【題目】半導體工業(yè)用石英砂做原料通過三個重要反應生產(chǎn)單質(zhì)硅： SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/mol
Si（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=﹣657.01kJ/mol
SiCl4（g）（純硅）+2Mg（s）═2MgCl2（s）+Si（s），△H=﹣625.63kJ/mol
生產(chǎn)1.00kg純硅的總反應熱為（　　）
A.2.43×104kJ
B.﹣2.35×104kJ
C.﹣2.23×104kJ
D.﹣2.14×104kJ

【答案】D
【解析】解：由三個熱化學方程式可知，生成1mol純硅，需要熱量：682.44kJ+（﹣657.01kJ）+（﹣625.63kJ）=﹣600.2kJ，

n（Si）= =35.71mol，

則生產(chǎn)1.00kg純硅的總反應熱為35.75mol×（﹣600.2kJ/mol）=﹣2.14×104kJ，

故選D．

練習冊系列答案
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實驗
裝置

部分實
驗現(xiàn)象

a極質(zhì)量減小
b極質(zhì)量增加

溶液中的SO42﹣﹣向b極移動

d極溶解c極
有氣體產(chǎn)生

電子從d極
流向a極

由此可判斷這四種金屬的活動性順序是（　　）
A.d＞a＞b＞c
B.a＞b＞c＞d
C.b＞c＞d＞a
D.a＞b＞d＞c

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（1）反應前混合氣體中N2和 H2的體積比為；
（2）達到平衡時混合氣體中的氨的體積分數(shù)為；
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【題目】高溫下，某反應達到平衡，平衡常數(shù)K= ．恒容時，溫度升高，H2濃度減�。铝姓f法正確的是（　�。�
A.升高溫度，逆反應速率減小
B.該反應的焓變?yōu)檎?/span>
C.恒溫恒容下，增大壓強，H2濃度一定減小
D.該反應的化學方程式為CO+H2O CO2+H2

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物質(zhì)

C2H5OH

CH3SiCl3

ClCH2SiCl3

ClCH2Si(OEt)3

相對分子質(zhì)量

46

149.5

184

212.5

熔點/℃

－114.1

－77.8

—

—

沸點/℃

78.3

66.4

116.5

174

密度/g·mL

0.79

1.30

1.47

1.02

已知：甲基三氯硅烷為無色液體，具有刺鼻惡臭，易潮解；氯甲基三乙氧基硅烷易水解，能與堿金屬氫氧化物生成堿金屬硅醇鹽。

(1)連接好裝置后，檢驗裝置氣密性的操作是：_________________________________；

(2)A裝置中發(fā)生反應的離子方程式是：_______________________________________；

裝置C的作用是：_____________________ ；E中所裝液體是：______________；

(3)裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為：① CH3SiCl3 + Cl2 → ClCH2SiCl3 + HCl

②__________________________________________________________________ ；

球形冷凝管的作用是：________________________；

(4)有同學發(fā)現(xiàn)該裝置有一處不足可能會導致實驗失敗，應該__________________________________________________；

(5) 該方法制備氯甲基三乙氧基硅烷的產(chǎn)率是：_______________(保留兩位有效數(shù)字)。

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