普通玻璃是________(填“混合物”或“純凈物”).玻璃可在一定溫度范圍內軟化,制成工藝品等.這是因為玻璃不是________,沒有固定________.
科目:高中化學 來源: 題型:
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科目:高中化學 來源: 題型:閱讀理解
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科目:高中化學 來源: 題型:
(08年廣東卷)硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式____;H2還原SihCl3過程中若混02,可能引起的后果是______ 。
(2)下列有頭硅材料的詳法正確的是_____ (填字母)。
A.碳化硅化學性質穩(wěn)定,可用于生產耐高溫水混
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點很高
D.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
E.鹽酸可以和硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現象并給予解釋_____。
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科目:高中化學 來源:同步題 題型:填空題
硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如圖
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科目:高中化學 來源: 題型:
硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式 。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式 ;H2還原SiHCl3過程中若混O2,可能引起的后果是 。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是 (填字母)。
A.碳化硅化學性質穩(wěn)定,可用于生產耐高溫水混
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點很高
D.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩。寫出實驗現象并給予解釋 。
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