硅是重要的半導體材料，構成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎。回答下列問題：

（1）基態(tài)Si原子中，電子占據(jù)的最高能層符號為       ，該能層具有的原子軌道數(shù)為       、電子數(shù)為          。

（2）硅主要以硅酸鹽、               等化合物的形式存在于地殼中。

（3）單質硅存在與金剛石結構類似的晶體，其中原子與原子之間以               相結合，其晶胞中共有8個原子，其中在面心位置貢獻           個原子。

（4）單質硅可通過甲硅烷(SiH₄)分解反應來制備。工業(yè)上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介質中反應制得SiH₄，該反應的化學方程式為                                    。

（5）碳和硅的有關化學鍵鍵能如下所示，簡要分析和解釋下列有關事實：

 ①硅與碳同族，也有系列氫化物，但硅烷在種類和數(shù)量上都遠不如烷烴多，原因是        

                                                                          。

 ②SiH₄的穩(wěn)定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是                                  

                                                                          。

（6）在硅酸鹽中，SiO₄^4－四面體(如下圖(a))通過共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結構型式。圖(b)為一種無限長單鏈結構的多硅酸根，其中Si原子的雜化形式為                  。Si與O的原子數(shù)之比為             。

草酸(乙二酸)可作還原劑和沉淀劑，用于金屬除銹、織物漂白和稀土生產(chǎn)。一種制備草酸(含2個結晶水)的工藝流程如右：

回答下列問題：

（1）CO和NaOH在一定條件下合成甲酸鈉、甲酸鈉加熱脫氫的化學反應方程式分別為：

                                、                                。

（2）該制備工藝中有兩次過濾操作，過濾操作①的濾液是           ，濾渣是       ；過濾操作②的濾液是_            和             ，濾渣是             。

（3）工藝過程中③和④的目的是                                      。

（4）有人建議甲酸鈉脫氫后直接用硫酸酸化制備草酸。該方案的缺點是產(chǎn)品不純，其中含有的雜質主要是                                        。

（5）結晶水合草酸成品的純度用高錳酸鉀法測定。

稱量草酸成品0.250 g溶于水，用0.0500 mol·L^-1的酸性KMnO₄溶液滴定，至淺粉紅色不消褪，消耗KMnO₄溶液15.00 mL，反應的離子方程式為                           ；

列式計算該成品的純度                                                 。

試運用所學知識，回答下列問題：

（1）已知某反應的平衡表達式為： ，它所對應的化學方程式為：

（2）已知在400℃時，N₂ (g)+ 3H₂(g) 2NH₃(g) △H<0 的K=0.5，則400℃時，在0.5L的反應容器中進行合成氨反應，一段時間后，測得N₂、H₂、NH₃的物質的量分別為2mol、1mol、2mol，則此時反應v(N₂)_正 v(N₂)_逆（填：＞、＜、＝、不能確定）

欲使得該反應的化學反應速率加快，同時使平衡時NH₃的體積百分數(shù)增加，可采取的正確措施是 （填序號）

A．縮小體積增大壓強 B．升高溫度 C．加催化劑 D．使氨氣液化移走

（3）在一定體積的密閉容器中，進行如下化學反應：A(g) + 3B(g) 2C(g) + D（s）ΔH，其化學平衡常數(shù)K與溫度t的關系如下表：

請完成下列問題：

①判斷該反應的ΔH 0（填“>”或“<”）

②在一定條件下，能判斷該反應一定達化學平衡狀態(tài)的是 （填序號）

A．3v(B)_（正）=2v(C)_（逆） B．A和B的轉化率相等

C．容器內壓強保持不變 D．混合氣體的密度保持不變

（4）以天然氣(假設雜質不參與反應)為原料的燃料電池示意圖如圖所示。

①放電時，負極的電極反應式為：

②假設裝置中盛裝100.0 mL 3.0 mol·L^—1 KOH溶液，放電時參與反應的氧氣在標準狀況下體積為8 960 mL。放電完畢后，電解質溶液中各離子濃度的大小關系為：

