(1)基態(tài)Ge原子的核外電子排布式為[Ar]____,有____個(gè)未成對(duì)電子。

(2)比較下列鍺鹵化物的熔點(diǎn)和沸點(diǎn),分析其變化規(guī)律及原因________________________________。

(3)光催化還原CO2制備CH4反應(yīng)中,帶狀納米Zn2GeO4是該反應(yīng)的良好催化劑。Zn、Ge、O電負(fù)性由大至小的順序是____________。

(4)Ge單晶具有金剛石型結(jié)構(gòu),其中Ge原子的雜化方式為____,微粒之間存在的作用力是____。

(5)晶胞有兩個(gè)基本要素:

①原子坐標(biāo)參數(shù),表示晶胞內(nèi)部各原子的相對(duì)位置。如圖為Ge單晶的晶胞,其中原子坐標(biāo)參數(shù)A為(0,0,0);B為(1/2,0,1/2);C為(1/2,1/2,0)。則D原子的坐標(biāo)參數(shù)為____。

②晶胞參數(shù),描述晶胞的大小和形狀。已知Ge單晶的晶胞參數(shù)a pm,其密度為_________g·cm-3(列出計(jì)算式即可)。

CuCl2(s)=CuCl(s)+ Cl2(g) ΔH1=83 kJ·mol 1

CuCl(s)+O2(g)=CuO(s)+Cl2(g) ΔH2= 20 kJ·mol 1

CuO(s)+2HCl(g)=CuCl2(s)+H2O(g) ΔH3= 121 kJ·mol 1

則4HCl(g)+O2(g)=2Cl2(g)+2H2O(g)的ΔH=_________ kJ·mol 1。其中O2的電子式為__________

(2)硅粉與HCl在300℃時(shí)反應(yīng)生成1mol SiHCl3氣體和H2 ，放出225KJ熱量，該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式為________________________。SiHCl3中含有的化學(xué)鍵類型為__________

(3)將SiCl4氫化為SiHCl3有三種方法，對(duì)應(yīng)的反應(yīng)依次為：

①SiCl4(g)+H2(g)SiHCl3(g)+HCl(g) ΔH1＞0

②3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g) ΔH2＜0

③2SiCl4(g)+H2(g)+Si(s)+HCl(g)3SiHCl3(g) ΔH3

則反應(yīng)③的ΔH3______(用ΔH1，ΔH2表示)。

(4)二氧化氯是目前國際上公認(rèn)的第四代高效、無毒的廣譜消毒劑,它可由KClO3在H2SO4存在下與Na2SO3反應(yīng)制得.請(qǐng)寫出反應(yīng)的離子方程式________________________

(5)氯化銨常用作焊接．如：在焊接銅器時(shí)用氯化銨除去銅器表面的氧化銅以便焊接，其反應(yīng)為：_______CuO+______NH4Cl______Cu+______CuCl2+______N2↑+______H2O

①配平此氧化還原反應(yīng)方程式___________________________

②此反應(yīng)中若產(chǎn)生0.2mol的氣體，則有__________mol的電子轉(zhuǎn)移．

A. 斷裂1 mol H2O中的化學(xué)鍵需要吸收925.6 kJ的能量

B. 2H2(g)＋O2(g)===2H2O(g)　ΔH＝－480.4 kJ·mol－1

C. 2H2O(l)===2H2(g)＋O2(g)　ΔH＝471.6 kJ·mol－1

D. H2(g)＋O2(g)===H2O(l)　ΔH＝－240.2 kJ·mol－1

A.AB.BC.CD.D

A.斷開K1、閉合K2，一段時(shí)間后電流計(jì)指針歸零，此時(shí)兩池Ag+濃度相等

B.斷開K1、閉合K2，當(dāng)轉(zhuǎn)移0.1mol e-時(shí)，乙池溶液質(zhì)量增加17.0 g

C.當(dāng)電流計(jì)指針歸零后，斷開K2、閉合K1，一段時(shí)間后B電極的質(zhì)量增加

D.當(dāng)電流計(jì)指針歸零后，斷開K2、閉合K1，乙池溶液濃度增大

A.AB.BC.CD.D

A.該反應(yīng)屬于化合反應(yīng)

B.a與溴水在鐵作催化劑條件下反應(yīng)生成溴苯

C.b中最多有14個(gè)原子共平面

D.b的二氯代物有10種結(jié)構(gòu)

A. 室溫下用稀NaOH溶液吸收Cl2：Cl2+2OHClO+Cl+H2O

B. 用鋁粉和NaOH溶液反應(yīng)制取少量H2：Al+2OH+H2↑

C. 室溫下用稀HNO3溶解銅：Cu+2+2H+Cu2++2NO2↑+H2O

D. 向Na2SiO3溶液中滴加稀鹽酸：Na2SiO3+2H+H2SiO3↓+2Na+

【題目】設(shè)NA表示阿伏加德羅常數(shù)的值。硫化鈉廣泛應(yīng)用于冶金染料、皮革、電鍍等工業(yè)。硫化鈉的一種制備方法是Na2SO4＋2CNa2S＋2CO2↑。下列說法正確的是

A.4.2g14C原子含中子數(shù)目為1.8NA

B.1L0.1mol/LNa2S溶液中含陰離子的數(shù)目小于0.1NA

C.該反應(yīng)中，若生成1mol氧化產(chǎn)物，轉(zhuǎn)移電子數(shù)目為4NA

D.常溫下2.24LCO2中共用電子對(duì)數(shù)目為0.4NA

A. 電池總反應(yīng)式為：2Mg＋O2＋2H2O＝2Mg(OH)2

B. 正極反應(yīng)式為：Mg－2e－＝Mg2＋

C. 活性炭一極為正極

D. 電子的移動(dòng)方向由a經(jīng)外電路到b