R2-的M電子層與L電子層的電子數(shù)目相等. 元素R應(yīng)處于周期表的 周期 族. 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

R2-的M電子層與L電子層的電子數(shù)目相等,元素R應(yīng)處于周期表的_________周期________族

查看答案和解析>>

精英家教網(wǎng)已知A、D、E、G、L、M是核電荷數(shù)依次增大的6種短周期主族元素,其中A的原子序數(shù)與周期序數(shù)相等,D、G、L、M基態(tài)原子的最外能層均有2個(gè)未成對電子.R+核外有28個(gè)電子.請回答下列問題:(答題時(shí),A、D、E、G、L、M、R用所對應(yīng)的元素符號表示)
(1)E、G、M的第一電離能由大到小的順序?yàn)?!--BA-->
 

(2)如圖所示是由Q、R、G三種元素組成的一種高溫超導(dǎo)體的晶胞結(jié)構(gòu),其中R為+2價(jià),G為-2價(jià).基態(tài)R2+的核外電子排布式為
 
;Q的化合價(jià)為
 
價(jià).
(3)1mol晶體L中含有δ鍵的數(shù)目為
 

(4)G與M可形成MG3與MG2,MG3分子的空間構(gòu)型是
 
,MG2中M原子的雜化方式是
 

(5)在(EA42R(MG42中存在的化學(xué)鍵除極性鍵外,還有
 
(填字母).
a.離子鍵    b. 氫鍵    c.配位鍵    d.金屬鍵.

查看答案和解析>>

已知A、D、E、G、L、M是核電荷數(shù)依次增大的6種短周期主族元素,其中A的原子序數(shù)與周期序數(shù)相等,D、G、L、M基態(tài)原子的最外能層均有2個(gè)未成對電子。R+核外有28個(gè)電子。請回答下列問題:(答題時(shí),A、D、E、G、L、M、R用所對應(yīng)的元素符號表示)

(1)E、G、M的第一電離能由大到小的順序?yàn)?               。

(2)下圖是由Q、R、G三種元素組成的一種高溫超導(dǎo)體的晶胞結(jié)構(gòu),其中R為+2價(jià),G為-2價(jià)。基態(tài)R2+的核外電子排布式為               ;Q的化合價(jià)為               價(jià)。

(3)1 mol晶體L中含有δ鍵的數(shù)目為          。

(4)G與M可形成MG3與MG2,MG3分子的空間構(gòu)型是            ,MG2中M原子的雜化方式是    。

(5)在(EA4)2R(MG4)2中存在的化學(xué)鍵除極性鍵外,還有          (填字母)。 

a.離子鍵    b. 氫鍵    c.配位鍵    d.金屬鍵 

 

查看答案和解析>>

已知A、D、E、G、L、M是核電荷數(shù)依次增大的6種短周期主族元素,其中A的原子序數(shù)與周期序數(shù)相等,D、G、L、M基態(tài)原子的最外能層均有2個(gè)未成對電子。R+核外有28個(gè)電子。請回答下列問題:(答題時(shí),A、D、E、G、L、M、R用所對應(yīng)的元素符號表示)
(1)E、G、M的第一電離能由大到小的順序?yàn)?               。
(2)下圖是由Q、R、G三種元素組成的一種高溫超導(dǎo)體的晶胞結(jié)構(gòu),其中R為+2價(jià),G為-2價(jià);鶓B(tài)R2+的核外電子排布式為              ;Q的化合價(jià)為               價(jià)。

(3)1 mol晶體L中含有δ鍵的數(shù)目為          。
(4)G與M可形成MG3與MG2,MG3分子的空間構(gòu)型是           ,MG2中M原子的雜化方式是   。
(5)在(EA4)2R(MG4)2中存在的化學(xué)鍵除極性鍵外,還有         (填字母)。 
a.離子鍵    b. 氫鍵    c.配位鍵    d.金屬鍵 

查看答案和解析>>

已知:J、L、M、R、T是原子序數(shù)依次增大的短周期主族元素;J元素最低負(fù)化合價(jià)的絕對值與其原子最外層電子數(shù)相等;L的最簡單氣態(tài)氫化物甲的水溶液顯堿性;M是地殼中含量最多的金屬元素;R形成簡單的陰離子R2-與Ar的電子層結(jié)構(gòu)相同.則
(1)M的離子電子式為
Al3+
Al3+
;
(2)元素T在周期表中的位置是
第三周期ⅦA族
第三周期ⅦA族
;
(3)用電子式表式JR2的形成過程

(4)M和T形成的化合物(MT3)在潮濕的空氣中冒白色煙霧,反應(yīng)的化學(xué)方程式為:
AlCl3+3H2O?Al(OH)3+3HCl
AlCl3+3H2O?Al(OH)3+3HCl
.(提示:此反應(yīng)為非氧化還原反應(yīng)).
(5)在微電子工業(yè)中,甲的水溶液可作刻蝕劑H2O2 的清除劑,所發(fā)生反應(yīng)的產(chǎn)物不污染環(huán)境,其化學(xué)方程式為
2NH3?H2O+3H2O2═N2+8H2O
2NH3?H2O+3H2O2═N2+8H2O

查看答案和解析>>


同步練習(xí)冊答案