Question

11．硅--一種重要的半導(dǎo)體材料，應(yīng)用范圍很廣．三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

（1）硅屬于非金屬（填“金屬”或“非金屬”）元素；
（2）寫出上述流程中一種氧化物的化學(xué)式SiO₂（或CO）；
（3）上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl，該反應(yīng)屬于置換反應(yīng)；
（4）如果還原SiHCl₃過程中混入O₂，可能引起的后果是爆炸；
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是HCl．

Answer 1

分析 （1）硅屬于非金屬元素；
（2）含有氧元素和另外一種元素的化合物屬于氧化物；
（3）根據(jù)反應(yīng)物、生成物、反應(yīng)條件及其質(zhì)量守恒定律可以書寫反應(yīng)的化學(xué)方程式；
（4）氫氣和氧氣混合達(dá)到一定程度時(shí)，遇明火會(huì)發(fā)生爆炸；
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是氯化氫．

解答 解：（1）硅屬于非金屬元素．
故填：非金屬．
（2）上述流程中的氧化物是二氧化硅和一氧化碳，化學(xué)式分別是SiO₂、CO．
故填：SiO₂（或CO）．
（3）三氯甲硅烷和氫氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl，屬于置換反應(yīng)．
故填：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+3HCl；置換．
（4）如果還原SiHCl₃過程中混入O₂，氧氣和氫氣混合達(dá)到一定程度時(shí)，在高溫條件下會(huì)發(fā)生爆炸．
故填：爆炸．
（5）該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是HCl．
故填：HCl．

點(diǎn)評 本題主要考查物質(zhì)的性質(zhì)，解答時(shí)要根據(jù)各種物質(zhì)的性質(zhì)，結(jié)合各方面條件進(jìn)行分析、判斷，從而得出正確的結(jié)論．