈積累量為 mg/h。理論上預計,在溫度為 條件下,植物生長狀況達到最佳,已知乙圖是在此溫度條件下繪制而成的曲線,理論上分析,如果溫度改變?yōu)?5℃,圖中b點將向 移。
(3)乙圖中用 的量表示植物的光合作用速率,圖中c點表示
(4)乙圖曲線中,當光照強度為0時,葉肉細胞中產(chǎn)生ATP的細胞器有 。
Ⅱ、大麻是一種雌雄異株的植物,請回答以下問題:
(1)在大麻體內,物質B的形成過程如右圖所示,基因Mm和Nn分別位于兩對常染色體上。
①據(jù)圖分析,能產(chǎn)生B物質的大麻基因型可能有 種。
②如果兩個不能產(chǎn)生B物質的大麻品種雜交,F(xiàn)1全都能產(chǎn)生B物質,則親本的基因
型是 和 。F1中雌雄個體隨機相交,后代中
能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)和不能產(chǎn)生B物質的個體數(shù)之比應為 。
(2)右圖為大麻的性染色體示意圖,X、Y染色體的同源部分(圖中I片斷)上的基因互為等位,非同源部分(圖中Ⅱ1、Ⅱ2片斷)上的基因不互為等位。若大麻的抗病性狀受性染色體上的顯性基因D控制,大麻的雌、雄個體均有抗病和不抗病類型。請回答:
①控制大麻抗病性狀的基因不可能位于右圖中的 片段。
②請寫出具有抗病性狀的雄性大麻個體可能有的基因型 。
③現(xiàn)有雌性不抗病和雄性抗病兩個品種的大麻雜交,請根據(jù)以下子代可能出現(xiàn)的情
況,分別推斷出這對基因所在的片段:
如果子代全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為不抗病,雄性全為抗病,則這對基因位于 片段。
如果子代雌性全為抗病,雄性全為不抗病,則這對基因位于 片
段。
某同學利用下圖裝置研究CO2含量以及光照強度對某種綠葉光合作用的綜合影響。實驗過程用同種、狀況相同的若干新鮮葉片在室溫25℃大氣壓為1.01×105Pa下進行,通過緩沖液調節(jié)密閉小室空間CO2濃度的相對恒定。對相應裝置精確測量的結果如下表。請分析回答:
組別 | 實驗條件 | 液滴移動mL/h | |
光強/L·x | CO2/% | ||
1 | 800 | 0.03 | 右移6.0 |
2 | 1000 | 0.03 | 右移9.0 |
3 | 1000 | 0.05 | 右移12.23 |
4 | 1500 | 0.05 | 右移12.23 |
5 | 1500 | 0.03 | 右移9.0 |
(1)第3組裝置中液滴右移的生理原因是 。若將密閉小室內溫度降為0℃,則小室內氣體體積縮小到原來的91.6%,該裝置在2h內,緩沖液釋放到密閉小室空間的CO2約為 mg。第3、4組的結果相同,限制4組裝置光合作用的非生物因素可以被排除的是 。
(2)裝置雖均置于25℃環(huán)境下,但有同學認為液滴移動的量不一定真正代表光合作用釋放O2的量,因為光照引起的溫度升高會導致密閉小室內氣體物理性膨脹。你認為他的說法有道理嗎?請針對此情況設計實驗并對實驗結果進行預測和分析。 。
(3)CO2濃度對植物光合作用強度影響的規(guī)律如下圖。當外界CO2濃度處于A時,植物葉片光合作用所固定的CO2量與 相等;為提高封閉大棚內作物產(chǎn)量,棚內人工釋放CO2應控制在 (填圖中字母)濃度為宜。
(22分)下圖甲曲線表示馬鈴薯在恒溫30℃時光
合速率與光照強度的關系,圖乙是某同學“探究影響植物光合速率的因素”的實驗裝置圖。試回答:
