題目列表(包括答案和解析)
(07年高考理綜天津卷?7)2007年3月21日,我國(guó)公布了111號(hào)元素Rg的中文名稱。該元素名稱及所在周期是
A.钅侖 第七周期 B.鐳 第七周期
C.錸 第六周期 D.氡 第六周期
(09廣東卷).(分) 甲酸甲酯水解反應(yīng)方程式為:
HCOOCH3(l)+H2O(l)HCOOH(l)+CH3OH(l);△H>0
某小組通過(guò)試驗(yàn)研究該反應(yīng)(反應(yīng)過(guò)程中體積變化忽略不計(jì))。反應(yīng)體系中各組分的起始量如下表:
組分 | HCOOCH3 | H2O | HCOOH | CH3OH |
物質(zhì)的量/mol | 1.00 | 1.99 | 0.01 | 0.52 |
甲酸甲酯轉(zhuǎn)化率在溫度T1下隨反應(yīng)時(shí)間(t)的變化如下圖:
(1)根據(jù)上述條件,計(jì)算不同時(shí)間范圍內(nèi)甲酸甲酯的平均反應(yīng)速率,結(jié)果見(jiàn)下表:
反應(yīng)時(shí)間范圍/min | 0~5 | 10~15 | 20~25 | 30~35 | 40~45 | 50~55 | 75~80 |
平均反應(yīng)速率/(10-3mol·min-1) | 1.9 | 7.4 | 7.8 | 4.4 | 1.6 | 0.8 | 0.0 |
請(qǐng)計(jì)算15-20min范圍內(nèi)甲酸甲酯的減少量為 mol,甲酸甲酯的平均反應(yīng)速率為 mol·min-1(不要求寫(xiě)出計(jì)算過(guò)程)。
(2)依據(jù)以上數(shù)據(jù),寫(xiě)出該反應(yīng)的反應(yīng)速率在不同階段的變化規(guī)律及其原因: 。
(3)上述反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式為:,則該反應(yīng)在溫度T1下的K值為 。
(4)其他條件不變,僅改變溫度為T(mén)2(T2大于T1),在答題卡框圖中畫(huà)出溫度T2下甲酸甲酯轉(zhuǎn)化率隨反應(yīng)時(shí)間變化的預(yù)期結(jié)果示意圖。
A、醋酸溶液中離子濃度的關(guān)系滿足:c(H+)=c(OH-)+c(CH3COO-)
B、0.10mol/L的CH3COOH溶液加水稀釋,溶液中c(OH-)減小
C、CH3COOH溶液中加入少量的CH3COONa固體,平衡逆向移動(dòng)
D、常溫下,pH=2的CH3COOH溶液與pH=12的NaOH溶液等體積混合后,溶液的pH<7
(06年天津卷)(19分)晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3與過(guò)量H2在1000~1100℃反應(yīng)制得純硅
已知SiHCl3,能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為 。
(2)粗硅與HCl反映完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用的方法為 。
(3)用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(熱源及夾持裝置略去):
①裝置B中的試劑是 。裝置C中的燒瓶需要加熱,其目的是 。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是 ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是 ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為 。
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及 。
④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì),將試樣用稀鹽酸溶解,取上層清液后需再加入的試劑(填寫(xiě)字母代號(hào))是 。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
(06年天津卷)下列關(guān)于電解質(zhì)溶液的敘述正確的是()
A 常溫下,pH=7的NH4Cl與氨水的混合溶液中離子濃度大小順序?yàn)?/p>
c(Cl-)>c(NH4+)>c(H+)>c(OH-)
B 將pH=4的醋酸溶液稀釋后,溶液中所有離子的濃度均降低
C 中和pH與體積均相同的鹽酸和醋酸溶液,消耗NaOH的物質(zhì)的量相同
D 常溫下,同濃度的Na2S與NaHS溶液相比,Na2S溶液為pH大
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