氧化亞鐵被空氣里的氧氣氧化成氫氧化鐵反應(yīng)的雙線橋方程式為
 
．
考點(diǎn)：氧化還原反應(yīng)
專題：氧化還原反應(yīng)專題
分析：新制氫氧化亞鐵在空氣被氧化，氫氧化亞鐵被氧化成氫氧化鐵，反應(yīng)的化學(xué)方程式是為4Fe（OH）2+2H2O+O2═4Fe（OH）3，F(xiàn)e失去電子，氧氣得到電子，以此來(lái)解答．
解答： 解：新制氫氧化亞鐵在空氣被氧化，氫氧化亞鐵被氧化成氫氧化鐵，反應(yīng)的化學(xué)方程式是為4Fe（OH）2+2H2O+O2═4Fe（OH）3，F(xiàn)e失去電子，氧氣得到電子，該反應(yīng)轉(zhuǎn)移4e-，則，故答案為：．
點(diǎn)評(píng)：本題考查氧化還原反應(yīng)，為高頻考點(diǎn)，明確反應(yīng)中元素的化合價(jià)變化即可解答，注意電子轉(zhuǎn)移與數(shù)目的表示方法，題目難度不大．
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

根據(jù)反應(yīng)框圖填空，已知反應(yīng)①～⑤均為工業(yè)生產(chǎn)及應(yīng)用中常見反應(yīng)，其中B、G、I、J、L均為常見單質(zhì)，B、J、L為氣體．A是工業(yè)生產(chǎn)中重要的礦石原料的主要成份，其相對(duì)分子質(zhì)量為120．

（1）寫出A、B的化學(xué)式：A
 
  B
 

（2）寫出下列化學(xué)反應(yīng)方程式：
反應(yīng)②的化學(xué)方程式
 

反應(yīng)③的化學(xué)方程式
 

反應(yīng)⑤的離子方程式
 

（3）寫出反應(yīng)①在工業(yè)生產(chǎn)所使用設(shè)備的名稱
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

CH3CHO與Br2反應(yīng)的化學(xué)方程式
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

元代青花瓷的制作原料采用瓷土加高嶺土[主要成分Al2Si2O5（OH）x]的“二元配方”，青花瓷釉料的成分主要是鉀長(zhǎng)石（KAlSi3O8），在1300℃左右高溫一次燒成的釉可形成精美的青花瓷

（1）下列說(shuō)法正確的是
 

A．高嶺土化學(xué)式中x=2
B．鉀長(zhǎng)石能完全溶于鹽酸
C．燒制青花瓷的過(guò)程中發(fā)生了復(fù)雜的物理變化，但沒(méi)有化學(xué)變化
D．青花瓷、玻璃、水泥都屬于硅酸鹽產(chǎn)品
（2）工業(yè)上可利用海邊石英砂生產(chǎn)粗硅，其主要原理：SiO2+2C
 高溫 
.
 
Si（粗）+2CO↑．
工業(yè)上可通過(guò)如圖所示流程由粗硅進(jìn)一步制純硅：
①反應(yīng)a的化學(xué)方程式為Si（粗）+3HCl（g）
 553～573K 
.
 
SiHCl3（l）+H2（g），反應(yīng)b的化學(xué)方程式為
 

②以上工藝中可循環(huán)使用的物質(zhì)是
 
．
③若上述兩步反應(yīng)中硅元素的利用率均為80%，制粗硅時(shí)有10%的SiO2轉(zhuǎn)化為SiC，則生產(chǎn)25.2噸純硅需純度為75%石英砂
 
噸．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

若c（H+）相同，則鹽酸與硫酸物質(zhì)的量濃度大小關(guān)系為
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

工業(yè)廢氣中的氮氧化物是主要的大氣污染物之一．為了治理污染，工業(yè)上常用氨氣與之發(fā)生反應(yīng)：NOx+NH3→N2+H2O，使其轉(zhuǎn)化為無(wú)毒的N2．現(xiàn)有NO2和NO的混合氣體3.0L，跟3.5L（同溫同壓下）NH3反應(yīng)，恰好使其全部轉(zhuǎn)化為氮?dú)�，則原混合氣體中，NO2與NO的體積比是
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

工業(yè)上可以用金屬鎂和NaClO溶液制成“鎂一次氯酸鈉”燃料電池，其裝置示意圖如圖所示，該電池反應(yīng)的離子方程式為
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

除去下列物質(zhì)中的雜質(zhì)（括號(hào)中為雜質(zhì)）方法，請(qǐng)將相應(yīng)的化學(xué)方程式填在橫線上
（1）NaHCO3溶液（Na2CO3）
 
；
（2）Na2CO3固體（NaHCO3）
 
；
（3）NaCl溶液（NaHCO3）
 
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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

下列離子方程式正確的是 （　　）
A、氯化銨與氫氧化鈉兩種溶液混合加熱：NH4++OH-═NH3↑+H2O
B、用FeCl3溶液腐蝕印刷電路板：Fe3++Cu=Fe2++Cu2+
C、氫氧化鈉溶液中通入少量二氧化硫氣體：SO2+OH-=HSO3-
D、氯化鋁溶液中加入過(guò)量 氨水：Al3++3NH3?H2O=Al（OH）3↓+3NH4+

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