【題目】高純硅可用于制備硅半導體材料．制備高純硅的主要生產(chǎn)流程如圖所示．

信息：石英砂的主要成分是SiO2，反應①化學方程式

（1）石英砂屬于 （填“純凈物”或“混合物”）；SiCl4中硅元素的化合價為 ；寫出合理處理中間產(chǎn)物CO的一種方法 ．

（2）反應③反應除生成高純硅外，同時還生成一種化合物．請寫出此過程的化學方程式 ；

（3）反應③如果H2中混入O2，從安全角度考慮，可能引起的后果是 ．

（4）若雜質(zhì)不參加反應，利用反應①生產(chǎn)含硅質(zhì)量分數(shù)為9O%的粗硅2.8噸，計算至少需要焦炭多少噸？

【答案】（1）混合物；+4； 用氣球收集或用酒精燈點燃（2）2H2+SiCl4Si+4HCl；（3）爆炸；（4）2.16t

【解析】（1）石英砂的主要成分是SiO2，還有雜質(zhì)，屬于混合物；SiCl4中硅元素的化合價為+4價，合理處理中間產(chǎn)物CO的一種方法：用氣球收集或用酒精燈點燃；故答案為：混合物；+4；用氣球收集或用酒精燈點燃；（2）氫氣和四氯化硅在高溫的條件下生成硅和氯化氫，配平即可；（3）如果H2中混入O2，從安全角度考慮，可能引起的后果是爆炸；（4）設至少需要焦炭質(zhì)量為x，

2C+SiO2Si+2CO

24 28

x 2.8t×90%

x=2.16t

答：至少需要焦炭質(zhì)量為2.16t；

練習冊系列答案
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【題目】現(xiàn)有 H2SO4、 NaOH、 Na2CO3、 Ca(OH)2、 BaCl2五種溶液和 CO2 一種氣體（用 A、B、C、D、E、F 各代表這六種物質(zhì)中的一種），它們之間的相互反應關系如右圖所示，圖中每條連線表示兩端的物質(zhì)可以發(fā)生化學反應． 請分析后回答：

（1）C 的化學式是___________。

（2）B 和 D 反應的化學方程式_______________________。

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【題目】屬于同素異形體的是

A．CO和CO2 B．金剛石和C60 C．氧氣和液氧 D．H2O和H2O2

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（1）定性檢測廢水

檢測廢水呈酸性的方法是_____________。

（2）配制200 g質(zhì)量分數(shù)為5.6%的氫氧化鉀溶液

①計算

m (KOH)=_______g，V(H2O)=________mL（水的密度近似為1.0 g·mL-1）。

②稱取氫氧化鉀

調(diào)節(jié)托盤天平平衡后，將一只燒杯放在托盤天平的左盤，稱量其質(zhì)量。然后______（按操作先后順序，填字母），直至天平平衡。

A．向燒杯中加氫氧化鉀同體 B．按需要添加砝碼、移動游碼

③量取水；④溶解；⑤轉(zhuǎn)移。

（3）定量測定廢水

取酸性廢水樣品100 g，逐滴加入5.6%的氫氧化鉀溶液，廢水中硫酸的質(zhì)量分數(shù)變化如右下圖所示。（假設廢水中其他成分不與氫氧化鉀反應且不含硫酸鉀）

①P點對應溶液中一定存在的陽離子有_______（填離子符號）。

②酸性廢水中硫酸的質(zhì)量分數(shù)為______（用百分數(shù)表示，保留到0.1%）。

③計算當廢水處理至中性時，溶液中硫酸鉀的質(zhì)量分數(shù)（寫出計算過程，結果用百分數(shù)表示，保留到0.l%）。

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【題目】完成下列實驗．（1）現(xiàn)提供下列裝置：

①寫出上圖中B裝置甲儀器的名稱 ．

②實驗室用A裝置進行高錳酸鉀制氧氣的實驗，化學方程式為 ，用D裝置收集氧氣，氣體由導管

進入（填“a”或“b”）

③實驗室用鋅粒和稀鹽酸制氫氣，用C裝置代替B裝置的優(yōu)點是 ：若要檢驗氧氣中是否含有氯化氫氣體，可將氣體通過盛有 溶液的D裝置（填“AgNO3”或“飽和NaHCO3溶液”）

（2）對一定質(zhì)量的粗鹽（含泥沙）進行初步提純．

①實驗主要步驟：稱量與 、過濾、蒸發(fā)；實驗中多次使用玻璃棒．過濾時它的作用是 ；蒸發(fā)時，待蒸發(fā)皿中出現(xiàn) 時停止加熱．利用余熱將濾液蒸干．

②下列因素會導致獲得的精鹽質(zhì)量偏小的是 （填序號）

a．蒸發(fā)是液滴濺出 b．過濾時，濾紙破損

c．粗鹽中加入過量的水 d．過濾后，濾紙上的泥沙未同水沖洗．

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【題目】下列關于分子、原子、離子的說法正確的是

A．分子是保持物質(zhì)性質(zhì)的最小粒子 B．原子是最小的粒子

C．原子得到電子或失去電子變成離子 D．分子一定比原子大

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【題目】炒菜時油鍋中的油不慎著火，用鍋蓋蓋滅的原理是

A．降低油的著火點 B．讓油與空氣隔絕

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