Question

【題目】硅是一種重要的半導體材料，應用范圍廣。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

（1）寫出上述流程中一種氧化物的化學式：；
（2）上述流程中最后一步反應的化學方程式為 ， 該反應屬于(填基本反應類型)反應；
（3）如果還原SiHCl3過程中混入O2 ， 可能引起的后果是；
（4）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學式是。

Answer 1

【答案】
（1）SiO2
（2）SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；置換
（3）爆炸
（4）HCl
【解析】(1)上述流程中的氧化物是二氧化硅，化學式分別是SiO2；(2)三氯甲硅烷和氫氣反應的化學方程式為：SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；(3)如果還原SiHCl3過程中混入O2 ， 氧氣和氫氣混合達到一定程度時，在高溫條件下會發(fā)生爆炸；(4)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是HCl。
故答案為：（1）SiO2（2）SiHCl3＋H2 Si＋3HCl；置換（3）爆炸；（4）HCl（1）根據(jù)物質(zhì)的組成分析屬于氧化物的物質(zhì)
（2）根據(jù)反應物生成物反應條件結(jié)合方程式的書寫方法解答，A+ＢＣ＝ＡＣ＋Ｂ屬于置換反應
（3）根據(jù)氫氣和氧氣混合點燃爆炸分析
（４）利用流程圖分析