(2013?朝陽區(qū)二模)硅是信息產(chǎn)業(yè)、太陽能電池光電轉(zhuǎn)化的基礎(chǔ)材料.鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過程示意如下:

(1)焦炭在過程Ⅰ中作
還原
還原
劑.
(2)過程Ⅱ中的Cl2用電解飽和食鹽水制備,制備Cl2的化學(xué)方程式是
2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2
2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2

(3)整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水.
①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl
SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl

②干燥Cl2時,從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,然后再通入到濃H2SO4中.冷卻的作用是
使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量
使水蒸氣冷凝,減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量

(4)Zn還原SiCl4的反應(yīng)如下:
反應(yīng)1:400℃~756℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(l)△H1<0
反應(yīng)2:756℃~907℃,SiCl4(g)+2Zn(l)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H2<0
反應(yīng)3:907℃~1410℃,SiCl4(g)+2Zn(g)?Si(s)+2ZnCl2(g)△H3<0
①對于上述三個反應(yīng),下列說法合理的是
bcd
bcd

a.升高溫度會提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率      b.還原過程需在無氧的氣氛中進(jìn)行
c.增大壓強(qiáng)能提高反應(yīng)的速率         d.Na、Mg可以代替Zn還原SiCl4
②實際制備過程選擇“反應(yīng)3”,選擇的理由是
溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動提高轉(zhuǎn)化率
溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動提高轉(zhuǎn)化率

③已知Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol.若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,每投入1mol SiCl4,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出
208.8
208.8
kJ的熱量.
(5)用硅制作太陽能電池時,為減弱光在硅表面的反射,采用化學(xué)腐蝕法在其表面形成粗糙的多孔硅層.腐蝕劑常用稀HNO3和HF的混合液.硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6.用化學(xué)方程式表示SiO2轉(zhuǎn)化為H2SiF6的過程
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O
SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O
分析:(1)在氧化還原反應(yīng)中,化合價升高的元素發(fā)生還原反應(yīng);
(2)電解飽和食鹽水的方法制備氯氣,陽極,溶液中氯離子失電子發(fā)生氧化反應(yīng)生成氯氣,陰極,溶液中氫離子得到電子發(fā)生還原反應(yīng),生成氫氣;
(3)①SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸,據(jù)此信息找出反應(yīng)物和生成物,結(jié)合質(zhì)量守恒書寫化學(xué)方程式;
②水的沸點(diǎn)為100℃,濃硫酸具有吸水性,溶于水放熱,據(jù)此解答;
(4)①△H<0表示放熱,根據(jù)平衡移動的原理解答;
②反應(yīng)2與反應(yīng)1比較,反應(yīng)2產(chǎn)物為固體和氣體比反應(yīng)1更易于分離,反應(yīng)3與反應(yīng)2比較,溫度高,反應(yīng)速率更快;
③根據(jù)蓋斯定律可以計算化學(xué)反應(yīng)的焓變;
(5)氟化氫跟二氧化硅反應(yīng)生成四氟化硅和水,四氟化硅和氟化氫直接反應(yīng)生成H2SiF6;
解答:解:(1)在過程Ⅰ中發(fā)生反應(yīng)2C+SiO2
 高溫 
.
 
Si+2CO↑中,C從0價變?yōu)橐谎趸贾械?2價,發(fā)生氧化反應(yīng)是還原劑;
故答案為:還原劑;
(2)電解飽和食鹽水的方法制備氯氣,陽極,溶液中氯離子失電子發(fā)生氧化反應(yīng)生成氯氣,2Cl--2e=Cl2↑,陰極,溶液中氫離子得到電子發(fā)生還原反應(yīng),生成氫氣,2H++2e-═H2↑,總的反應(yīng)為2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2↑,
故答案為:2NaCl+2H2O
 通電 
.
 
2NaOH+Cl2↑+H2↑;
(3)①根據(jù)SiCl4遇水劇烈水解生成SiO2和一種酸信息,反應(yīng)物是SiCl4和水,生成物為二氧化硅,根據(jù)氧原子守恒,水分子前的系數(shù)為2,根據(jù)氫原子和氯原子守恒,另一產(chǎn)物為氯化氫,氯化氫前的系數(shù)為4,據(jù)此即可寫出化學(xué)反應(yīng)方程式,
故答案為:SiCl4+2H2O═SiO2+4HCl;
②干燥Cl2時,從有利于充分干燥和操作安全的角度考慮,需將約90℃的潮濕氯氣先冷卻至12℃,此時使水蒸氣冷凝,然后再通入到濃H2SO4中,進(jìn)入濃硫酸的水量少了,保證濃硫酸的良好吸水性,水和濃硫酸作用放熱,所以進(jìn)入硫酸的水少了,能降低放出的熱量,
故答案為:使水蒸氣冷凝減少進(jìn)入濃硫酸的水量保持持續(xù)的吸水性并降低放出的熱量;
(4)①對于三個反應(yīng),反應(yīng)熱都是△H<0表示放熱,
a.升高溫度,平衡向吸熱的方向移動,所以會降低SiCl4的轉(zhuǎn)化率,故a錯誤;
b.Si遇氧氣在高溫的條件下反應(yīng)生成二氧化硅,所以還原過程需在無氧的氣氛中進(jìn)行,b正確;
c.有氣體參加的反應(yīng),增大壓強(qiáng),能加快反應(yīng)的速率,對于三個反應(yīng),都有氣體參與,所以增大壓強(qiáng),能提高反應(yīng)的速率,故c正確;
d.Na、Mg都是還原性比較強(qiáng)的金屬,可以代替Zn還原SiCl4,故d正確;
故答案為:bcd;
②反應(yīng)2與反應(yīng)1比較,反應(yīng)2產(chǎn)物為固體和氣體比反應(yīng)1更易于分離,反應(yīng)3與反應(yīng)2比較,反應(yīng)物都為氣態(tài),溫度高,反應(yīng)速率更快,所以實際制備過程選擇“反應(yīng)3”,溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動提高轉(zhuǎn)化率,
故答案為:溫度高反應(yīng)速率快;與前兩個反應(yīng)比較更易于使硅分離使化學(xué)平衡向右移動提高轉(zhuǎn)化率;
③每投入1mol SiCl4,有2molZn參加反應(yīng),“反應(yīng)3”與“反應(yīng)2”比較,反應(yīng)2中鋅為液態(tài),根據(jù)Zn(l)═Zn(g)△H=+116KJ/mol,若SiCl4的轉(zhuǎn)化率均為90%,“反應(yīng)3”比“反應(yīng)2”多放出116KJ/mol×2×90%=208.8KJ,
故答案為:208.8;
(5)二氧化硅和氫氟酸:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O;SiF4+2HF=H2SiF6,所以用稀HNO3和HF的混合液,硅表面首先形成SiO2,最后轉(zhuǎn)化為H2SiF6的化學(xué)方程式為SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O,
故答案為:SiO2+6HF═H2SiF6+2H2O;
點(diǎn)評:本題考查鋅還原四氯化硅制備硅,涉及化學(xué)平衡移動、電解等知識,掌握平衡移動原理的運(yùn)用,掌握硅及其化合物的性質(zhì)是解答的關(guān)鍵,題目難度中等.
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