中科院用CO2合成了可降解塑料聚二氧化碳。下列相關(guān)說法合理的是(  )。
A.聚二氧化碳塑料是通過聚合反應(yīng)制得的
B.聚二氧化碳塑料與干冰互為同素異形體
C.聚二氧化碳塑料與干冰都屬于純凈物
D.聚二氧化碳塑料的使用會(huì)產(chǎn)生白色污染
A
同素異形體是指同種元素形成的不同單質(zhì),B錯(cuò);聚二氧化碳屬于高分子化合物,為混合物,C錯(cuò);聚二氧化碳塑料為可降解塑料,不會(huì)造成白色污染,D錯(cuò)。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

在化學(xué)課上,圍繞不活潑金屬能否與硝酸反應(yīng),進(jìn)行了如下實(shí)驗(yàn)探究:在兩支試管中各放入一小塊銅片,分別加入稀硝酸和濃硝酸,立即塞上帶導(dǎo)管的膠塞,并將導(dǎo)管通入另一只盛有NaOH溶液的試管中.
請(qǐng)回答:
(1)實(shí)驗(yàn)中觀察到,其中一支試管中反應(yīng)較緩慢,產(chǎn)生的一種氣體是______(填化學(xué)式).
(2)另一支試管中反應(yīng)劇烈,產(chǎn)生的一種紅棕色氣體是______(填化學(xué)式),寫出產(chǎn)生該氣體的化學(xué)方程式:______.
(3)根據(jù)上述實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象,表明硝酸具有______(填序號(hào)).
①酸性②不穩(wěn)定性③強(qiáng)氧化性.

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

(15分)(2012?重慶)金剛石、SiC具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕特性,應(yīng)用廣泛.
(1)碳與短周期元素Q的單質(zhì)化合僅能生成兩種常見氣態(tài)化合物,其中一種化合物R為非極性分子.碳元素在周期表中的位置是             ,Q是             ,R的電子式為             
(2)一定條件下,Na還原CCl4可制備金剛石,反應(yīng)結(jié)束冷卻至室溫后,回收其中的CCl4的實(shí)驗(yàn)操作名稱為             ,除去粗產(chǎn)品中少量鈉的試劑為             
(3)碳還原SiO2制SiC,其粗產(chǎn)品中雜質(zhì)為Si和SiO2.現(xiàn)將20.0g SiC粗產(chǎn)品加入到過量的NaOH溶液中充分反應(yīng),收集到0.1mol氫氣,過濾得SiC固體11.4g,濾液稀釋到1L.生成氫氣的離子方程式為             ,硅酸鹽的物質(zhì)的量濃度為             
(4)下列敘述正確的有             (填序號(hào)).
①Na還原CCl4的反應(yīng)、Cl2與H2O的反應(yīng)均是置換反應(yīng)
②水晶、干冰熔化時(shí)克服粒子間作用力的類型相同
③Na2SiO3溶液與SO3的反應(yīng)可用于推斷Si與S的非金屬性強(qiáng)弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒,生成的氧化物中陰陽離子數(shù)目比均為1:2.

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:實(shí)驗(yàn)題

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅,同時(shí)得到一種可燃性氣體;
②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3(Si+3HClSiHCl3+H2);
③SiHCl3與過量的H2在1 100~1 200 ℃的溫度下反應(yīng)制得純硅,已知SiHCl3能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請(qǐng)回答:
(1)第一步制取粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為                        。
(2)粗硅與HCl氣體反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6 ℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7 ℃),提純SiHCl3采用的方法為                      
(3)實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3與過量的H2反應(yīng)制取純硅裝置如圖所示(加熱和夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是      ,裝置C中的燒杯需要加熱,目的是                    。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是                               ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是                              ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是                               。
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及                               。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

硅是構(gòu)成無機(jī)非金屬材料的一種主要元素,下列有關(guān)硅的化合物的敘述錯(cuò)誤的是(  )。
A.氮化硅陶瓷是一種新型無機(jī)非金屬材料,其化學(xué)式為Si3N4
B.碳化硅(SiC)的硬度大,熔點(diǎn)高,可用于制作高溫結(jié)構(gòu)陶瓷和軸承
C.光導(dǎo)纖維是一種新型無機(jī)非金屬材料,其主要成分為SiO2
D.二氧化硅為立體網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),其晶體中硅原子和硅氧單鍵的個(gè)數(shù)之比為1∶2

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

氮化硅可用作高溫陶瓷復(fù)合材料,在航空航天、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)、機(jī)械等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。由石英砂合成氮化硅粉末的路線如下圖所示:

其中-NH2中各元素的化合價(jià)與NH3相同。請(qǐng)回答下列問題:
(1)石英砂不能與堿性物質(zhì)共同存放,以NaOH為例,用化學(xué)反應(yīng)方程式表示其原因:                                                             
(2)圖示①~⑤的變化中,屬于氧化還原反應(yīng)的是                         。(3)SiCl4在潮濕的空氣中劇烈水解,產(chǎn)生白霧,軍事工業(yè)中用于制造煙霧劑。SiCl4水解的化學(xué)反應(yīng)方程式為                                              
(4)在反應(yīng)⑤中,3 mol Si(NH2)4,在高溫下加熱可得1 mol氮化硅粉末和8 mol A氣體,則氮化硅的化學(xué)式為                                            。
(5)在高溫下將SiCl4在B和C兩種氣體的氣氛中,也能反應(yīng)生成氮化硅,B和C兩種氣體在一定條件下化合生成A。寫出SiCl4與B和C兩種氣體反應(yīng)的化學(xué)方程式                     。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列說法中,正確的是(  )
A.酸性氧化物都不與酸溶液反應(yīng)
B.陶瓷、水泥及所有的玻璃都是硅酸鹽產(chǎn)品
C.某些非金屬單質(zhì)既能與酸反應(yīng)也能與堿反應(yīng)
D.硅酸鹽都是難溶于水的

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

獲取知識(shí)和信息是現(xiàn)代人不可缺少的素質(zhì),信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展離不開材料科學(xué)的推動(dòng)。信息產(chǎn)業(yè)的核心材料是高純度的硅,單晶硅可用來制作大規(guī)模集成電路、整流器等,硅純度越高,大規(guī)模集成電路的性能就越好。高純度的單晶硅生產(chǎn)方法有:
方法一:三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:

方法二:用金屬硅化物(Mg2Si)與鹽酸作用制得硅烷,再熱分解硅烷可得高純硅。
根據(jù)上述信息回答以下問題:
(1)從方法一生產(chǎn)單晶硅的過程看,由焦炭還原得到的硅為何還要進(jìn)一步處理?_________________________________________________________。
(2)寫出方法二中生產(chǎn)高純硅的兩個(gè)化學(xué)方程式:
①____________________________________________________________;
②__________________________________________________________。
(3)寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學(xué)方程式:____________________________________。
(4)在方法一中,整個(gè)制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應(yīng)生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式:________________;H2還原SiHCl3過程中若混入O2,可能引起的后果是_____________________________________________________。
(5)比較方法一和方法二,分析一下各自的優(yōu)缺點(diǎn)____________________________________。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列關(guān)于SiO2和CO2的敘述中正確的是(  )。
A.兩者都是酸性氧化物,故都不與酸反應(yīng)
B.兩者都可以與NaOH溶液反應(yīng)
C.CO2的熔、沸點(diǎn)比SiO2
D.兩者都能與水反應(yīng)生成對(duì)應(yīng)的酸

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