18．下表是元素周期表一部分，列出了十個元素在周期表中的位置：

族 周期	IA	IIA	IIIA	IVA	VA	VIA	VIIA	0
2				⑥
3	①	③	⑤		⑦		⑧	⑩
4	②	④					⑨

請用化學(xué)用語回答下列問題：
（1）在①～⑦元素中，原子半徑最大的是K（填元素符號）；
（2）①～⑩中元素最高價氧化物對應(yīng)的水化物中酸性最強的是HClO₄（填物質(zhì)化學(xué)式），呈兩性的氫氧化物是Al（OH）₃（填物質(zhì)化學(xué)式）；
（3）用電子式表示元素③與⑧形成化合物的過程．
（4）寫出⑤的最高價氧化物對應(yīng)的水化物與②的最高價氧化物對應(yīng)的水化物反應(yīng)的離子方程式：Al（OH）₃+OH^-=AlO₂^-+2H₂O．

17．如表所示的四種元素中，W、X、Y、Z均為短周期元素，其中Y是地殼中含量最高的元素，且這四種元素的原子最外層電子數(shù)之和為22，下列說法正確的是（　　）

	X	Y
W			Z

	A．	X、Y、Z三種元素最低價氫化物的沸點依次升高
	B．	由X、Z和氫三種元素形成的化合物中只有共價鍵
	C．	原子半徑的大小順序：r（X）＞r（Y）＞r（W）＞r（Z）
	D．	X的最高價氧化物對應(yīng)的水化物的酸性比W的強

16．工業(yè)上冶煉冰銅（mCu₂O•nFeS）可得到粗銅，冰銅與酸反應(yīng)可以生成硫化氫（見圖1）．

完成下列填空：
（1）氣體A中的大氣污染物可選用下列試劑中的cd（填序號）吸收．
a．濃H₂SO₄       b．濃HNO₃        c．NaOH溶液      d．氨水
（2）實驗室可用如圖2的裝置完成泡銅冶煉粗銅的反應(yīng)．
①泡銅冶煉粗銅的化學(xué)方程式是3Cu₂O+2Al$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$6Cu+Al₂O₃．
②裝置中鎂帶的作用是燃燒放出大量的熱，創(chuàng)造高溫環(huán)境（或引燃劑）．泡銅和鋁粉混合物表面覆蓋少量白色固體a，a是氯酸鉀（或KClO₃）．
（3）將H₂S和O₂在密閉容器中點燃，充分反應(yīng)后恢復(fù)到原來的溫度和壓強（120℃、101kPa），氣體體積減少30%，求原混合其氣體中H₂S的體積分?jǐn)?shù)．（不考慮H₂S的自身分解）0.6或0.7（寫出必要的計算過程，否則不得分）．
已知：氧氣不足時：2H₂S+O₂$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$2S+2H₂O    氧氣足量時：2H₂S+3O₂═$\frac{\underline{\;點燃\;}}{\;}$2SO₂+2H₂O．

15．多晶硅（硅單質(zhì)的一種）被稱為“微電子大廈的基石”，制備中副產(chǎn)物以SiCl₄為主，它對環(huán)境污染很大，能遇水強烈水解，放出大量的熱．研究人員利用SiCl₄水解生成的鹽酸和鋇礦粉（主要成份為BaCO₃，且含有少量鈣、鐵、鎂離子）制備BaCl₂•2H₂O，工藝流程如下．

已知25℃時，F(xiàn)e³⁺、Ca²⁺、Mg²⁺完全沉淀的pH分別是：3.4、13.1、12.4
（1）SiCl₄水解控制在40℃以下的原因是能防止HCl揮發(fā)污染環(huán)境或控制SiCl₄的水解速率．
已知：SiCl₄（s）+H₂（g）═SiHCl₃（s）+HCl（g）△H₁=47kJ•mol^-1
SiHCl₃（s）+H₂（g）═Si（s）+3HCl（g）△H₂=189kJ•mol^-1
則由SiCl₄制備硅的熱化學(xué)方程式為SiCl₄（s）+2H₂（g）=Si（s）+4HCl（g）△H=+236kJ•mol^-1．
（2）加鋇礦粉時生成BaCl₂的離子反應(yīng)方程式是BaCO₃+2H⁺=Ba²⁺+CO₂↑+H₂O．
（3）加20% NaOH調(diào)節(jié)pH=12.5，得到濾渣A的主要成分是Mg（OH）₂，Ca（OH）₂，控制溫度70℃的目的是確保鈣離子完全除去（或溫度越高，Ca（OH）₂溶解度越�。�．
（4）BaCl₂濾液經(jīng)蒸發(fā)濃縮、降溫結(jié)晶、過濾，再經(jīng)真空干燥后得到BaCl₂•2H₂O．實驗室中蒸發(fā)濃縮用到的含硅酸鹽的儀器有3種．