(1)圖甲曲線中,當光照強度為W點時,葉肉細胞中產(chǎn)生ATP的場所有 。
(2)已知該植物光合作用和呼吸作用的最適溫度分別為25℃和30℃,在其他條件不變的情況下,將溫度調節(jié)到25℃,圖甲曲線中X點將向 移動,Y點將向
移動。
(3)據(jù)研究發(fā)現(xiàn),當土壤干旱時,植物根細胞會迅
合成某種化學物質X。有人推測根部合成的X運輸?shù)饺~片,能調節(jié)氣孔的開閉。他們做了如下實驗:取大小和生理狀態(tài)一致的葉片若干,平均分為四組,第一組將葉片的葉柄下部浸在不含X的培養(yǎng)液中,另三組分別將葉柄下部浸在不同濃度X的培養(yǎng)液中,以分析葉片中X物質濃度與氣孔開放程度之間的關系。一段時間后,可以測得有關數(shù)據(jù),得到下表的結果。
(注:氣孔導度越大,氣孔開啟程度越大。)
分組 測量指標 | 培養(yǎng)液中X的濃度/mol·m-3 | ||
5×10-5 | 5×10-4 | 5×10-3 | |
葉片中X的濃度/mol·g-1(鮮重) | 2.47 | 2.97 | 9.28 |
葉片中的氣孔導度/mol·m-2·a-1 | 0.54 | 0.43 | 0.27 |
1 B
16.BC 17.A 18.BC 19.CD 20.A 21.ABC
22.(1) C (6分)
(2)①在右邊方框中畫出實驗電路圖(9分)
②mA表內阻RA= 80 。(78Ω~82Ω均算正確)(3分)
23.(14分)
解:(1)小球從ABC軌道下滑,設到達C點時速度大小為v,
則 ①
要小球能在豎直平面DEF內做圓周運動,在D點
②
聯(lián)立①②并代入數(shù)據(jù)得
(2)若h<H,小球過C點只能做平拋運動,
設小球經(jīng)C點時速度大小為,
小球能擊中E點,則有 ③
④
⑤
由③④⑤解得h=
24.(18分)
解:(1)物體P靜止時對斜面無壓力 ①
P獲得水平分速度后做勻速圓周運動 ②
③ ④
(2)在時間t內,Q物體在斜面上做勻加速直線運動
⑤
P做勻速圓周運動 ⑥
由幾何關系知R=S ⑦
由①④⑤⑥⑦可解得
25.(22分)
解:(1)設A與M板第一次碰撞 后速度為,依題意 ①
設與N板發(fā)生第一次碰前,A、B共同速度為v1,則A、B與M板碰后到A、B第一次達共同速度過程中 ②
③
由①②③解得 ④
(2)B與N板碰后,A、B獲得左向速度,B第二次與M碰后,B速度立即為零,A在B上做勻減速運動,設到達B板左端速度為
⑤
代入數(shù)據(jù)解得
故A第二次與M板碰后速度大小為
(3)A與檔板M第二次碰后向N運動達共同速度過程中
⑥
⑦
由⑥⑦解得
設A與檔板N第三次碰前速度為
⑧
A與檔板N第三次碰后達共同速度過程中
⑨
⑩
由⑧⑨⑩解得
依次類推
∴
故A和B最終停在檔板M處,A在長木板B上通過的總路程為
26.(1)3(2分) (2)0.004 mol/(L? s) (2分)
(3)N2(g)+3H2(g) 2NH3(g);△H=-92.0 kJ/mol (3分)
(4) ① 0 mol≤c<0.4 mol (3分) ②73.6 (3分)
27.(1)a=7時,HA為強酸,a>7時。HA為弱酸。
(2)否(2分),C(2分)
(3)弱(1分),C(Na+) >C(A-)> C(OH-)> C(H+)(2分)
(4)10-5(3分),10-5-10-9(3分)
28.(1) (2分)
|