現(xiàn)有四種元素的基態(tài)原子的電子排布式如下:
則下列有關(guān)比較中正確的是( )
A.第一電離能:④>③>②>① B.原子半徑:④>③>②>①
C.電負(fù)性:④>③>②>① D.最高正化合價(jià):④>③=②>①
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
判斷集氣瓶中是否裝滿氨氣,下列操作中正確的是
A. 在瓶口聞一下是否有刺激性氣味 B. 將濕潤的紅色石蕊試紙放在瓶口
C. 將蘸有濃硫酸的玻璃棒放在瓶口 D. 將蘸有濃鹽酸的玻璃棒伸入集氣瓶內(nèi)
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
對金屬制品進(jìn)行抗腐蝕處理,可延長其使用壽命。
(1)以下為鋁材表面處理的一種方法:
①堿洗的目的是除去鋁材表面的自然氧化膜,堿洗時(shí)常有氣泡冒出,原因是_________________________________
(用離子方程式表示)。為將堿洗槽液中的鋁以沉淀形式回收,最好向槽液中加入下列試劑中的________。
a.NH3 b.CO2 c.NaOH d.HNO3
②以鋁材為陽極,在H2SO4溶液中電解,鋁材表面形成氧化膜,陽極電極反應(yīng)式為_______________________________________________________。
取少量廢電解液,加入NaHCO3溶液后產(chǎn)生氣泡和白色沉淀,產(chǎn)生沉淀的原因是_________________________________________________________。
(2)鍍銅可防止鐵制品腐蝕,電鍍時(shí)用銅而不用石墨作陽極的原因是_________________________________________________________________。
(3)利用右圖裝置,可以模擬鐵的電化學(xué)防護(hù)。
若X為碳棒,為減緩鐵的腐蝕,開關(guān)K應(yīng)置于________處。若X為鋅,開關(guān)K置于M處,該電化學(xué)防護(hù)法稱為______________________________ _____________________________________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
若不斷地升高溫度可實(shí)現(xiàn)“雪花水水蒸氣氧氣和氫氣”的變化。在變化的各階段被破壞的粒子間主要的相互作用依次是( )
A.氫鍵;分子間作用力;非極性鍵 B.氫鍵;氫鍵;極性鍵
C.氫鍵;極性鍵;分子間作用力 D.分子間作用力;氫鍵;非極性鍵
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
氯化鉻酰(CrO2Cl2)在有機(jī)合成中可作氧化劑或氯化劑,能與許多有機(jī)物反應(yīng)。請回答下列問題:
1.寫出鉻原子的基態(tài)的核外電子排布式___________________
2.在①苯、②CH3OH、③HCHO、④CS2、⑤CCl4五種有機(jī)溶劑中,碳原子采取sp2雜化的分子有 (填序號),CS2分子的空間構(gòu)型是_______ ___。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
把3體積NO2氣體依次通過①飽和NaHCO3溶液;②濃硫酸;③Na2O2后(假設(shè)每一步的反應(yīng)都是充分的),再用排水法收集殘留氣體,則收集到的氣體是 ( )。
A.1體積NO B.1體積NO2和體積O2
C.體積O2 D.體積NO
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
工業(yè)上合成氨的反應(yīng)原理如下:N2(g)+3H2(g) 2NH3(g) +Q(Q>0)。
在一密閉容器中進(jìn)行合成氨反應(yīng),一段時(shí)間后達(dá)到平衡。回答下列問題:
(1)要使H2得到充分利用,可采用的措施是____________;
a.加入氫氣 b.升溫 c.加壓 d.加催化劑
(2)450℃時(shí),往2L密閉容器中充入1 mol N2和2.6 mol H2,反應(yīng)過程中NH3的物質(zhì)的量濃度隨時(shí)間的變化情況如下表所示:
反應(yīng)開始的5 min內(nèi),用消耗氫氣表示反應(yīng)的平均反應(yīng)速率為 ;
(3)升高溫度,v(正)______(填增大、減小或不變),v(逆) ______(填增大、減小或不變),反應(yīng)混合物中氨氣的體積分?jǐn)?shù)________(填增大、減小或不變);
(4)下列敘述中,能說明該合成氨反應(yīng)已達(dá)到平衡的是 (填字母代號)。
A.容器內(nèi)的氣體密度保持不變
B.容器內(nèi)的氣體壓強(qiáng)保持不變
C.容器內(nèi)N2、H2、NH3物質(zhì)的量濃度之比為1:3:2
D.單位時(shí)間內(nèi)消耗a mol N2,同時(shí)生成3a mol H2
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