（1）主族元素A的簡單陽離子不與任何原子具有相同的核外電子排布．元素B與氮元素同周期，B的原子序數(shù)大于氮，而第一電離能比氮的�。瓵與B形成兩種化合物A₂B₂和A₂B，其中B的雜化方式分別為、．A₂B、NH₃、SiH₄的鍵角由大到小依次為（填化學式）．A₂B由液態(tài)形成晶體時密度減小，主要原因是．
（2）新型無機材料在許多領(lǐng)域被廣泛應用．陶瓷發(fā)動機的材料選用氮化硅，它硬度高、化學穩(wěn)定性高，是很好的高溫陶瓷材料．除氫氟酸外，氮化硅不與其他無機酸反應，抗腐蝕能力強．氮化硅的晶體類型是，其中氮元素的化合價是，氮化硅與氫氟酸反應的化學方程式為．
（3）MgCO₃和CaCO₃都為離子晶體，熱分解的溫度分別為402℃和900℃，請根據(jù)結(jié)構(gòu)與性質(zhì)的關(guān)系說明它們熱分解溫度不同的原因．
（4）砷化鎵廣泛用于雷達、電子計算機、人造衛(wèi)星，宇宙飛船等尖端技術(shù)中．鎵的基 態(tài)原子價電子排布式為，砷化鎵的晶胞結(jié)構(gòu)與金剛石相似，其晶胞邊長為apm，則每立方厘米該晶體中所含砷元素的質(zhì)量為g（用N_A表示阿伏加德羅常數(shù)），該晶胞中Ga與As的最短距離為cm．

某二元酸（化學式用H₂B表示）在水中的電離方程式是：H₂B=H⁺+HB^-，HB^-?H⁺+B^2-．回答下列問題：
（1）Na₂B溶液顯（填“酸性”，“中性”，或“堿性”）．理由是（用離子方程式表示）．
（2）在0.1mol/L的Na₂B溶液中，下列粒子濃度關(guān)系式正確的是．
A．c（B^2-）+c（HB^- ）+c（H₂B）=0.1mol/L
B．c（OH^-）=c（H⁺）+c（HB^-）
C．c（Na⁺）+c（H⁺ ）=c（OH^- ）+c（HB^-）+2c（B^2- ）
D．c（Na⁺）=2c（B^2- ）+c（HB^- ）

①CH₃-CH₂-CH₂-CH₂-CH₃和    ②和              
③CH₃-CH₃和CH₃-CH₂-CH₃ ④CH₃-CH₂-CH₂-CH₃和    ⑤O₂和O₃ ⑥¹²C和¹⁴C
（1） 組互為同位素；
（2）組是同一物質(zhì)；
（3）組兩物質(zhì)互稱為同系物；
（4）組兩物質(zhì)互為同分異構(gòu)體．

使的作用，稱為離子鍵．原子之間容易形成離子鍵．離子化合物中陰、陽離子可以按一定的方式在空間有規(guī)則地排列，形成有一定幾何外形的晶體．

（1）氯化鋁水溶液呈酸性的原因是（用離子方程式表示）．
（2）5.6g金屬鐵（相對原子質(zhì)量56）與足量的氯氣反應，同時放出熱量Q KJ．寫出此反應熱化學方程式：．

（1）某烯烴與H₂發(fā)生加成反應后得到的產(chǎn)物是CH₃-CH（CH₃）₂．該產(chǎn)物的名稱是；原來烯烴的結(jié)構(gòu)簡式為：；
（2）今有化合物：

①請寫出化合物丙中含氧官能團的名稱：．
②請判別上述哪些化合物互為同分異構(gòu)體：．
③請按酸性由強至弱排列甲、乙、丙的順序：．

氮、磷、鋅是與生命活動密不可分的元素．請回答下列問題：
（1）NH₃和PH₃都是極性分子，其中極性較大的是，理由是．
（2）NH₄N0₃是一種重要的化學肥料，其中N原子的雜化方式是．
（3）氮化硼（BN）的一種晶體結(jié)構(gòu)與金剛石相似，則B-N-B之間的夾角是，
氮化硼的密度為3.52g/cm³，則B-N鍵的鍵長是pm（只要求列算式，不必計算出數(shù)值，阿伏加德羅常數(shù)為N_A）．
（4）已知磷酸分子中，P、O原子均滿足最外層8個電子的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，則：
①P與非羥基O之間的共價鍵的形成方式是；
②中和20mL 0.1mol/L次磷酸（H₃PO₂）溶液需要O.1mo/L NaOH溶液的體積恰好為20mL，則H₃PO₂的結(jié)構(gòu)式是．
（5）Zn²⁺基態(tài)時的電子排布式是，ZnO和ZnS的晶體結(jié)構(gòu)相似，其中熔點較高的是，理由是．

乙烯的結(jié)構(gòu)式為，電子式為，其結(jié)構(gòu)簡式為．

A、B、C、D、E為中學化學常見的單質(zhì)或化合物，相互轉(zhuǎn)化關(guān)系如圖甲所示
（1）若A是能使?jié)駶櫟募t色石蕊試紙變藍的氣體；C、D均為空氣的主要成分；E是一種無色、無味的有毒氣體．寫出反應Ⅱ的化學方程式
（2）若A是淡黃色固體化合物；常溫下D是無色氣體；C中含有的陰、陽離子均為10電子的粒子．寫出反應Ⅲ的離子方程式．
（3）將一定量（2）中的氣體D通入2L C的溶液中，在所得溶液中逐滴加入稀鹽酸至過量，并將溶液加熱，產(chǎn)生的氣體與HCl的物質(zhì)的量的關(guān)系如圖乙（忽略氣體的溶解和HCl的揮發(fā)）．
①O點溶液中所含溶質(zhì)的化學式為；常溫下a點溶液的pH 7（選填“＞”、“＜”或“=”）．
②標況下，通入氣體D的體積為L，C溶液的物質(zhì)的量濃度為mol/L．

氮化硅（Si₃N₄）是一種優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷，在工業(yè)生產(chǎn)和科技領(lǐng)域有重要用途．工業(yè)上有多種方法來制備氮化硅，常見的方法有：
方法一：直接氮化法：在1300℃-1400℃時，高純粉狀硅與純氮氣化合，其反應方程式為．
方法二：化學氣相沉積法：在高溫條件下利用四氯化硅氣體、純氮氣、氫氣反應生成氮化硅和HCl，與方法一相比，用此法制得的氮化硅純度較高，其原因是．
方法三：Si（NH₂）₄熱分解法：先用四氯化硅與氨氣反應生成Si（NH₂）₄和一種氣體（填分子式）；然后使Si（NH₂）₄受熱分解，分解后的另一種產(chǎn)物的分子式為．