用石英與焦炭制取硅的反應(yīng)中，氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物的物質(zhì)的量之比為

1. A.
   2∶1
2. B.
   1∶2
3. C.
   1∶1
4. D.
   3∶2

氯堿工業(yè)中，通過電解飽和食鹽水獲得重要的化工原料：氯氣、氫氣和氫氧化鈉．其中氯氣用途十分廣泛，除用于凈水、環(huán)境消毒外，還用于生產(chǎn)鹽酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等．
（1）工業(yè)上可用氯氣和石灰乳為原料制造漂白粉，漂白粉為______（填“純凈物”或“混合物”），制備漂白粉的化學(xué)方程式為______．
（2）工業(yè)上生產(chǎn)半導(dǎo)體材料硅的流程如圖所示：

①石英砂的主要成分是二氧化硅，在制備粗硅時(shí)，焦炭的作用是______．（填“氧化劑”或“還原劑”）
②粗硅與氯氣反應(yīng)后得到沸點(diǎn)較低的液態(tài)四氯化硅，其中�；煊幸恍└叻悬c(diǎn)、難揮發(fā)性雜質(zhì)，必須進(jìn)行分離提純．其提純方法為______．（填字母）
A．蒸餾　　　　　B．過濾　　　　 C．萃取　　　　D．蒸發(fā)
③四氯化硅與氫氣在高溫條件下反應(yīng)得到高純硅和氯化氫氣體，寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式：______．

)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上可用焦炭與二氧化硅的混合物在高溫下與氯氣反應(yīng)生成SiCl4和CO，SiCl4經(jīng)提純后用氫氣還原得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備SiCl4的裝置示意圖。

實(shí)驗(yàn)過程中，石英砂中的鐵、鋁等雜質(zhì)也能轉(zhuǎn)化為相應(yīng)氯化物，SiCl4、AlCl3、FeCl3遇水均易水解，有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表：

請(qǐng)回答下列問題：

（1）寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式：_____________， 裝置D的硬質(zhì)玻璃管中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是????????????????????????? 。

（2）裝置C中的試劑是?????????? ； D、E間導(dǎo)管短且粗的原因是????????????? 。

（3）G中吸收尾氣一段時(shí)間后，吸收液中肯定存在OH－、Cl－和SO42-。請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)，探究該吸收液中可能存在的其他酸根離子（忽略空氣中CO2的影響）。

【提出假設(shè)】假設(shè)1：只有SO32-；假設(shè)2：既無SO32-也無ClO－；假設(shè)3：?????? 。

【設(shè)計(jì)方案，進(jìn)行實(shí)驗(yàn)】可供選擇的實(shí)驗(yàn)試劑有：3 mol/L H2SO4、1 mol/L NaOH、0.01 mol/L KMnO4、溴水、淀粉-KI、品紅等溶液。

取少量吸收液于試管中，滴加3 mol/L H2SO4至溶液呈酸性，然后將所得溶液分置于a、b、c三支試管中，分別進(jìn)行下列實(shí)驗(yàn)。請(qǐng)完成下表：