13．寫出下列物質(zhì)在水溶液中的電離方程式：KHSO4=K++H++SO42-；Fe2（SO4）3=2Fe3++3SO42-．

分析 硫酸氫鉀在水中完全電離出鉀離子、氫離子、硫酸根離子；Fe2（SO4）3在水中完全電離出鐵離子、硫酸根離子．

解答 解：硫酸氫鉀在水中完全電離出鉀離子、氫離子、硫酸根離子，電離方程式為：KHSO4=K++H++SO42-，；Fe2（SO4）3在水中完全電離出鐵離子、硫酸根離子，其電離方程式為：Fe2（SO4）3=2Fe3++3SO42-；
故答案為：=K++H++SO42-；=2Fe3++3SO42-．

點評 本題考查了電離方程式的書寫，題目難度不大，分清電解質(zhì)的強弱，明確電解質(zhì)電離方式是解題關(guān)鍵，硫酸氫根在水中應拆成離子形式．

練習冊系列答案
相關(guān)習題

科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

3．已知某化學反應A2 （g）+2B2 （g）═2AB2（g） （AB2的分子結(jié)構(gòu)為B-A-B）的能量變化如圖所示，下列有關(guān)敘述中正確的是（　�。�
A．該反應的進行一定需要加熱
B．該反應的△H=-（E1-E2）kJ/mol
C．該反應中反應物的鍵能總和大于生成物的鍵能總和
D．斷裂1　mol　A-A和2　mol　B-B放出E1　kJ能量

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

4．下列說法正確的是（　�。�
A．H2O的摩爾質(zhì)量是18gB．1mol氧的質(zhì)量是16g
C．氧氣的摩爾質(zhì)量是32g•mol-1D．2molH2的摩爾質(zhì)量是4g

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

1．在一定條件下，A氣體與B氣體反應生成C氣體．反應過程中，反應物與生成物的濃度隨時間變化的曲線如圖所示，則下列敘述正確的是（　�。�
A．t1s時反應物A的轉(zhuǎn)化率為60%
B．在t1～（t1+10）s時，v（A）=v（B）=0
C．該反應的化學方程式為3A+B?2C
D．0～t1s內(nèi)A的反應速率為v（A）=$\frac{0.2}{{t}_{1}}$mol/（L•s）

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科目：高中化學 來源： 題型：計算題

8．實驗室常用澄清石灰水檢驗CO2，已知在20℃時，每100g水溶解Ca（OH）20.165g即達到飽和．
（1）在20℃500g水中加入37.0g Ca（OH）2粉末，經(jīng)充分攪拌，若液體體積仍為500mL，求OH-離子的物質(zhì)的量濃度．
（2）若使原500mL溶液中的c（Ca2+）降低至0.01mol/L，求需要通入標準狀況下二氧化碳氣體多少升？

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

18．下列有關(guān)膠體的敘述正確的是（　�。�
A．將飽和FeCl3溶液滴加入冷水中直接就能制得Fe（OH）3膠體
B．膠體區(qū)別于其它分散系的本質(zhì)特征是膠體粒子的直徑大小
C．用過濾的方法可以分離和提純膠體
D．煮雞蛋的過程中發(fā)生了膠體的電泳現(xiàn)象

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

5．從海水中可以提取溴，主要反應為：2Br-+Cl2=2Cl-+Br2，下列說法正確的是（　　）
A．溴離子具有氧化性B．氯氣是還原劑
C．氯氣發(fā)生氧化反應D．氧化性：Cl2＞Br2

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

8．某小組同學探究濃硫酸及其部分反應產(chǎn)物的化學性質(zhì)，裝置如圖所示（夾持裝置略去）．
（1）試管①中反應的化學方程式是Cu+2H2SO4（濃）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CuSO4+SO2↑+2H2O．該反應表明濃硫酸具有ab（填序號）．
a．酸性       b．強氧化性       c．還原性
（2）若試管②中的試劑為品紅溶液，實驗中觀察到的現(xiàn)象是品紅溶液褪色．
（3）若試管②中的試劑為酸化的Ba（NO3）2溶液，觀察到有白色沉淀生成，說明試管①中生成的氣體具有還原性．
（4）試管③中的試劑為NaOH溶液，反應的離子方程式是SO2+2OH-═SO32-+H2O．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

9．我國目前制備多晶硅主要采用三氯氫硅氫還原法、硅烷熱解法和四氯化硅氫還原法．由于三氯氫硅還原法具有一定優(yōu)點，被廣泛應用．其簡化的工藝流程如圖所示：

（1）制備三氯氫硅的反應為：Si（s）+3HCl（g）=SiHCl3（g）+H2（g）△H=-210kJ•mol-1．伴隨的副反應有：Si（s）+4HCl（g）=SiCl4（g）+2H2（g）△H=-241kJ•mol-1．
SiCl4在一定條件下與H2反應可轉(zhuǎn)化為SiHCl3，反應的熱化學方程式為：
SiCl4（g）+H2（g）=SiHCl3（g）+HCl（g）△H=+31kJ•mol-1．
（2）由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式為SiHCl3+H2$\frac{\underline{\;1050℃～1100℃\;}}{\;}$Si+3HCl．該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是HCl、H2、SiHCl3等（至少寫出兩種）．
（3）由于SiH4具有易提純的特點，因此硅烷熱分解法是制備高純硅很有發(fā)展?jié)摿Φ姆椒ǎI(yè)上廣泛采用的合成硅烷方法是讓硅化鎂和固體氯化銨在液氨介質(zhì)中反應得到硅烷，化學方程式是Mg2Si+4NH4Cl═SiH4↑+2MgCl2+4NH3↑；整個制備過程必須嚴格控制無水，否則反應將不能生成硅烷，而是生成硅酸和氫氣等，其化學方程式為Mg2Si+4NH4Cl+3H2O═2MgCl2+H2SiO3+4NH3↑+4H2↑；整個系統(tǒng)還必須與氧隔絕，其原因是由于硅烷在空氣中易燃，濃度高時容易發(fā)生爆炸．

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