Question

三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)流程示意圖如下：
（1）SiO₂與碳反應(yīng)生成碳的低價(jià)化合物，其方程式為

 

（2）上述生產(chǎn)流程中可循環(huán)使用的物質(zhì)是

 

和

 

（3）上述4步中，是氧化-還原反應(yīng)的是（填序號(hào)）

 

．

Answer 1

考點(diǎn)：物質(zhì)的相互轉(zhuǎn)化和制備,氧化反應(yīng),還原反應(yīng),書寫化學(xué)方程式、文字表達(dá)式、電離方程式

專題：物質(zhì)的制備

分析：（1）根據(jù)題意分析反應(yīng)，寫出反應(yīng)的化學(xué)方程式；
（2）根據(jù)反應(yīng)的生產(chǎn)流程示意圖，分析可循環(huán)使用的物質(zhì)；
（3）根據(jù)氧化-還原反應(yīng)的定義分析．

解答：解：（1）SiO₂與碳反應(yīng)生成碳的低價(jià)化合物，根據(jù)質(zhì)量守恒定律，碳的低價(jià)化合物應(yīng)是一氧化碳，反應(yīng)的化學(xué)方程式是：2C+SiO₂

高溫  .

Si+2CO↑．
（2）上述生產(chǎn)流程中由粗硅到三氯甲硅烷和由三氯甲硅烷到高純硅是兩個(gè)相反的過程，因此，這些過程中，H₂、HCl可以循環(huán)使用；
（3）在①②④的反應(yīng)中都有單質(zhì)參加反應(yīng)，一定有化合價(jià)的變化，都屬于氧化-還原反應(yīng)．
故答為：（1）2C+SiO₂

高溫  .

Si+2CO↑；（2）HCl，H₂； （3）①②④．

點(diǎn)評(píng)：以流程圖呈現(xiàn)實(shí)驗(yàn)過程的探究性考題，是近幾年中考探究題命題特點(diǎn)之一．讀懂實(shí)驗(yàn)流程圖，明確實(shí)驗(yàn)步驟和原理，是正確解答此類問題的前提