Question

（1）工業(yè)清洗硅片上SiO₂（s）的反應是：SiO₂（s）+4HF（g）═SiF₄（g）+2H₂O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ?mol^-1，△S（298.15K）=-75.8J?mol^-1?K^-1，△H和△S不隨溫度而變化，試求此反應自發(fā)進行的溫度范圍是

 

；
（2）對反應2NO₂（g）═N₂O₄（g）△H＜0，在溫度T₁、T₂時，平衡體系N₂O₄的體積分數(shù)隨壓強的變化曲線如圖所示，則T₁

 

T₂（填“＞”或“＜”）；增大壓強，平衡向

 

反應方向移動；B、C兩點的平衡常數(shù)B

 

C（填“＞”或“＜”）．

Answer 1

考點：體積百分含量隨溫度、壓強變化曲線

專題：

分析：（1）如果△G=△H-T△S＜0，則該反應能自發(fā)進行，據(jù)此計算溫度；
（2）相同壓強時，溫度越高，平衡向逆反應方向移動，則四氧化二氮的物質的量減小，據(jù)此判斷溫度高低；
相同溫度時，增大壓強平衡向正反應方向移動，四氧化二氮的體積分數(shù)減��；
溫度越高，平衡向逆反應方向移動，則化學平衡常數(shù)越�。�

解答： 解：（1）如果△G=△H-T△S＜0，則該反應能自發(fā)進行，所以T＜

△H

△S

=

-94.0

75.8×10-3

K=1240K，
故答案為：＜1240K；
（2）相同壓強時，溫度越高，平衡向逆反應方向移動，則四氧化二氮的物質的量減小，所以T₁＜T₂；
相同溫度時，增大壓強平衡向正反應方向移動，四氧化二氮的體積分數(shù)減��；
溫度越高，平衡向逆反應方向移動，則生成物濃度越小、反應物濃度越大，所以化學平衡常數(shù)減小，T₁＜T₂，所以B的平衡常數(shù)大于C點，
故答案為：＜；正；＞．

點評：本題考查了溫度、壓強對化學平衡的影響，采用“定一議二”的方法判斷溫度大小，再結合平衡移動方向確定化學平衡常數(shù)，注意：化學平衡常數(shù)只與溫度有關，與物質濃度無關，為易錯點．