工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下: SiCl4(g)+2H2(g)===Si,△H=+QkJ·mol-1某溫度.壓強(qiáng)下.將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng).下列敘述正確的是( ) A.反應(yīng)過程中.若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率 B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol.則達(dá)到平衡時(shí).吸收熱量為QkJ C.反應(yīng)至4min時(shí).若HCl的濃度為0.12mol·L-1.則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/ D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí).生成的HCl通入100mL1mol·L-1的NaOH恰好反應(yīng) [答案]D 查看更多

 

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:
SiCl4(g)+2H2(g)?Si(s)+4HCl(g);△H=+QKJ/mol(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是( 。

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g)?Si(g)+4HCl(g);△H=+Q kJ?mol-1(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng),下列敘述正確的是( 。

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:

SiCl4(g)+2H2(g)=Si(s)+4HCl(g);mol(Q>0)

某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是

A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1 mol,則達(dá)平衡時(shí),吸收熱量為Q kJ

C.反應(yīng)至4 min時(shí),若HCl濃度為0.12 mol/L,則H2的反應(yīng)速率為0.03 mol/(L·min)

D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025Q kJ時(shí),生成的HCl通入100 mL 1 mol/L的NaOH溶液恰好反應(yīng)

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:

 SiCl4(g)+2H2(g)===Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol1(Q>0)

某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(   ) zxxk.com

A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ

C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L1的NaOH恰好反應(yīng)

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:

     SiCl4(g)+2H2(g)===Si(s)+4HCl(g);△H=+QkJ·mol1(Q>0)

某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是(   )

A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B.若反應(yīng)開始時(shí)SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時(shí),吸收熱量為QkJ

C.反應(yīng)至4min時(shí),若HCl的濃度為0.12mol·L1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)

D.當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025QkJ時(shí),生成的HCl通入100mL1mol·L1的NaOH恰好反應(yīng)

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