當(dāng)溫度高于40℃時,銅的平均溶解速率隨著反應(yīng)溫度升高而下降,其主要原因是                  。

⑷在提純后的CuSO4溶液中加入一定量的Na2SO3和NaCl溶液,加熱,生成CuCl沉淀。制備CuCl的離子方程式是                                             。

28. (9分)下列一句話中敘述了兩個值,前者記為M,后者記為N,M和N的關(guān)系從A、B、C、D中選擇

A. M>N                   B.M<N                C.M=N         D. 無法比較

⑴相同溫度下,1L 1mol/L 的NH4Cl溶液中的NH4個數(shù)和2 L 0.5mol·L-1NH4Cl溶液中NH4的個數(shù):     ;

⑵相同溫度下,pH值為12的燒堿溶液中水的電離度和pH值為12的CH3COONa溶液中水的電離度:     ;

⑶兩份室溫時的飽和石灰水,一份升溫到50℃;另一份加入少量CaO,恢復(fù)至室溫,兩溶液中的c(Ca2+):   

⑷常溫下兩份等濃度的純堿溶液,將第二份升高溫度,兩溶液中c(HCO3):      

⑸將pH值為2的醋酸和鹽酸都稀釋相同倍數(shù)所得稀溶液的pH值:        ;

⑹常溫下0.1mol/L的CH3COOH與0.1mol/LCH3COONa等體積混合后溶液中c(Na+)和c(CH3COO):     

⑺同溫度下,0.1mol/LFeCl3溶液中Fe3+水解百分率與0.01mol·L-1FeCl3溶液中Fe3+ 的水解百分率:       

⑻室溫下某強(qiáng)酸和某強(qiáng)堿溶液等體積混合后,溶液的pH值為7,原酸溶液和原堿溶液的物質(zhì)的量濃度:  ;

⑼PH值相同的醋酸和鹽酸,分別用蒸餾水稀釋至原來的M倍和N倍,稀釋后兩溶液的PH值仍然相同, 則M和N的關(guān)系是:       

 

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

Ⅰ.下列敘述正確的是

A.“接觸法”制H2SO4時,催化氧化階段的反應(yīng)原理為2SO2(g)+O2(g)
催化劑
2SO3(g)△H<0
B.海水提鎂的主要步驟為:

C.普通水泥的主要成分是硅酸鈣
D.黏土的主要成分是三氧化二鋁
Ⅱ.工業(yè)上可用食鹽和石灰石為主要原料,經(jīng)不同的方法生產(chǎn)純堿.請回答下列問題:
(1)路布蘭法是以食鹽、石灰石、濃硫酸、焦炭為原料,在高溫下進(jìn)行煅燒,再浸取、結(jié)晶而制得純堿.
①食鹽和濃硫酸反應(yīng)的化學(xué)方程式為
2NaCl+H2SO4(濃)
  △  
.
 
Na2SO4+2HCl↑
2NaCl+H2SO4(濃)
  △  
.
 
Na2SO4+2HCl↑
;
②硫酸鈉和焦炭、石灰石反應(yīng)的化學(xué)方程式為
Na2SO4+2C+CaCO3
 高溫 
.
 
CaS+Na2CO3+CO2
Na2SO4+2C+CaCO3
 高溫 
.
 
CaS+Na2CO3+CO2
(已知產(chǎn)物之一為CaS);
(2)氨堿法的工藝如圖1所示,得到的碳酸氫鈉經(jīng)煅燒生成純堿.
①圖中的中間產(chǎn)物C是
Ca(OH)2
Ca(OH)2
,D是
NH3
NH3
(寫化學(xué)式);
②裝置乙中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為
CO2+H2O+NH3=NaHCO3↓+NH4Cl
CO2+H2O+NH3=NaHCO3↓+NH4Cl

(3)聯(lián)合制堿法是對氨堿法的改進(jìn),其優(yōu)點(diǎn)是
能提高原料的利用率,減少廢渣(CaCl2)的排放,保留了氨堿法的優(yōu)點(diǎn),消除了它的缺點(diǎn),使食鹽的利用率提高;
NH4Cl 可做氮肥;
可與合成氨廠聯(lián)合,使合成氨的原料氣 CO 轉(zhuǎn)化成 CO2,革除了 CaCO3 制 CO2 這一工序
能提高原料的利用率,減少廢渣(CaCl2)的排放,保留了氨堿法的優(yōu)點(diǎn),消除了它的缺點(diǎn),使食鹽的利用率提高;
NH4Cl 可做氮肥;
可與合成氨廠聯(lián)合,使合成氨的原料氣 CO 轉(zhuǎn)化成 CO2,革除了 CaCO3 制 CO2 這一工序
;
(4)有人認(rèn)為碳酸氫鉀與碳酸氫鈉的化學(xué)性質(zhì)相似,故也可用氨堿法以氯化鉀和石灰石等為原料制碳酸鉀.請結(jié)合圖1的溶解度(S)隨溫度變化曲線,分析說明是否可行?
不可行.因?yàn)镵HCO3和NH4Cl的溶解度相差不大,當(dāng)溫度高于40℃時,KHCO3的溶解度大于NH4Cl,降溫結(jié)晶時會析出較多的KCl
不可行.因?yàn)镵HCO3和NH4Cl的溶解度相差不大,當(dāng)溫度高于40℃時,KHCO3的溶解度大于NH4Cl,降溫結(jié)晶時會析出較多的KCl

