9.原子序數(shù)依次增大的四種元素A、B、C、D分別處于第一至第四周期,自然界中存在多種A的化合物,B原子核外電子有6種不同的運(yùn)動狀態(tài),B與C可形成正四面體形分子,D的基態(tài)原子的最外能層只有一個電子,其他能層均已充滿電子.
請回答下列問題:
(1)這四種元素中電負(fù)性最大的元素,其基態(tài)原子的價電子排布圖為
(2)C所在主族的前四種元素分別與A形成的化合物,沸點(diǎn)由高到低的順序是HF>HI>HBr>HCl
(填化學(xué)式),呈現(xiàn)如此遞變規(guī)律的原因是HF分子之間形成氫鍵,使其熔沸點(diǎn)較高,HI、HBr、HCl分子之間只有范德華力,相對分子質(zhì)量越大,范德華力越大,沸點(diǎn)越高.
(3)B元素可形成多種單質(zhì),一種晶體結(jié)構(gòu)如圖一所示,其原子的雜化類型為sp2,另一種的晶胞如圖二所示,該晶胞的空間利用率為34%(保留兩位有效數(shù)字).($\sqrt{3}$=1.732)

(4)D元素形成的單質(zhì),其晶體的堆積模型為面心立方最密堆積,D的醋酸鹽晶體局部結(jié)構(gòu)如圖三,該晶體中含有的化學(xué)鍵是①②③(填選項序號).
①極性鍵    ②非極性鍵    ③配位鍵    ④金屬鍵
(5)向D的硫酸鹽溶液中滴加過量氨水,觀察到的現(xiàn)象是首先形成藍(lán)色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,沉淀溶解,得到深藍(lán)色的透明溶液.請寫出上述過程的離子方程式Cu2++2NH3•H2O═Cu(OH)2↓+2NH4+、Cu(OH)2+4NH3•H2O═[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O.

分析 原子序數(shù)依次增大的四種元素A、B、C、D分別處于第一至第四周期,自然界中存在多種A的化合物,則A為氫元素;B原子核外電子有6種不同的運(yùn)動狀態(tài),即核外有6個電子,則B為碳元素;D的基態(tài)原子的最外能層只有一個電子,其他能層均已充滿電子,D原子外圍電子排布為3d104s1,則D為銅元素;結(jié)合原子序數(shù)可知,C只能處于第三周期,B與C可形成正四面體型分子,則B為氯元素.
(1)四種元素中電負(fù)性最大的是Cl,其基態(tài)原子的價電子排布為3s23p5;
(2)HF分子間存在氫鍵,沸點(diǎn)最高,其它鹵化氫隨著相對分子質(zhì)量遞增,其沸點(diǎn)升高;
(3)圖一為平面結(jié)構(gòu),在其層狀結(jié)構(gòu)中碳碳鍵鍵角為120°,每個碳原子都結(jié)合著3個碳原子,碳原子采取sp2雜化;
根據(jù)均攤法計算晶胞中C原子數(shù)目,令碳原子直徑為a,計算晶胞中C原子總體積,碳原子與周圍的4個原子形成正四面體結(jié)構(gòu),中心碳原子與正四面體頂點(diǎn)原子相鄰,中心碳原子到底面距離為$\frac{a}{3}$,則正四面體的高為(a+$\frac{a}{3}$),設(shè)正四面體的棱長為x,則斜面的高為$\frac{\sqrt{3}}{2}$x,底面中心到邊的距離為為$\frac{\sqrt{3}}{2}$x×$\frac{1}{3}$,再根據(jù)勾股定理計算x與a的關(guān)系,晶胞棱長=2x×$\frac{\sqrt{2}}{2}$=$\sqrt{2}$x,再計算晶胞體積,晶胞空間利用率=$\frac{原子總體積}{晶胞體積}$×100%;
(4)晶體Cu為面心立方最密堆積,結(jié)合圖三醋酸銅晶體的局部結(jié)構(gòu)可確定其晶體中含有極性鍵、非極性鍵和配位鍵;
(5)硫酸銅溶液中加入氨水會產(chǎn)生氫氧化銅藍(lán)色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,沉淀溶解,得到四氨合銅絡(luò)離子,溶液為深藍(lán)色的透明溶液.

