20.目前半導體生產(chǎn)展開了一場“銅芯片”革命--在硅芯片上用銅代替鋁布線,古老的金屬銅在現(xiàn)代科技應用上取得了突破.用黃銅礦(主要成分為CuFeS2)生產(chǎn)粗銅,其反應原理如下:
CuFeS2$→_{800℃}^{O_{2}}$Cu2S$→_{①}^{O_{2},△}$Cu2O$→_{②}^{Cu_{2}S,△}$Cu→CuSO4
(1)基態(tài)銅原子的價電子排布式為3d104s1,硫、氧元素相比,第一電離能較大的元素是O(填元素符號).
(2)反應①、②中均生成有相同的氣體分子,該分子的中心原子雜化類型是sp2,其立體結構是V,與該分子互為等電子體的單質氣體的化學式是O3
(3)某學生用硫酸銅溶液與氨水做了一組實驗:CuSO4溶液$\stackrel{氨水}{→}$藍色沉淀$\stackrel{氨水}{→}$沉淀溶解,得到深藍色透明溶液.寫出藍色沉淀溶于氨水的離子方程式:Cu(OH)2+4NH3•H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O;
(4)銅是第四周期最重要的過渡元素之一,其單質及化合物具有廣泛用途.銅晶體中銅原子堆積模型為面心立方最密堆積;銅的某種氧化物晶胞結構如圖所示,若該晶體的密度為d g/cm3,阿伏加德羅常數(shù)的值為NA,則該晶胞中銅原子與氧原子之間的距離為$\frac{\sqrt{3}}{4}$$\root{3}{\frac{288}{d{N}_{A}}}$×1010pm.(用含d和NA的式子表示)

分析 (1)Cu位于第四周期ⅤⅡB族,是29號元素,基態(tài)銅原子的價電子排布式為1s22s22p63s23p63d104s1;同主族元素第一電離能自上而下逐漸減;
(2)由(1)分析知反應①②生成的相同氣體分子是SO2,SO2中價層電子對個數(shù)=2+$\frac{1}{2}$(6-2×2)=3,且含有一個孤電子對,所以其空間構型是V型,S原子采用sp2雜化;
(3)硫酸銅溶液與氨水生成氫氧化銅,氫氧化銅溶于過量的氨水,形成[Cu(NH34]2+離子;
(4)銅晶體中銅原子堆積模型為面心立方最密堆積,由均攤法計算氧化亞銅晶胞中Cu原子和O原子的數(shù)目,根據(jù)密度計算公式ρ=$\frac{m}{ρ}$計算出體積,再計算銅原子與氧原子之間的距離即可.

解答 解:(1)Cu位于第四周期ⅤⅡB族,是29號元素,基態(tài)銅原子的價電子排布式為3d104s1;同主族元素第一電離能自上而下逐漸減小,所以第一電離能較大的是氧;
故答案為:3d104s1;O;
(2)由(1)分析知反應①②生成的相同氣體分子是SO2,SO2中價層電子對個數(shù)=2+$\frac{1}{2}$(6-2×2)=3,所以S原子采用sp2雜化,由于含有一個孤電子對,其空間構型是V型;與二氧化硫互為等電子體的有O3;
故答案為:sp2;V型;O3
(3)硫酸銅溶液與氨水生成氫氧化銅藍色沉淀,氫氧化銅溶于過量的氨水,形成[Cu(NH34]2+離子,藍色沉淀溶于氨水的離子方程式為Cu(OH)2+4NH3•H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O,深藍色透明溶液中的陽離子(不考慮H+)內(nèi)存在的全部化學鍵類型有共價鍵、配位鍵,
故答案為:Cu(OH)2+4NH3•H2O=[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O;共價鍵、配位鍵;
(4)銅晶體中銅原子堆積模型為面心立方最密堆積,在銅的某種氧化物晶胞中,O原子在晶胞的頂點和體心,故O原子數(shù)=$\frac{1}{8}$×8+1=2,Cu原子全部在體心,故Cu原子數(shù)=4,即一個氧化亞銅晶胞中有2個O原子和4個Cu原子,根據(jù)密度計算公式ρ=$\frac{m}{V}$可知,體積V=$\frac{m}{ρ}$=$\frac{\frac{288}{{N}_{A}}}czsdgpp$=$\frac{288}{d{N}_{A}}$cm3,所以晶胞的邊長為$\root{3}{\frac{288}{d{N}_{A}}}$cm,根據(jù)晶胞的結構圖可知,晶胞中銅原子與氧原子之間的距離晶胞邊長的$\frac{\sqrt{3}}{4}$,所以該晶胞中銅原子與氧原子之間的距離為$\frac{\sqrt{3}}{4}$×$\root{3}{\frac{288}{d{N}_{A}}}$cm=$\frac{\sqrt{3}}{4}$$\root{3}{\frac{288}{d{N}_{A}}}$×1010pm,

故答案為:面心立方最密堆積;$\frac{\sqrt{3}}{4}$$\root{3}{\frac{288}{d{N}_{A}}}$×1010

點評 本題考查物質結構和性質,為高頻考點,涉及晶胞計算、配位鍵、微?臻g構型判斷等知識點,側重考查學生計算及空間想象能力,難點是晶胞計算,注意Cu、O原子之間的距離與棱長的關系,為易錯點.

練習冊系列答案
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10.工業(yè)上利用廢鐵屑(含少量氧化鋁、氧化鐵等)生產(chǎn)堿式硫酸鐵[Fe(OH)SO4]的工藝流程如圖:

已知:部分陽離子以氫氧化物形式沉淀時溶液的pH如表:
沉淀物Fe(OH)3Fe(OH)2Al(OH)3
開始沉淀2.37.53.4
完全沉淀3.29.74.4
回答下列問題:
(1)流程中加入少量NaHCO3的目的是調節(jié)pH,使溶液中的Al3+(填“Fe3+”“Fe2+”或“Al3+”)沉淀,則調節(jié)pH的范圍是4.4-7.5.
(2)在實際生產(chǎn)中,反應Ⅱ常同時通入O2以減少NaNO2的用量,O2與NaNO2在反應中均作氧化劑.若參與反應的O2有11.2L(標準狀況),則相當于節(jié)約NaNO2的物質的量為2mol.用NaNO2的缺點是產(chǎn)生NO污染,若用雙氧水代替NaNO2發(fā)生反應的離子方程式是Fe2++H2O2+2H+═Fe3++H2O.
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(4)在醫(yī)藥上常用硫酸亞鐵與硫酸、硝酸的混合液反應制備堿式硫酸鐵.根據(jù)我國質量標準,產(chǎn)品中不得含有Fe2+及NO3-.為檢驗所得產(chǎn)品中是否含有Fe2+,應使用的試劑為D(填字母).
A.氯水  B.KSCN溶液  C.NaOH溶液  D.酸性KMnO4溶液.

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8.下列有關實驗原理或實驗操作正確的是( 。
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C.工業(yè)上常用電解的方法制備X、Y的單質
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5.下列溶液中的離子可以大量共存且無色透明的是( 。
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12.回答下列問題:
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