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【題目】高純硅是制造計算機電路芯片的主要原料。請回答:

(1)硅元素屬于 (填“金屬”或“非金屬”)元素,在地殼中硅元素的含量僅次于_____元素。

(2)硅在氧氣中燃燒生成二氧化硅,并放出大量的熱,該反應(yīng)的基本類型為 。

(3)工業(yè)上用石英(主要成分為SiO2)制備粗硅的反應(yīng)為:SiO2+2CSi+2R↑,則R的化學(xué)式為 ,反應(yīng)后硅元素的化合價 (填寫“升高”或“降低”)。

(4)生產(chǎn)高純硅可用三氯硅烷(SiHCl3)。三氯硅烷在空氣中極易燃燒,燃燒時可觀察到有紅色火焰和白色煙,生成物為二氧化硅、氯化氫和氯氣,此反應(yīng)的化學(xué)方程式為_____________

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【題目】下列操作中,能鑒別空氣、氧氣和氫氣3瓶氣體的是

A.觀察氣體顏色 B.聞氣體的氣味 C.插入燃著的木條 D.倒入澄清石灰水

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【題目】常溫常壓下,下列物質(zhì)不適宜用物理性質(zhì)區(qū)分的是

A.汞俗稱水銀和鐵B.白酒和白醋C.氧氣和二氧化碳D.鋁和銅

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【題目】已知A、E、F是單質(zhì),B、C、D是化合物,它們分別是由碳、氫、氧三種元素中的一種或者幾種組成。其中B是相對分子質(zhì)量最小的氧化物,D物質(zhì)很不穩(wěn)定,容易分解生成B和C,它們之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系如右圖所示。

(1)則A、E的化學(xué)式為A , E

(2)請你寫出一下變化的化學(xué)方程式:

A+F→C

D→B+C .

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【題目】請根據(jù)圖7中A、B兩種固體物質(zhì)的溶解度曲線,回答下列問題。

(l)在____℃時,A、B兩種物質(zhì)溶解度相同。

(2)t2時,100g水中溶解_ gA物質(zhì)恰好達(dá)到飽和,該飽和溶液中溶質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為_ ___,若要把該飽和溶液稀釋成質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10%的溶液,應(yīng)加水 _ ___g。

(3)將t2時A、B兩種物質(zhì)的飽和溶液降溫至t1(其它條件不變),溶質(zhì)的質(zhì)量分?jǐn)?shù)保持不變的是__ _。

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【題目】下列各組物質(zhì)按單質(zhì)、氧化物、酸順序排列的一組是

A. Fe、CO2、H3PO4 B. H2H2O、NaOH

C. O2、NaOHH2SO4 D. C、CaO、NaHSO4

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【題目】下列有關(guān)水的說法不正確的是

A.鑒別硬水和軟水可用肥皂水

B.明礬可促進(jìn)水中懸浮雜質(zhì)的沉降

C.長期飲用蒸餾水不利于人體健康

D.自然界中的水經(jīng)過沉淀、過濾后可得到純水

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【題目】下列玻璃儀器中可以直接受熱的是

A.燒杯 B.試管 C.量筒 D.錐形瓶

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【題目】下列變化中屬于化學(xué)變化的是

A.冰融化成水 B.鋼錠拉成鋼絲 C.鐵釘生銹 D.酒精揮發(fā)

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【題目】實驗室用一氧化碳還原氧化銅的裝置如圖所示,試回答下列問題:

(1)在加熱氧化銅前需先通一會兒一氧化碳, 這是為了 。

(2)在A處觀察到的現(xiàn)象是 _____________________ ,反應(yīng)的化學(xué)方程式是 ;

在B處觀察到的現(xiàn)象是 ,說明A處有 ___________生成。

(3)在C處觀察的現(xiàn)象是 ,點燃尾氣的目的是

反應(yīng)的化學(xué)方程式是 。

(4)以上裝置驗證了一氧化碳的 性和 性。

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