酸性條件下，錫在水溶液中有Sn²⁺、Sn⁴⁺兩種主要存在形式。SnSO₄是一種重要的硫酸鹽，廣泛應用于鍍錫工業(yè)，其制備路線如下：

回答下列問題：

（1） SnCl₂用鹽酸而不用水直接溶解的原因是：

加入錫粉的作用是：

（2） 反應I生成的沉淀為SnO，寫出該反應的化學方程式：

（3） 檢驗沉淀已經(jīng)“洗滌”干凈的操作是： （3分）

（4）反應Ⅱ硫酸的作用之一是控制溶液的pH。若溶液中c(Sn²⁺)=1.0mol·L^—1，則室溫下應控制溶液pH 。（已知：K_sp[Sn(OH)₂]=1.0×10^—26）

（5）酸性條件下，SnSO₄還可用作雙氧水的去除劑，試寫出所發(fā)生反應的離子方程式：

。

（6）潮濕環(huán)境中，鍍錫銅即使錫層破損也能防止形成銅綠，請結合有關的原理解釋其原因：

某溶液中的溶質由下列中的幾種離子構成：Na⁺、Fe³⁺、Cu²⁺、Ba²⁺、AlO₂^—、CO₃^2—、SO₃^2—、SO₄^2—。取該溶液進行有關實驗，實驗步驟及結果如下：

①向溶液中加入過量稀鹽酸，得到氣體甲和溶液甲；

②向溶液甲中加入過量NH₄HCO₃溶液，得到白色沉淀乙、氣體乙和溶液乙；

③向溶液乙中加入過量Ba(OH) ₂溶液，得到白色沉淀丙、氣體丙和溶液丙。

④檢驗氣體甲、氣體乙、氣體丙，都只含有一種成份，而且各不相同。

請回答下列問題：

（1）只根據(jù)實驗①能得出的結論是：　

（2）沉淀丙中一定含有： ，可能含有：

（3）該溶液中肯定存在的離子有：

（4）氣體乙分子的結構式為：　 　

（5）向溶液甲中加入NH₄HCO₃溶液至過量，該過程中可能發(fā)生反應的離子方程式為

； ； （根據(jù)需要，可不填完，也可補充）

對實驗Ⅰ～Ⅳ的實驗現(xiàn)象預測正確的是（    ）

A．實驗Ⅰ試管中紅色溶液逐漸變成無色溶液

B．實驗Ⅱ試管中出現(xiàn)淡黃色渾濁

C．實驗Ⅲ鐵棒上有無色氣泡產(chǎn)生

D．實驗Ⅳ中酸性KMnO₄溶液中出現(xiàn)氣泡且顏色逐漸褪去

化合物A、B、C、D各由兩種元素組成，甲、乙、丙是短周期元素的三種單質。這些常見的化合物與單質之間存在如下關系（已知C是一種有機物），以下結論不正確的（    ）

A．常溫下，化合物A、B、C、D均為氣體

B．上圖所示的五個轉化關系中，有三個是化合反應

C．上圖所示的五個轉化關系中，均為氧化還原反應

D．上述轉化關系所涉及的化合物中只有一種是電解質

氯氣在298K、101kPa時，在1L水中可溶解0.09mol，實驗測得溶于水的Cl₂約有三分之一與水反應。估算該反應的平衡常數(shù)（    ）

A．5.4×10^—5      B．4.5×10^{—4            C．0.015      D．無法計算}

關于下列各裝置圖的敘述不正確的是（ ）

① ② ③ ④

A．用圖①裝置精煉銅，a極為粗銅，b為精銅，電解質溶液為CuSO₄溶液

B．圖②裝置的鹽橋中KCl的Cl^—移向甲燒杯

C．圖③裝置中鋼閘門應與外接電源的正極相連獲得保護

D．圖④兩個裝置中通過導線的電子數(shù)相同時，消耗負極材料的物質的量不同

化學科學需要借助化學專用語言來描述，下列有關化學用語正確的是（　�。�

A．氫化銨的電子式： B．甲醇分子的球棍模型：

C．次氯酸分子的結構式： D．Ge原子結構示意圖：