Question

氯堿工業(yè)中，通過(guò)電解飽和食鹽水獲得重要的化工原料：氯氣、氫氣和氫氧化鈉．其中氯氣用途十分廣泛，除用于凈水、環(huán)境消毒外，還用于生產(chǎn)鹽酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等．
（1）工業(yè)上可用氯氣和石灰乳為原料制造漂白粉，漂白粉為

混合物

（填“純凈物”或“混合物”），制備漂白粉的化學(xué)方程式為

Ca（OH）₂+2Cl₂=CaCl₂+Ca（ClO）₂+2H₂O

．
（2）工業(yè)上生產(chǎn)半導(dǎo)體材料硅的流程如圖所示：

①石英砂的主要成分是二氧化硅，在制備粗硅時(shí)，焦炭的作用是

還原劑

．（填“氧化劑”或“還原劑”）
②粗硅與氯氣反應(yīng)后得到沸點(diǎn)較低的液態(tài)四氯化硅，其中�；煊幸恍└叻悬c(diǎn)、難揮發(fā)性雜質(zhì)，必須進(jìn)行分離提純．其提純方法為

A

．（填字母）
A．蒸餾          B．過(guò)濾         C．萃取        D．蒸發(fā)
③四氯化硅與氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到高純硅和氯化氫氣體，寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式：

SiCl₄+2H₂

高溫  .

Si+4HCl↑

．

Answer 1

分析：（1）漂白粉的主要成分為氯化鈣、次氯酸鈣，利用氯氣與石灰乳制備漂白粉；
（2）①石英砂的主要成分是二氧化硅，制備粗硅發(fā)生SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO↑，C元素的化合價(jià)升高；
②粗硅與氯氣反應(yīng)后得到沸點(diǎn)較低的液態(tài)四氯化硅，其中常混有一些高沸點(diǎn)、難揮發(fā)性雜質(zhì)，利用沸點(diǎn)差異分離；
③四氯化硅與氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到高純硅和氯化氫氣體，以此書寫化學(xué)反應(yīng)．

解答：解：（1）漂白粉的主要成分為氯化鈣、次氯酸鈣，則漂白粉為混合物，利用氯氣與石灰乳制備漂白粉，該反應(yīng)為Ca（OH）₂+2Cl₂=CaCl₂+Ca（ClO）₂+2H₂O，
故答案為：混合物；Ca（OH）₂+2Cl₂=CaCl₂+Ca（ClO）₂+2H₂O；
（2）①石英砂的主要成分是二氧化硅，制備粗硅發(fā)生SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO↑，C元素的化合價(jià)升高，則焦炭作還原劑，故答案為：還原劑；
②粗硅與氯氣反應(yīng)后得到沸點(diǎn)較低的液態(tài)四氯化硅，其中�；煊幸恍└叻悬c(diǎn)、難揮發(fā)性雜質(zhì)，因沸點(diǎn)不同，則分離提純法選蒸餾法，故答案為：A；
③四氯化硅與氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到高純硅和氯化氫氣體，該反應(yīng)為SiCl₄+2H₂

高溫  .

Si+4HCl↑，故答案為：SiCl₄+2H₂

高溫  .

Si+4HCl↑．

點(diǎn)評(píng)：本題考查氯、硅及其化合物的性質(zhì)，涉及氧化還原反應(yīng)、化學(xué)反應(yīng)方程式的書寫、混合物的分離提純等，注重�？伎键c(diǎn)的考查，題目難度中等．