Question

【題目】科學(xué)家取患有干皮�。ê�(jiǎn)稱XP，病人的DNA損傷和突變修復(fù)系統(tǒng)缺陷，對(duì)紫外線極端敏感，）和正常人的皮膚細(xì)胞，分別暴露在紫外線下培養(yǎng)，觀察紫外線對(duì)DNA復(fù)制的影響，培養(yǎng)基中加入3H（重氫）標(biāo)記的堿基，培養(yǎng)一代，然后密度梯度離心，下列敘述錯(cuò)誤的是（ ）

A.照射過(guò)紫外線的XP細(xì)胞會(huì)復(fù)制DNA，但沒(méi)有未照射過(guò)的XP細(xì)胞好

B.照射過(guò)的XP細(xì)胞和未照射過(guò)的正常細(xì)胞復(fù)制的一樣好

C.紫外線照射過(guò)的細(xì)胞不能復(fù)制DNA

D.紫外線對(duì)XP細(xì)胞和正常細(xì)胞的DNA復(fù)制都有抑制

Answer 1

【答案】BC

【解析】

培養(yǎng)基中加入3H（重氫）標(biāo)記的堿基，培養(yǎng)一代，如果DNA進(jìn)行復(fù)制，新形成的DNA就會(huì)3H（重氫）標(biāo)記的堿基，通過(guò)密度梯度離心的結(jié)果可以判斷DNA復(fù)制的次數(shù)，據(jù)圖可知，XP細(xì)胞和正常細(xì)胞未照光條件下都比照光條件下復(fù)制次數(shù)更多，據(jù)此答題。

A、由圖可知，照射過(guò)紫外線的XP細(xì)胞復(fù)制DNA次數(shù)比未照射過(guò)的XP細(xì)胞少，A正確；

B、照射過(guò)的XP細(xì)胞比未照射過(guò)的正常細(xì)胞復(fù)制次數(shù)少，B錯(cuò)誤；

C、紫外線照射過(guò)的細(xì)胞也能復(fù)制DNA，C錯(cuò)誤；

D、由圖可知，紫外線對(duì)XP細(xì)胞和正常細(xì)胞的DNA復(fù)制都有抑制，D正確。

故選BC。