科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.CuFeS2既是氧化劑又是還原劑,硫元素既被氧化又被還原 | B.每生成1molSO2轉(zhuǎn)移6mol電子 |
C.SO2既是氧化產(chǎn)物又是還原產(chǎn)物,F(xiàn)eS只是還原產(chǎn)物 | D.每轉(zhuǎn)移1.2 mol電子,有0.3 mol氧氣被還原 |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.由此反應(yīng)可知氧化性K2Cr2O7>Cl2 |
B.氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量之比為1:6 |
C.當(dāng)轉(zhuǎn)移0.2mol電子時(shí),生成的還原產(chǎn)物的物質(zhì)的量為0.1mol |
D.發(fā)生氧化還原反應(yīng)的氯元素與參加反應(yīng)的氯元素的比為3:7 |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.Cu2S既是氧化產(chǎn)物,又是還原產(chǎn)物 |
B.產(chǎn)物中的SO42-有一部分是氧化產(chǎn)物 |
C.5molFeS2發(fā)生反應(yīng)時(shí),有l(wèi)0mol電子轉(zhuǎn)移 |
D.FeS2只做還原劑 |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.Cl2是氧化劑,NaOH是還原劑 |
B.當(dāng)有6.72L Cl2反應(yīng)時(shí),轉(zhuǎn)移電子物質(zhì)的量為0.5mol |
C.氧化劑得電子總數(shù)與還原劑失電子總數(shù)之比為1∶1 |
D.被氧化的氯原子和被還原的氯原子的物質(zhì)的量之比為5∶1 |
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科目: 來源:不詳 題型:填空題
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.用SO2漂白紙漿和草帽辮 |
B.用氯化鐵溶液腐蝕印刷線路板上的銅膜 |
C.用犧牲陽(yáng)極的陰極保護(hù)法防止金屬被腐蝕 |
D.高溫下用焦炭還原SiO2制取粗硅 |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
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A.①② | B.①③ | C.②③ | D.②④ |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.離子半徑:Na+>N3->H+ |
B.反應(yīng)①和②都是氧化還原反應(yīng) |
C.反應(yīng)②每生成1molH2,轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為NA |
D.Na3N和NaH與鹽酸反應(yīng)都只生成一種鹽 |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.分解反應(yīng) | B.復(fù)分解反應(yīng) | C.吸熱反應(yīng) | D.銀鏡反應(yīng) |
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科目: 來源:不詳 題型:單選題
A.N2O4在反應(yīng)中被氧化 |
B.(CH3)2NNH2具有還原性 |
C.反應(yīng)中1mol N2O4得到4mol e- |
D.液氫與液氧的反應(yīng)中,液氫與液氧的體積比為2:1 |
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