解答 解:原子序數(shù)依次增大的四種元素A、B、C、D分別處于第一至第四周期,自然界中存在多種A的化合物,則A為氫元素;B原子核外電子有6種不同的運(yùn)動狀態(tài),即核外有6個電子,則B為碳元素;D的基態(tài)原子的最外能層只有一個電子,其他能層均已充滿電子,D原子外圍電子排布為3d104s1,則D為銅元素;結(jié)合原子序數(shù)可知,C只能處于第三周期,B與C可形成正四面體型分子,則B為氯元素,
(1)四種元素中電負(fù)性最大的是Cl,其基態(tài)原子的價電子排布為3s23p5,其基態(tài)原子的價電子排布圖為,
故答案為:;
(2)HF分子之間形成氫鍵,使其熔沸點(diǎn)較高,HI、HBr、HCl分子之間只有范德華力,相對分子質(zhì)量越大,范德華力越大,沸點(diǎn)越高,即沸點(diǎn)由高到低的順序是HF>HI>HBr>HCl,
故答案為:HF>HI>HBr>HCl;HF分子之間形成氫鍵,使其熔沸點(diǎn)較高,HI、HBr、HCl分子之間只有范德華力,相對分子質(zhì)量越大,范德華力越大,沸點(diǎn)越高;
(3)圖一為平面結(jié)構(gòu),在其層狀結(jié)構(gòu)中碳碳鍵鍵角為120°,每個碳原子都結(jié)合著3個碳原子,碳原子采取sp2雜化;
一個晶胞中含碳原子數(shù)為8×$\frac{1}{8}$+6×$\frac{1}{2}$+4=8,令碳原子直徑為a,晶胞中C原子總體積=8×$\frac{4}{3}$π($\frac{a}{2}$)3,碳原子與周圍的4個原子形成正四面體結(jié)構(gòu),中心碳原子與正四面體頂點(diǎn)原子相鄰,中心碳原子到底面距離為$\frac{a}{3}$,則正四面體的高為(a+$\frac{a}{3}$)=$\frac{4a}{3}$,設(shè)正四面體的棱長為x,則斜面的高為$\frac{\sqrt{3}}{2}$x,底面中心到邊的距離為$\frac{\sqrt{3}}{2}$x×$\frac{1}{3}$,再根據(jù)勾股定理:($\frac{4a}{3}$)2+($\frac{\sqrt{3}}{2}$x×$\frac{1}{3}$)2=($\frac{\sqrt{3}}{2}$x)2,整理得x=$\frac{2\sqrt{6}}{3}$a,故晶胞棱長=$\frac{2\sqrt{6}}{3}$a×$\sqrt{2}$=$\frac{4\sqrt{3}}{3}$a,則晶胞體積為($\frac{4\sqrt{3}}{3}$a)3,晶胞空間利用率={[8×$\frac{4}{3}$π($\frac{a}{2}$)3]÷($\frac{4\sqrt{3}}{3}$a)3}×100%≈34%,
故答案為:sp2;34%;
(4)晶體Cu為面心立方最密堆積,結(jié)合圖三醋酸銅晶體的局部結(jié)構(gòu)可確定其晶體中含有極性鍵、非極性鍵和配位鍵,
故答案為:面心立方最密堆積;①②③;
(5)硫酸銅溶液中加入氨水會產(chǎn)生藍(lán)色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,沉淀溶解,得到深藍(lán)色的透明溶液,有關(guān)反應(yīng)的離子方程式為Cu2++2NH3•H2O═Cu(OH)2↓+2NH4+、Cu(OH)2+4NH3•H2O═[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O,
故答案為:首先形成藍(lán)色沉淀,繼續(xù)滴加氨水,沉淀溶解,得到深藍(lán)色的透明溶液;Cu2++2NH3•H2O═Cu(OH)2↓+2NH4+、Cu(OH)2+4NH3•H2O═[Cu(NH34]2++2OH-+4H2O.

點(diǎn)評 本題是對物質(zhì)結(jié)構(gòu)的考查,題目綜合性較大,涉及元素推斷、核外電子排布、晶體結(jié)構(gòu)與化學(xué)鍵、雜化軌道、配合物、晶胞計算等,是對學(xué)生綜合能力的考查,(3)中計算為易錯點(diǎn)、難度,需要學(xué)生具備一定的空間想象與數(shù)學(xué)計算能力,難度中等.

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C.甲裝置中銅片表面發(fā)生了還原反應(yīng)
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A.原子半徑:W>X>Y>Z
B.單質(zhì)與鹽酸反應(yīng)速率:Y>W(wǎng)
C.X最低價氫化物的穩(wěn)定性強(qiáng)于Z最低價氫化物
D.原子序數(shù):X>W(wǎng)>Y>Z

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