20.工業(yè)上利用電解飽和食鹽水生產(chǎn)氯氣(Cl2).燒堿和氫氣. (1)該反應(yīng)的化學(xué)方程式是: 2NaCl + 2H2O 電解 2NaOH + Cl2↑ + H2↑ .改寫成離子方程式是 2Cl- + 2H2O 電解 2OH- + Cl2↑ + H2↑ . (2)電解食鹽水的過程中.被氧化的元素是 氯元素 .被還原的元素是 氫元素 . (3)電解食鹽水要求對(duì)粗食鹽水進(jìn)行精制.以除去粗食鹽水中含有的泥沙和SO42-.Ca2+.Mg2+等雜質(zhì)離子.精制時(shí)依次加入氯化鋇溶液.純堿.燒堿.充分反應(yīng)后過濾.在濾液中加入鹽酸中和至中性. ①氯化鋇.純堿.燒堿分別除去的離子是 SO42- . Ba2+ .Ca2+ . Mg2+ . ②鹽酸中和濾液的離子方程式: H+ + OH- == H2O . 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

工業(yè)上利用電解飽和食鹽水生產(chǎn)氯氣(Cl2)、燒堿和氫氣。
(1)該反應(yīng)的化學(xué)方程式是:                                
(2)電解食鹽水的過程中,被氧化的元素是                 ,被還原的元素是                     。
(3)電解食鹽水要求對(duì)粗食鹽水進(jìn)行精制,以除去粗食鹽水中含有的泥沙和SO42-、Ca2+、Mg2+等雜質(zhì)離子。精制時(shí)依次加入氯化鋇溶液、純堿、燒堿,充分反應(yīng)后過濾,在濾液中加入鹽酸中和至中性。
①氯化鋇、純堿、燒堿分別除去的離子是               、                   、                  。
②鹽酸中和濾液的離子方程式:                      

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氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下:

依據(jù)上圖,完成下列填空:

(1)在電解過程中,與電源正極相連的電極上所發(fā)生反應(yīng)的方程式為___________________。與電源負(fù)極相連的電極附近溶液Ph_________(填“不變”“升高”或“降低”)。

(2)工業(yè)食鹽含Ca2+、Mg2+等雜質(zhì),精制過程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為______________。

(3)如果粗鹽中含量較高,必須添加鋇試劑除去,該試劑可以是_____________。

a.Ba(OH)2                 b.Ba(NO3)2               c.BaCl2

(4)為有效除去Ca2+、Mg2+、,加入試劑的合理順序?yàn)開__________(選a、b、c)。

a.先加NaOH,后加Na2CO3,再加鋇試劑

b.先加NaOH,后加鋇試劑,再加Na2CO3

c.先加鋇試劑,后加NaOH,再加Na2CO3

(5)脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異,通過___________、冷卻、_________(填寫操作名稱)除去NaCl。

(6)在用陽離子交換膜法電解食鹽水時(shí),電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū),可防止Cl2與NaOH反應(yīng)。采用無隔膜電解冷的食鹽水時(shí),Cl2與NaOH充分反應(yīng),產(chǎn)物最終僅有NaClO和H2,相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)方程式為___________________________、_______________________。

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氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下:   

依據(jù)上圖,完成下列填空:

    (1)工業(yè)食鹽中含Ca2+、Mg2+等雜質(zhì),精制過程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為     ___________________________,___________________________。

    (2)如果粗鹽中含量較高,必須添加鋇試劑除去,該鋇試劑可以是________________。

    a.Ba(OH)2?b.Ba(NO32?c.BaCl2

    (3)為有效除去Ca2+、Mg2+、,加入試劑的合理順序?yàn)開___________。

    a.先加NaOH,后加Na2CO3,再加鋇試劑

    b.先加NaOH,后加鋇試劑,再加Na2CO3

    c.先加鋇試劑,后加NaOH,再加Na2CO3

    (4)脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異,通過______________、冷卻、______________除去NaCl。(填寫操作名稱)

    (5)電解食鹽水時(shí),總的反應(yīng)方程式為____________________________。

    (6)在隔膜法電解食鹽水時(shí),電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū),防止Cl2與NaOH反應(yīng);采用無隔膜電解冷的食鹽水時(shí),Cl2與NaOH充分接觸,產(chǎn)物僅是NaClO和H2,相應(yīng)的化學(xué)方程式為____________________________。

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氯堿廠電解飽和食鹽水制取NaOH的工藝流程示意圖如下:   

依據(jù)上圖,完成下列填空:

    (1)工業(yè)食鹽中含Ca2+、Mg2+等雜質(zhì),精制過程中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為     ___________________________,___________________________。

    (2)如果粗鹽中含量較高,必須添加鋇試劑除去,該鋇試劑可以是________________。

    a.Ba(OH)2?b.Ba(NO32?c.BaCl2

    (3)為有效除去Ca2+、Mg2+、,加入試劑的合理順序?yàn)開___________。

    a.先加NaOH,后加Na2CO3,再加鋇試劑

    b.先加NaOH,后加鋇試劑,再加Na2CO3

    c.先加鋇試劑,后加NaOH,再加Na2CO3

    (4)脫鹽工序中利用NaOH和NaCl在溶解度上的差異,通過______________、冷卻、______________除去NaCl。(填寫操作名稱)

    (5)電解食鹽水時(shí),總的反應(yīng)方程式為____________________________。

    (6)在隔膜法電解食鹽水時(shí),電解槽分隔為陽極區(qū)和陰極區(qū),防止Cl2與NaOH反應(yīng);采用無隔膜電解冷的食鹽水時(shí),Cl2與NaOH充分接觸,產(chǎn)物僅是NaClO和H2,相應(yīng)的化學(xué)方程式為____________________________。

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工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料,其中部分原料可用于制備多晶硅。

(1)如圖是離子交換膜法電解飽和食鹽水示意圖。電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是____________;NaOH溶液的出口為___________(填字母);精制飽和食鹽水的進(jìn)口為___________(填字母);干燥塔中應(yīng)使用的液體是___________。

(2)多晶硅主要采用SiHCl3還原工藝生產(chǎn),其副產(chǎn)物SiCl4的綜合利用受到廣泛關(guān)注。

①SiCl4可制氣相白炭黑(與光導(dǎo)纖維主要原料相同),方法為高溫下SiCl4與H2和O2反應(yīng),產(chǎn)物有兩種,化學(xué)方程式為____________________________________________。

②SiCl4可轉(zhuǎn)化為SiHCl3而循環(huán)使用。一定條件下,在20 L恒容密閉容器中的反應(yīng):

3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)4SiHCl3(g)

達(dá)平衡后,H2和SiHCl3物質(zhì)的量濃度分別為0.140 mol/L和0.020 mol/L,若H2全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物,理論上需消耗純NaCl的質(zhì)量為___________kg。

(3)采用無膜電解槽電解飽和食鹽水,可制取氯酸鈉,同時(shí)生成氫氣。現(xiàn)制得氯酸鈉213.0 kg,則生成氫氣_________m3(標(biāo)準(zhǔn)狀況)。

 

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