飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應。圖中的每一方格表示有關的一種主要反應物或生成物（反應中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去），其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學中常見氣態(tài)物質(zhì)，X和K是中學常見的金屬單質(zhì)，氧化物Y是一種比較好的耐火材料。

回答下列問題：

①W的名稱是                ，G的俗名是                 。

②A分子的空間構(gòu)型是                     ，鍵角是         °      ′。

③反應（3）的化學方程式是                                               。

    

反應（4）的化學方程式是                                               。

④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                    。

⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學方程式                                        。

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：閱讀理解

（2012?長寧區(qū)一模）Ⅰ．工業(yè)上電解飽和食鹽能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．
（1）原料粗鹽中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等雜質(zhì)，必須精制后才能供電解使用．精制時，粗鹽溶于水過濾后，還要加入的試劑分別為①Na2CO3、②HCl（鹽酸）③BaCl2，這3種試劑添加的合理順序是
③①②
③①②
（填序號）洗滌除去NaCl晶體表面附帶的少量KCl，選用的試劑為
③
③
．（填序號）（①飽和Na2CO3溶液  ②飽和K2CO3溶液  ③75%乙醇　④四氯化碳）
（2）如圖是離子交換膜（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）法電解飽和食鹽水示意圖，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是
氯氣
氯氣
；NaOH溶液的出口為
a
a
（填字母）；精制飽和食鹽水的進口為
d
d
（填字母）；干燥塔中應使用的液體是
濃硫酸
濃硫酸
．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關注．
（1）SiCl4可制氣相白炭黑（與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應，產(chǎn)物有兩種，化學方程式為
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
SiCl4+2H2+O2
 高溫 
.
 
SiO2+4HCl
．
（2）SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中的反應：
3SiCl4（g）+2H2（g）+Si（s）?4SiHCl3（g）
達平衡后，H2與SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為
0.351
0.351
kg．
（3）實驗室制備H2和Cl2通常采用下列反應：
Zn+H2SO4→ZnSO4+H2↑；MnO2+4HCl（濃）
△
MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H2的裝置
e
e
（填代號）和制備并收集干燥、純凈Cl2的裝置
d
d
（填代號）．
可選用制備氣體的裝置：

（4）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時生成氫氣，現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣
134.4
134.4
m3（標準狀況）．（忽略可能存在的其他反應）
某工廠生產(chǎn)硼砂過程中產(chǎn)生的固體廢料，主要含有MgCO3、MgSiO3、CaMg（CO3）2、Al2O3和Fe2O3等，回收其中鎂的工藝流程如下：

沉淀物 Fe（OH）3 Al（OH）3 Mg（OH）2
PH 3.2 5.2 12.4
Ⅲ．部分陽離子以氫氧化物形式完全沉淀時溶液的pH見上表，請回答下列問題：
（1）“浸出”步驟中，為提高鎂的浸出率，可采取的措施有
適當提高反應溫度、增加浸出時間
適當提高反應溫度、增加浸出時間
（要求寫出兩條）．
（2）濾渣I的主要成分是
Fe（OH）3、Al（OH）3
Fe（OH）3、Al（OH）3
．
Mg（ClO3）2在農(nóng)業(yè)上可用作脫葉劑、催熟劑，可采用復分解反應制備：
MgCl2+2NaClO3→Mg（ClO3）2+2NaCl
已知四種化合物的溶解度（S）隨溫度（T）變化曲線如圖所示：

（3）將反應物按化學反應方程式計量數(shù)比混合制備Mg（ClO3）2．簡述可制備Mg（ClO3）2的原因：
在某一溫度時，NaCl最先達到飽和析出；Mg（ClO3）2的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；
在某一溫度時，NaCl最先達到飽和析出；Mg（ClO3）2的溶解度隨溫度變化的最大，NaCl的溶解度與其他物質(zhì)的溶解度有一定的差別；
．
（4）按題（3）中條件進行制備實驗．在冷卻降溫析出Mg（ClO3）2過程中，常伴有NaCl析出，原因是：
降溫前，溶液中NaCl已達飽和，降低過程中，NaCl溶解度會降低，會少量析出；
降溫前，溶液中NaCl已達飽和，降低過程中，NaCl溶解度會降低，會少量析出；
．除去產(chǎn)品中該雜質(zhì)的方法是：
重結(jié)晶
重結(jié)晶
．

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科目：高中化學 來源：浙江省模擬題 題型：推斷題

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物可發(fā)生下列的系列反應。圖中的每一方格表示有關的一種主要反應物或生成物（反應中加入或生成的水以及生成的其他產(chǎn)物已略去）。其中A、B、C、D、E在常溫常壓下均是氣態(tài)物質(zhì)。
按照反應過程，分析下列問題：
(1)確定物質(zhì)化學式：W_________，C__________。
(2)書寫飽和鹽溶液W的電解化學方程式：________________。
(3)書寫反應①②的化學方程式，若是氧化還原反應，標出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目：
①___________________，②____________________。
(4)書寫反應③(H中通入A)的離子方程式：____________________。
(5)物質(zhì)I是一種離子化合物，用電子式表示其結(jié)構(gòu)：____________________。

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科目：高中化學 來源： 題型：

★★★

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應。圖中的每一方格表示有關的一種主要反應物或生成物（反應中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去），其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學中常見氣態(tài)物質(zhì)，X和K是中學常見的金屬單質(zhì)，氧化物Y是一種比較好的耐火材料。H可溶于強酸強堿。

回答下列問題：

①W的名稱是                ，G的俗名是                 。

②A分子的空間構(gòu)型是                     。

③反應（3）的化學方程式是                                               。

反應（4）的化學方程式是                                               。

④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                    。

⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學方程式                                                              。

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科目：高中化學 來源：2010級成都七中高三沖刺理綜試題化學部分 題型：填空題

飽和鹽溶液W的電解產(chǎn)物發(fā)生下列系列反應。圖中的每一方格表示有關的一種主要反應物或生成物（反應中加入或生成的水以及生成的其它產(chǎn)物已略去），其中A、B、C、D、E在常溫下均為高中化學中常見氣態(tài)物質(zhì)，X和K是中學常見的金屬單質(zhì)，氧化物Y是一種比較好的耐火材料。

回答下列問題：
①W的名稱是               ，G的俗名是                。
②A分子的空間構(gòu)型是                    ，鍵角是        °     ′。
③反應（3）的化學方程式是                                              。
反應（4）的化學方程式是                                              。
④飽和鹽溶液W電解的離子方程式是                                   。
⑤已知C的燃燒熱為285.8kJ/mol。試寫出C完全燃燒生成液態(tài)物質(zhì)的熱化學方程式                                       。

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