將1 mol的HCL溶解于1L水中.和將1 mol的HCL溶解于水配制成1L溶液.二者所得溶液的濃度是否一樣? . 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

標(biāo)準(zhǔn)狀況下,1體積水中能溶解500體積的HCl氣體.
(1)若向水中通入標(biāo)準(zhǔn)狀況下的44.8LHCl氣體配成1L溶液,假設(shè)氣體完全溶解,得溶液中含HCl的物質(zhì)的量濃度為
2mol/L
2mol/L

(2)從該溶液中取出10mL濃鹽酸溶解于水配制成250mL溶液,實(shí)驗(yàn)時(shí)應(yīng)選用儀器是
CEFGH
CEFGH
(填字母);
若實(shí)驗(yàn)儀器有:
A.托盤(pán)天平、B.100mL量筒、C.玻璃棒、D.100mL容器瓶、E.10mL量筒、F.膠頭滴管、G.燒杯、H.250mL容量瓶.
配制后的稀溶液中含HCl物質(zhì)的量濃度為
0.8 mol/L
0.8 mol/L

(3)在容量瓶的使用方法中,下列操作不正確的是
BCD
BCD
(填字母);
A.使用容量瓶前檢查其是否漏水.
B.容量瓶用蒸餾水洗凈后,再用待配溶液洗滌.
C.配制溶液時(shí),如果試樣是固體,把稱(chēng)好的試樣用紙條小心倒入容量瓶中,緩慢加入蒸餾水到接近刻度線(xiàn)1-2cm處,用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線(xiàn).
D.配制溶液時(shí),如果試樣是液體,用量筒量取試樣后直接倒入容量瓶中,緩慢加入蒸餾水到接近刻度線(xiàn)1-2cm處,用膠頭滴管滴加蒸餾水到刻度線(xiàn).
E.蓋好瓶蓋,用食指頂住瓶塞,用另一只手的手指托住瓶底,把容量瓶倒轉(zhuǎn)和搖動(dòng)多次
(4)配制過(guò)程中,造成濃度偏低的操作可能有
BCD
BCD
(選填下列操作的序號(hào)).
A.容量瓶蒸餾水洗后未加干燥
B.量筒用蒸餾水洗后未干燥
C.將燒杯中濃鹽酸移入容量瓶后,未用水洗滌燒杯,即向容量中加水到刻度
D、用膠頭滴管向容量瓶中加水時(shí),不慎超過(guò)刻度線(xiàn),用另外膠頭滴管從瓶中吸出部分溶液使剩余溶液剛巧達(dá)刻度線(xiàn)
E.定容時(shí),俯視液面加水至刻度線(xiàn).

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高純硅是當(dāng)今科技的核心材料.工業(yè)上,用氫氣還原四氯化硅制得高純硅的反應(yīng)為SiCl4(g)+2H2(g)
高溫
Si(s)+4HCl(g).已知SiCl4可完全水解生成硅酸和鹽酸.向容積為1L的密閉容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分別在T1和T2溫度時(shí)進(jìn)行反應(yīng).SiCl4的物質(zhì)的量隨時(shí)間變化情況如下表所示:
時(shí)間/min 0 2 4 t1 t2
n(SiCl4)/mol
溫度/℃
T1 5.0 4.5 4.2 n1 n1
T2 5.0 4.2 3.6 n2 n2
(1)T1時(shí),反應(yīng)開(kāi)始的2min內(nèi),用HCl表示的反應(yīng)速率為
 

(2)該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為:K=
 

(3)保持其他條件不變,下列措施可提高SiCl4轉(zhuǎn)化率的是
 

a.充入更多的SiCl4(g)    b.充入更多的H2(g)         c.及時(shí)分離出Si(s)
d.使用催化劑           e.將容器的體積擴(kuò)大一倍
(4)據(jù)上表中的數(shù)據(jù)分析:T1
 
  T2(填“>”或“<”,下同),理由是
 

已知n1>n2,△H
 
0.
(5)有同學(xué)認(rèn)為,采用水淋法來(lái)吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率.該認(rèn)識(shí)
 
(填“合理”或“不合理”),理由是
 

(6)將平衡后的混合氣體溶于水,取少量上層清液,向其中滴加足量的AgNO3溶液,反應(yīng)后過(guò)濾,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可觀(guān)察到
 

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