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科目： 來(lái)源： 題型：

下列反應(yīng)的離子方程式不正確的是（　�。�
A、用鹽酸清除水垢CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O
B、Fe跟稀硫酸反應(yīng)：Fe+2H+=Fe3++H2↑
C、澄清石灰水跟稀鹽酸：H++OH-=H2O
D、碳酸氫鈉溶液跟氫氧化鈉溶液反應(yīng) HCO3-+OH-=H2O+CO32-

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科目： 來(lái)源： 題型：

在一定體積的密閉容器中，進(jìn)行如下化學(xué)反應(yīng)：CO2（g）+H2（g）?CO（g）+H2O（g），其化學(xué)平衡常數(shù)K和溫度t的關(guān)系如下表：
t℃70080083010001200
K0.60.91.01.72.6
回答下列問(wèn)題：
（1）該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)表達(dá)式為K=
 
．
（2）該反應(yīng)為
 
反應(yīng)（選填吸熱、放熱）．
（3）能判斷該反應(yīng)是否達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的依據(jù)是
 

a．容器中壓強(qiáng)不變                 
b．混合氣體中 c（CO）不變
c．υ正（H2）=υ逆（H2O）          
d．c（CO2）=c（CO）
（4）某溫度下，平衡濃度符合下式：c（CO2）?c（H2）=c（CO）?c（H2O），試判斷此時(shí)的溫度為
 
℃．
（5）如果在830℃，起始①充入1mol/L CO2和2mol/L H2；②充入2mol/L CO2和1mol/L H2，二者平衡時(shí)CO的濃度
 
（填相同或不同）．

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科目： 來(lái)源： 題型：

PH=10的氨水中c（H+）是PH=12的NaOH溶液中c（H+）的
 
倍．

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科目： 來(lái)源： 題型：

下列有關(guān)溶液中粒子濃度關(guān)系正確的是（　　）
A、Na2CO3溶液中：c（Na+）=2c（CO32-）+2c（HCO3-）+2c（H2CO3）
B、NaHCO3溶液中：c（Na+）+c（H-）=c（HCO3-）+c（OH-）+c（CO32-）
C、NH4Cl溶液中：c（NH4+）＞o（Cl-）＞c（OH-）＞c（H+）
D、CH3COOK溶液中：c（OH-）=c（H+）+c（CH3COO-）+c（CH3COOH）

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科目： 來(lái)源： 題型：

下列材料只含有硅元素的是（　�。�
A、水泥B、晶體硅
C、沙子D、普通陶瓷

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科目： 來(lái)源： 題型：

下列反應(yīng)所得溶液中一定只含一種溶質(zhì)的是（　�。�
A、向NaOH溶液中通入CO2
B、向Ca（OH）2溶液中通入Cl2
C、向蒸餾水中加入少量金屬Na
D、向MgSO4溶液中滴入NaOH溶液

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科目： 來(lái)源： 題型：

下列實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的敘述，正確的是（　�。�
A、鈉在氧氣中燃燒，火焰呈黃色，產(chǎn)生Na2O固體
B、HClO見(jiàn)光分解生成H2O 和Cl2
C、鈉投入水中，將沉入水底并熔化成小球、且有氣泡產(chǎn)生
D、氯氣通入紫色石蕊試液中，溶液先變紅后褪色

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科目： 來(lái)源： 題型：

用于無(wú)線電技術(shù)的集成微電路是極薄的一層高純單晶硅，在其上借腐蝕的方法“刻”出條紋．高純硅是由用二氧化硅制得的甲硅烷生成．
（1）試提出制高純硅的方法，寫(xiě)出相應(yīng)的反應(yīng)方程式
 
．
（2）試指出幾個(gè)所制得硅的物理提純方法
 
．

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科目： 來(lái)源： 題型：

下下列敘述正確的是（　　）
A、稀硝酸、稀硫酸均能將木炭氧化成二氧化碳
B、Na2O2與水反應(yīng)、紅熱的Fe與水蒸氣反應(yīng)均能生成堿
C、Na、C與氧氣反應(yīng)均只生成一種相應(yīng)氧化物
D、NaHCO3、（NH4）2CO3固體受熱后均能生成氣體

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科目： 來(lái)源： 題型：

下列關(guān)于碳酸鈉和碳酸氫鈉的比較中，正確的是（　�。�
A、二者在水中的溶解度不同，碳酸氫鈉的溶解度大于碳酸鈉的溶解度
B、二者熱穩(wěn)定性不同，碳酸鈉的熱穩(wěn)定性小于碳酸氫鈉的熱穩(wěn)定性
C、二者都能與足量鹽酸反應(yīng)放出二氧化碳?xì)怏w，等物質(zhì)的量時(shí)，產(chǎn)生氣體的量和反應(yīng)快慢都不同
D、二者在一定的條件下可以相互轉(zhuǎn)化

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