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

(2009?江蘇)廢舊印刷電路板的回收利用可實(shí)現(xiàn)資源再生,并減少污染.廢舊印刷電路板經(jīng)粉碎分離,能得到非金屬粉末和金屬粉末.
(1)下列處理印刷電路板非金屬粉末的方法中,不符合環(huán)境保護(hù)理念的是
BD
BD
(填字母).
A.熱裂解形成燃油                       B.露天焚燒
C.作為有機(jī)復(fù)合建筑材料的原料           D.直接填埋
(2)用H2O2和H2SO4的混合溶液可溶出印刷電路板金屬粉末中的銅.已知:Cu(s)+2H+(aq)═Cu2+(aq)+H2(g)H=64.39KJ?mol-12H2O2(l)═2H2O(l)+O2(g)H=-196.46KJ?mol-1H2(g)+
1
2
O2(g)
═H2O(l)H=-285.84KJ?mol-1
在H2SO4溶液中Cu與H2O2反應(yīng)生成Cu2+和H2O的熱化學(xué)方程式為
Cu(s)+H2O2(l)+2H+(aq)=Cu2+(aq)+2H2O(l)△H=-319.68KJ.mol-1
Cu(s)+H2O2(l)+2H+(aq)=Cu2+(aq)+2H2O(l)△H=-319.68KJ.mol-1

(3)控制其他條件相同,印刷電路板的金屬粉末用10%H2O2和3.0mol?L-1H2SO4的混合溶液處理,測得不同溫度下銅的平均溶解速率(見下表).
溫度(℃) 20 30 40 50 60 70 80
銅平均溶解速率
(×10-3mol?L-1?min-1
7.34 8.01 9.25 7.98 7.24 6.73 5.76
當(dāng)溫度高于40℃時,銅的平均溶解速率隨著反應(yīng)溫度升高而下降,其主要原因是
H2O2分解速率加快
H2O2分解速率加快

(4)在提純后的CuSO4溶液中加入一定量的Na2SO3和NaCl溶液,加熱,生成CuCl沉淀.制備CuCl的離子方程式是
2Cu2++SO32-+2Cl-+H2O═2CuCl↓+SO42-+2H+
2Cu2++SO32-+2Cl-+H2O═2CuCl↓+SO42-+2H+

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

廢舊印刷電路板的回收利用可實(shí)現(xiàn)資源再生,并減少污染.廢舊印刷電路板經(jīng)粉碎分離,能得到非金屬粉末和金屬粉末.
(1)寫出工業(yè)上制備印刷電路板原理的離子方程式:
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+

(2)下列處理印刷電路板非金屬粉末的方法中,不符合環(huán)境保護(hù)理念的是
BD
BD
(填字母).
A.熱裂解形成燃油                    B.露天焚燒
C.作為有機(jī)復(fù)合建筑材料的原料        D.直接填埋
(3)用H2O2和H2SO4的混合溶液可溶出印刷電路板金屬粉末中的銅.
寫出在H2SO4溶液中Cu與H2O2 反應(yīng)生成Cu2+ 和H2O的離子方程式
Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O
Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O

(4)控制其他條件相同,印刷電路板的金屬粉末用10% H2O2和3.0mol?L-1 H2SO4的混合溶液處理,測得不同溫度下銅的平均溶解速率(見下表).
溫度(℃) 20 30 40 50 60 70 80
銅平均溶解速率     (×10-3 mol?L-1?min-1 7.34 8.01 9.25 7.98 7.24 6.73 5.76
當(dāng)溫度高于40℃時,銅的平均溶解速率隨著反應(yīng)溫度升高而下降,其主要原因是
H2O2分解速率加快
H2O2分解速率加快

(5)在提純后的CuSO4溶液中加入一定量的Na2SO3和NaCl溶液,加熱,生成CuCl沉淀.制備CuCl的離子方程式是
2Cu2++SO32-+2Cl-+H2O
  △  
.
 
2CuCl↓+SO42-+2H+
2Cu2++SO32-+2Cl-+H2O
  △  
.
 