14．海水是巨大的資源寶庫，如圖是以海水資源獲取某些重要化工原料的流程示意圖．

回答下列問題：
（1）用于電解的食鹽水需先除去其中的Ca²⁺、Mg²⁺、SO₄^2-等雜質(zhì)．除雜操作時往粗鹽水中先加入過量的BaCl₂（填化學(xué)式），至沉淀不再產(chǎn)生后，再加入過量的Na₂CO₃和NaOH，充分反應(yīng)后將沉淀一并濾去．經(jīng)檢測發(fā)現(xiàn)濾液中仍含有一定量的SO₄^2-，其原因是BaSO₄和BaCO₃的K_sp相差不大，當(dāng)溶液中存在大量CO₃^2-時，BaSO₄（s）會部分轉(zhuǎn)化為BaCO₃（s）．
[已知：Ksp（BaSO₄）=1.1×10^-10、Ksp（BaCO₃）=5.1×10^-9]
（2）操作B需加入下列試劑中的一種，最合適的是c（選填編號）．
a．氫氧化鈉溶液      b．氨水      c．石灰乳       d．碳酸鈉溶液
（3）向苦鹵中通入Cl₂，發(fā)生反應(yīng)的離子方程式是Cl₂+2Br^-=Br₂+2Cl^-．上圖中虛線框內(nèi)流程的主要作用是富集Br₂，上圖流程中與之目的相同的還有兩處分別是海水蒸發(fā)結(jié)晶得到粗鹽、苦鹵→Mg（OH）₂→MgCl₂溶液．

13．由于用氯氣對飲用水消毒，會使水中的有機物發(fā)生氯代，生成有機含氯化合物，對人體有害，世界環(huán)保聯(lián)盟即將全面禁止使用這種消毒方法，建議采用廣譜性具有強氧化性的高效消毒劑二氧化氯（ClO₂）．ClO₂極易爆炸，生產(chǎn)和使用時盡量用惰性氣體稀釋，避免光照、震動或加熱．
（1）在ClO₂分子中氯元素的化合價是+4．
（2）歐洲一些國家用NaClO₃氧化濃鹽酸來制取ClO₂，同時有Cl₂生成，表示這一反應(yīng)的化學(xué)方程式是2NaClO₃+4HCl（濃）=2ClO₂↑+Cl₂↑+2H₂O+2NaCl．
（3）我國廣泛采用將經(jīng)干燥空氣稀釋的氯氣，通入填有固體亞氯酸鈉（NaClO₂）的柱內(nèi)制得ClO₂，這一反應(yīng)的化學(xué)方程式是2NaClO₂+Cl₂=2ClO₂+2NaCl．和歐洲的方法相比，此法的優(yōu)點有：①空氣將生成的ClO₂稀釋，減少爆炸危險；②不能分離ClO₂和Cl₂，副產(chǎn)物少，原料利用率高．
（4）在酸性溶液中，用草酸鈉（Na₂C₂O₄）還原NaClO₃也可制得ClO₂，Na₂C₂O₄的氧化產(chǎn)物是CO₂，表示這一反應(yīng)的離子方程式是4H⁺+C₂O₄^2-+2ClO₃^-=2CO₂↑+2ClO₂↑+2H₂O，此法的優(yōu)點是ClO₂被CO₂稀釋，減少爆炸危險性．

12．將5.4g鋁和15.6g過氧化鈉混合溶于100mL水中，得到澄清溶液，同時產(chǎn)生氣體，寫出發(fā)生反應(yīng)的離子方程式2Na₂O₂+2H₂O=4Na⁺+4OH^-+O₂↑、2Al+2H₂O+2OH^-=2AlO₂^-+3H₂↑．在微熱的條件下，向上述澄清溶液中繼續(xù)滴加NH₄Cl稀溶液，和NH₄⁺反應(yīng)的離子依次為OH^-、AlO₂^-．

11．某化學(xué)興趣小組的同學(xué)利用下圖所示實驗裝置進行實驗（圖中a、b、c、d表示止水夾）．請按要求回答下列問題：

Ⅰ．（1）用濃鹽酸和MnO₂加熱反應(yīng)制取氯氣時，需選用上述裝置（填字母，除雜和干燥裝置略）A和C；還需補充裝置E，請在上方方框內(nèi)畫出裝置簡圖，并標(biāo)注其所盛藥品的名稱．
（2）若用此套裝置比較Cl^-和Br^-還原性強弱，需在裝置C中盛裝的溶液是溴化鉀（或溴化鈉）溶液．
Ⅱ．（3）用濃硝酸和銅片反應(yīng)制備NO₂時選裝置B，B中儀器e的名稱為長頸漏斗，反應(yīng)的離子方程式為Cu+4H⁺+2NO₃^-=Cu²⁺+2NO₂↑+2H₂O．
（4）欲用D裝置驗證收集于試管甲中的NO₂能與水（滴有紫色石蕊試液）反應(yīng)，其操作步驟為：①關(guān)閉止水夾b、d，②打開止水夾c，③然后雙手緊握（或微熱）試管甲使試管中氣體逸出（寫具體操作），觀察到的現(xiàn)象有燒杯中有氣泡冒出，隨后水倒流至試管甲中，甲中溶液顯紅色．

10．下列離子方程式正確的是（　�。�

	A．	氯氣通入水中：Cl2+H2O?2H++Cl-+ClO-
	B．	KI溶液與H2SO4酸化的H2O2溶液混合：2 I-+H2O2+2 H+=2 H2O+I2
	C．	向NH4HCO3溶液中滴加過量Ba（OH）2溶液：HCO3-+OH-+Ba2+=H2O+BaCO3↓
	D．	高錳酸鉀酸性溶液吸收二氧化硫：SO2+MnO4-+4H+=SO42-+Mn2++2H2O

9．已知N_A代表阿伏加德羅常數(shù)的數(shù)值，下列說法正確的是（　　）

	A．	0.1mol Fe在0.1mol Cl2中充分燃燒，轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為0.2NA
	B．	1.2gNaHSO4固體中含有的陽離子數(shù)目為0.02NA
	C．	Na2O2與足量CO2反應(yīng)生成2.24L O2，轉(zhuǎn)移電子數(shù)為0.2NA
	D．	4.6 g NO2和N2O4混合物中含有的原子總數(shù)為0.3NA