Question

【題目】W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素，其原子半徑隨原子序數變化如圖所示。已知W的一種核素的質量數為18，中子數為10；X和Ne原子的核外電子數相差1；Y的單質是一種常見的半導體材料；Z的非金屬性在同周期主族元素中最大。

(1)X位于元素周期表中的位置是____________________。

(2)Z的氣態(tài)氫化物和溴化氫相比，較穩(wěn)定的是____________(寫化學式)。

(3)W與X形成的一種化合物和水反應能生成W的單質，請寫出該反應的化學方程式：________________________________________________________________________。

(4)Y與Z形成的化合物和足量水反應，生成一種弱酸和一種強酸，該反應的化學方程式是________________________________________________________________________。

Answer 1

【答案】 第三周期第ⅠA族 HCl 2Na2O2＋2H2O===4NaOH＋O2↑ SiCl4＋3H2O===H2SiO3↓＋4HCl

【解析】W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素，W的一種核素的質量數為18，中子數為10，可知W的質子數為8，則W是氧元素；X和Ne原子的核外電子數相差1，且原子半徑比W大，可知X為11號元素，故X為Na元素；Y的原子半徑介于X和W之間，Y的單質是一種常見的半導體材料，所以Y是Si元素；Z的非金屬性在同周期元素中最強，原子序數大于Si，故Z為Cl元素，則(1)Na位于元素周期表中的位置是第三周期第ⅠA族。(2)氯元素非金屬性強于溴，則氯化氫的穩(wěn)定性強于溴化氫。(3)W與X形成的一種化合物和水反應能生成W的單質，該反應的化學方程式為2Na2O2＋2H2O＝4NaOH＋O2↑。(4)Y與Z形成的化合物和足量水反應，生成一種弱酸和一種強酸，強酸是鹽酸，弱酸是硅酸，該反應的化學方程式是SiCl4＋3H2O＝H2SiO3↓＋4HCl。