(07年高考理綜天津卷?7)2007年3月21日，我國公布了111號元素Rg的中文名稱。該元素名稱及所在周期是

A．钅侖　 第七周期　　　　　　　　　　　　　　　 B．鐳 第七周期

C．錸 第六周期　　　　　　　　　　　　　　　　　 D．氡 第六周期

（09廣東卷）.（分） 甲酸甲酯水解反應方程式為：

HCOOCH₃(l)+H₂O(l)HCOOH(l)+CH₃OH(l)；△H>0

某小組通過試驗研究該反應（反應過程中體積變化忽略不計）。反應體系中各組分的起始量如下表：

甲酸甲酯轉化率在溫度T₁下隨反應時間（t）的變化如下圖：

（1）根據(jù)上述條件，計算不同時間范圍內甲酸甲酯的平均反應速率，結果見下表：

請計算15-20min范圍內甲酸甲酯的減少量為           mol，甲酸甲酯的平均反應速率為       mol·min^-1(不要求寫出計算過程)。

   （2）依據(jù)以上數(shù)據(jù)，寫出該反應的反應速率在不同階段的變化規(guī)律及其原因：          。

   （3）上述反應的平衡常數(shù)表達式為：，則該反應在溫度T₁下的K值為              。

    （4）其他條件不變，僅改變溫度為T₂（T₂大于T₁），在答題卡框圖中畫出溫度T₂下甲酸甲酯轉化率隨反應時間變化的預期結果示意圖。

A、醋酸溶液中離子濃度的關系滿足：c（H^＋）＝c（OH^－）＋c（CH₃COO^－）

    B、0.10mol/L的CH₃COOH溶液加水稀釋，溶液中c（OH^－）減小

    C、CH₃COOH溶液中加入少量的CH₃COONa固體，平衡逆向移動

   D、常溫下，pH＝2的CH₃COOH溶液與pH＝12的NaOH溶液等體積混合后，溶液的pH＜7

（06年天津卷）（19分）晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅

②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl₃：Si＋3HClSiHCl₃＋H₂

③SiHCl₃與過量H₂在1000～1100℃反應制得純硅

已知SiHCl₃，能與H₂O強烈反應，在空氣中易自燃。

請回答下列問題：

（1）第①步制備粗硅的化學反應方程式為           。

（2）粗硅與HCl反映完全后，經冷凝得到的SiHCl₃（沸點33.0℃）中含有少量SiCl₄（沸點57.6℃）和HCl（沸點－84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為              。

（3）用SiHCl₃與過量H₂反應制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：

①裝置B中的試劑是          。裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是           。

②反應一段時間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是            ，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是                 ，裝置D中發(fā)生反應的化學方程式為                 。

③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度以及                              。

④為鑒定產品硅中是否含微量鐵單質，將試樣用稀鹽酸溶解，取上層清液后需再加入的試劑（填寫字母代號）是                     。

a．碘水    b．氯水    c．NaOH溶液    d．KSCN溶液    e．Na₂SO₃溶液

（06年天津卷）下列關于電解質溶液的敘述正確的是（）

A  常溫下，pH＝7的NH₄Cl與氨水的混合溶液中離子濃度大小順序為

c(Cl^－)＞c(NH₄^＋)＞c(H^＋)＞c(OH^－)

B  將pH＝4的醋酸溶液稀釋后，溶液中所有離子的濃度均降低

C  中和pH與體積均相同的鹽酸和醋酸溶液，消耗NaOH的物質的量相同

D  常溫下，同濃度的Na₂S與NaHS溶液相比，Na₂S溶液為pH大