2CuCl↓+SO42-+2H+

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:閱讀理解

(2010?潮州二模)過氧化氫是重要的氧化劑、還原劑,其水溶液又稱雙氧水,常用作消毒、殺菌、漂白等.某化學(xué)興趣小組取一定量的過氧化氫溶液,準(zhǔn)確測定過氧化氫的含量,并探究過氧化氫的性質(zhì)、用途.
Ⅰ.測定過氧化氫的含量
(1)移取10.00mL密度為ρ g/mL的過氧化氫溶液至250mL 容量瓶中,加水稀釋至刻度,搖勻.移取稀釋后的過氧化氫溶液25.00mL至錐形瓶中,加入稀硫酸酸化,用蒸餾水稀釋,作被測試樣.
(2)用高錳酸鉀標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定被測試樣,其反應(yīng)的離子方程式如下:2MnO4-+5H2O2+6H+=2Mn2++8H2O+5O2↑,重復(fù)滴定三次,平均耗用c mol/L KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液V mL,則原過氧化氫溶液中過氧化氫的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
17Cv
200ρ
17Cv
200ρ

(3)若滴定前滴定管尖嘴中有氣泡,滴定后氣泡消失,則測定結(jié)果
偏高
偏高
(填“偏高”或“偏低”或“不變”).
Ⅱ.探究過氧化氫的性質(zhì)
(4)該化學(xué)興趣小組根據(jù)所提供的實(shí)驗(yàn)條件設(shè)計了兩個實(shí)驗(yàn),分別驗(yàn)證過氧化氫的氧化性和不穩(wěn)定性.(實(shí)驗(yàn)試劑只有:過氧化氫溶液、稀硫酸、碘化鉀淀粉溶液、飽和硫化氫溶液,實(shí)驗(yàn)儀器及用品可自選.)請?zhí)顚懰麄兊膶?shí)驗(yàn)方法和實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的表中空白:
實(shí)驗(yàn)內(nèi)容 實(shí)驗(yàn)方法 實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象
驗(yàn)證氧化性 取適量碘化鉀淀粉溶液、稀硫酸于試管中,滴入過氧化氫溶液.(或:取適量飽和硫化氫溶液于試管中,滴入過氧化氫溶液.)
溶液變藍(lán)色
溶液變藍(lán)色

(或:
產(chǎn)生淡黃色沉淀或溶液變渾濁
產(chǎn)生淡黃色沉淀或溶液變渾濁
 )
驗(yàn)證熱不穩(wěn)定性 取適量過氧化氫溶液于試管中,
稍微加熱
稍微加熱

用帶火星的木條檢驗(yàn)
用帶火星的木條檢驗(yàn)
產(chǎn)生氣泡,帶火星的木條復(fù)燃.
Ⅲ.用H2O2和H2SO4的混合溶液可溶出印刷電路板金屬粉末中的銅
(5)印刷電路板金屬粉末中的Cu在H2SO4與H2O2溶液中反應(yīng)生成Cu2+和H2O的離子方程式為
Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O
Cu+H2O2+2H+=Cu2++2H2O

(6)控制其他條件相同,印刷電路板的Cu用10%H2O2和3.0mol/L H2SO4的混合溶液處理,測得不同溫度下銅的平均溶解速率如下表:
溫度(℃) 20 30 40 50 60 70 80
     銅平均溶解速率
(×10-3mol?L-1?min-1
7.34 8.01 9.25 7.98 7.24 6.73 5.76
當(dāng)溫度高于40℃時,銅的平均溶解速率隨著反應(yīng)溫度升高而下降,其主要原因是
溫度升高,H2O2分解速率加快
溫度升高,H2O2分解速率加快

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

X、Y、Z三種短周期元素,其單質(zhì)在常溫下均為無色氣體,它們的原子序數(shù)之和為16.在適當(dāng)條件下三種單質(zhì)兩兩化合,可發(fā)生如圖1所示變化.己知1個B分子中含有Z元素的原子個數(shù)比C分子中含有Z元素的原子個數(shù)少1個.
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請回答下列問題:
(1)由 X、Y、Z三種元素共同組成的三種不同種類化合物的化學(xué)式為
 
,相同濃度上述水溶液中由水電離出的c(H+)由大到小的順序是
 
(填寫化學(xué)式).
(2)Allis-Chalmers制造公司發(fā)現(xiàn)可以用C作為燃料電池的燃料,以氫氧化鉀溶液為介質(zhì),發(fā)生如下反應(yīng):4NH3+3O2=2N2+6H2O,試寫出該電池負(fù)極的電極反應(yīng)式
 
,溶液中OH-
 
極移動(填“正“或“負(fù)“).
(3)Z分別與X、Y兩元素可以構(gòu)成18個電子分子甲和乙,其分子中只存在共價單鍵,常溫下甲、乙均為無色液體,甲隨著溫度升高分解速率加快.
①乙能夠?qū)uO還原為Cu2O,已知每1mol乙參加反應(yīng)有4mol電子轉(zhuǎn)移,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為
 

②將銅粉末用10%甲和3.0mol?L-1H2SO4混合溶液處埋,測得不同溫度下銅的平均溶解速率如下表:
溫度(℃) 20 30 40 50 60 70 80
銅的平均溶解速率
(×10-3mol-L-1?min-1
7.34 8.01 9.25 7.98 7.24 6.73 5.76
由表中數(shù)據(jù)可知,當(dāng)溫度高于40℃時,銅的平均溶解速率隨著溫度的升高而下降,其主要原因是
 

③實(shí)驗(yàn)室可用甲作試劑取X的單質(zhì),發(fā)生裝置可選用如圖2所示的
 
(填裝置代號).

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