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近聞美國和日本正在研究用Na2SO3吸收法作為治理SO2污染的一種新方法。第一步是用Na2SO3溶液吸收SO2生成NaHSO3;第二步是加熱吸收液,使之重新生成Na2SO3,同時得到含高濃度SO2的副產(chǎn)品。試寫出上述兩步反應(yīng)的化學(xué)方程式。
第一步:__________________________________________________
第二步:__________________________________________________
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單晶硅是制作電子集成電路的基礎(chǔ)材料?茖W(xué)家預(yù)計,到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管,其功能遠比我們想象的要大的多,這對硅的純度要求很高。用化學(xué)方法可制得高純度硅,其化學(xué)方程式為: ①SiO2 + 2CSi + 2CO
②Si + 2Cl2SiCl4 ③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl,其中反應(yīng)①和③屬于( )
A.化合反應(yīng) B.分解反應(yīng)
C.置換反應(yīng) D.復(fù)分解反應(yīng)
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某些化學(xué)試劑可用于凈水。水處理中使用的一種無機離分子混凝荊的化學(xué)式可表示為[Al2(OH)nClmyH2O]x,式中m等于 ( )
A.3—n B.6-n C.6+n D.3+n
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元素X、Y、Z原子序數(shù)之和為37,X、Y在同一周期,X+與Z-具有相同的核外電子層結(jié)構(gòu)。下列推測不正確的是 ( )
A.同周期元素中X的金屬性最強
B.原子半徑X>Y,離子半徑X+>Z-
C.同族元素中Z的氫化物穩(wěn)定性最高
D.同周期元素中Y的最高價含氧酸的酸性最強
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a g下列物質(zhì)在氧氣中充分燃燒后的氣體(1.01×105 Pa,120℃),通過足量的過氧化鈉充分反應(yīng)后,過氧化鈉增重b g,符合b>a 的選項有
A.HCHO B.CH3COOCH2CH3 C.HOOCCOOH D.HCOOH
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下列圖中A-F是中學(xué)化學(xué)常見化合物,且A﹑B﹑E﹑F均含有相同一種金屬元素,G是一種常見單質(zhì)。
①A(固體) B + C + D ②C + E → B + G; ③ D + E → F + G
④A(溶液)+F(溶液)→B(溶液)+D ⑤B(溶液) + C + D → A(溶液)
(1)寫出A﹑B﹑C﹑E﹑F的化學(xué)式:A__________ B_________ C__________
E__________ F__________
(2)寫出反應(yīng)①②④⑤的化學(xué)方程式:
①_________________________________________________
②_________________________________________________
④_________________________________________________
⑤_________________________________________________
(3)請寫出化合物E的兩種重要用途:____________________________
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下列各組離子,在溶液中能大量共存、加入NaOH溶液后加熱既有氣體放出又有沉淀生成的一組是
A.Ba2+、NO3-、NH4+、Cl-B.Ca2+、HCO3-、NH4+、AlO2-
C.K+、Ba2+、Cl-、HSO3-D.Mg2+、NH4+、SO42-、K+
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向300mL KOH溶液中緩慢通入2.24L(標(biāo)準(zhǔn)狀況) CO2氣體,充分反應(yīng)后,在減壓低溫下蒸發(fā)溶液,得到19.4g白色固體。則下列說法中正確的是 ( )
A.此白色固體僅含K2CO3
B.此白色固體是K2CO3和KHCO3的混合物
C.原溶液中含KOH的質(zhì)量是11.2g
D.原KOH溶液的物質(zhì)的量濃度是1 mol/L
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