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科目: 來(lái)源: 題型:

下列反應(yīng)的離子方程式不正確的是( 。
A、用鹽酸清除水垢CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O
B、Fe跟稀硫酸反應(yīng):Fe+2H+=Fe3++H2
C、澄清石灰水跟稀鹽酸:H++OH-=H2O
D、碳酸氫鈉溶液跟氫氧化鈉溶液反應(yīng) HCO3-+OH-=H2O+CO32-

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科目: 來(lái)源: 題型:

在一定體積的密閉容器中,進(jìn)行如下化學(xué)反應(yīng):CO2(g)+H2(g)?CO(g)+H2O(g),其化學(xué)平衡常數(shù)K和溫度t的關(guān)系如下表:
t℃70080083010001200
K0.60.91.01.72.6
回答下列問(wèn)題:
(1)該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)表達(dá)式為K=
 

(2)該反應(yīng)為
 
反應(yīng)(選填吸熱、放熱).
(3)能判斷該反應(yīng)是否達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的依據(jù)是
 

a.容器中壓強(qiáng)不變                 
b.混合氣體中 c(CO)不變
c.υ正(H2)=υ逆(H2O)          
d.c(CO2)=c(CO)
(4)某溫度下,平衡濃度符合下式:c(CO2)?c(H2)=c(CO)?c(H2O),試判斷此時(shí)的溫度為
 
℃.
(5)如果在830℃,起始①充入1mol/L CO2和2mol/L H2;②充入2mol/L CO2和1mol/L H2,二者平衡時(shí)CO的濃度
 
(填相同或不同).

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科目: 來(lái)源: 題型:

PH=10的氨水中c(H+)是PH=12的NaOH溶液中c(H+)的
 
倍.

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列有關(guān)溶液中粒子濃度關(guān)系正確的是( 。
A、Na2CO3溶液中:c(Na+)=2c(CO32-)+2c(HCO3-)+2c(H2CO3
B、NaHCO3溶液中:c(Na+)+c(H-)=c(HCO3-)+c(OH-)+c(CO32-
C、NH4Cl溶液中:c(NH4+)>o(Cl-)>c(OH-)>c(H+
D、CH3COOK溶液中:c(OH-)=c(H+)+c(CH3COO-)+c(CH3COOH)

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列材料只含有硅元素的是(  )
A、水泥B、晶體硅
C、沙子D、普通陶瓷

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列反應(yīng)所得溶液中一定只含一種溶質(zhì)的是( 。
A、向NaOH溶液中通入CO2
B、向Ca(OH)2溶液中通入Cl2
C、向蒸餾水中加入少量金屬Na
D、向MgSO4溶液中滴入NaOH溶液

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象的敘述,正確的是( 。
A、鈉在氧氣中燃燒,火焰呈黃色,產(chǎn)生Na2O固體
B、HClO見(jiàn)光分解生成H2O 和Cl2
C、鈉投入水中,將沉入水底并熔化成小球、且有氣泡產(chǎn)生
D、氯氣通入紫色石蕊試液中,溶液先變紅后褪色

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科目: 來(lái)源: 題型:

用于無(wú)線(xiàn)電技術(shù)的集成微電路是極薄的一層高純單晶硅,在其上借腐蝕的方法“刻”出條紋.高純硅是由用二氧化硅制得的甲硅烷生成.
(1)試提出制高純硅的方法,寫(xiě)出相應(yīng)的反應(yīng)方程式
 

(2)試指出幾個(gè)所制得硅的物理提純方法
 

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科目: 來(lái)源: 題型:

下下列敘述正確的是( 。
A、稀硝酸、稀硫酸均能將木炭氧化成二氧化碳
B、Na2O2與水反應(yīng)、紅熱的Fe與水蒸氣反應(yīng)均能生成堿
C、Na、C與氧氣反應(yīng)均只生成一種相應(yīng)氧化物
D、NaHCO3、(NH42CO3固體受熱后均能生成氣體

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科目: 來(lái)源: 題型:

下列關(guān)于碳酸鈉和碳酸氫鈉的比較中,正確的是(  )
A、二者在水中的溶解度不同,碳酸氫鈉的溶解度大于碳酸鈉的溶解度
B、二者熱穩(wěn)定性不同,碳酸鈉的熱穩(wěn)定性小于碳酸氫鈉的熱穩(wěn)定性
C、二者都能與足量鹽酸反應(yīng)放出二氧化碳?xì)怏w,等物質(zhì)的量時(shí),產(chǎn)生氣體的量和反應(yīng)快慢都不同
D、二者在一定的條件下可以相互轉(zhuǎn)化

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