Question

短周期元素A、X、D、E、R、T原子序數(shù)依次增大，原子結(jié)構(gòu)及性質(zhì)如表所示：

元素	結(jié)構(gòu)及性質(zhì)
A	A的原子半徑最小
X	X原子最外層電子數(shù)是次外層的兩倍
D	D是短周期中金屬性最強的元素
E	E的最高價氧化物對應(yīng)水化物是一種常見的兩性氫氧化物
R	R與X同主族
T	T的負一價陰離子的核外電子排布與Ar原子相同

（1）R元素在周期表的位置是

 

，化合物DT中存在的化學鍵是

 

．
（2）寫出E單質(zhì)與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式

 

．
（3）1g X₂A₄完全燃燒，恢復到常溫時放出a kJ的熱量，寫出X₂A₄完全燃燒的熱化學方程式

 

．
（4）RT₄極易水解生成兩種酸，寫出該反應(yīng)的化學方程式

 

．
（5）已知某溫度下T的某一元含氧酸的K_a=4.0×10^-8，若一定濃度該酸的pH=4，則此溶液的物質(zhì)的量濃度為

 

．

Answer 1

考點：位置結(jié)構(gòu)性質(zhì)的相互關(guān)系應(yīng)用

專題：元素周期律與元素周期表專題

分析：短周期元素A、X、D、E、R、T原子序數(shù)依次增大，A的原子半徑最小，則A為H元素；X原子最外層電子數(shù)是次外層的兩倍，X原子只能有2個電子層，最外層電子數(shù)為4，則X為碳元素；D是短周期中金屬性最強的元素，則D為Na；E的最高價氧化物對應(yīng)水化物是一種常見的兩性氫氧化物，則E為Al；R與X同主族，則R為Si元素；T的負一價陰離子的核外電子排布與Ar原子相同，則T為Cl元素，據(jù)此解答．

解答： 解：短周期元素A、X、D、E、R、T原子序數(shù)依次增大，A的原子半徑最小，則A為H元素；X原子最外層電子數(shù)是次外層的兩倍，X原子只能有2個電子層，最外層電子數(shù)為4，則X為碳元素；D是短周期中金屬性最強的元素，則D為Na；E的最高價氧化物對應(yīng)水化物是一種常見的兩性氫氧化物，則E為Al；R與X同主族，則R為Si元素；T的負一價陰離子的核外電子排布與Ar原子相同，則T為Cl元素，
（1）R為Si元素，原子核外有3個電子層、最外層電子數(shù)為4，在周期表的位置是第三周期第ⅣA族，化合物NaCl中存在的化學鍵是離子鍵，
故答案為：第三周期第ⅣA族；離子鍵；
（2）Al與NaOH溶液反應(yīng)生成偏鋁酸鈉與氫氣，反應(yīng)離子方程式為：2Al+2OH^-+2H₂O=2AlO₂^-+3H₂↑，
故答案為：2Al+2OH^-+2H₂O=2AlO₂^-+3H₂↑；
（3）1g C₂H₄完全燃燒，恢復到常溫時放出a kJ的熱量，則1molC₂H₄完全燃燒回復常溫下放出的熱量為28akJ，C₂H₄完全燃燒的熱化學方程式為：C₂H₄（g）+3O₂（g）=2CO₂（g）+2H₂O（l）△H=-28a kJ/mol，
故答案為：C₂H₄（g）+3O₂（g）=2CO₂（g）+2H₂O（l）△H=-28a kJ/mol；
（4）SiCl₄極易水解生成兩種酸，則生成硅酸與HCl，該反應(yīng)的化學方程式為：SiCl₄+3H₂O=H₂SiO₃↓+4HCl↑，
故答案為：SiCl₄+3H₂O=H₂SiO₃↓+4HCl↑；
（5）Cl的某一元含氧酸為HClO，已知某溫度下K_a=4.0×10^-8，若一定濃度該酸的pH=4，則c（H⁺）=10^-4mol/L，設(shè)此溶液的物質(zhì)的量濃度為c mol/L，則：
                 HClO?H⁺+ClO^-
變化（mol/L）：10^-4    10^-4 10^-4
平衡（mol/L）：（c-10^-4 ） 10^-4 10^-4
而（c-10^-4 ）≈c，故

10-4×10-4

c

=4.0×10^-8，解得c=0.25，
故答案為：0.25mol/L．

點評：本題考查結(jié)構(gòu)性質(zhì)位置關(guān)系應(yīng)用、離子方程式、熱化學方程式、電離平衡常數(shù)的有關(guān)計算等，側(cè)重對檢查組的鞏固應(yīng)用，（5）注意近似計算，難度不大．