1560.8

異丁烷

2878.0

乙烷

891.0

正丁烷

21．以下是一些烷烴的燃燒熱（KJ/mol）數(shù)據(jù)，試回答下列問(wèn)題：

化合物

燃燒熱

化合物

燃燒熱

甲烷

試回答下列有關(guān)問(wèn)題：

   ⑴X的化學(xué)式             ，X的熔點(diǎn)為801℃，實(shí)際工業(yè)冶煉中常常加入40%Y共熔，猜想工業(yè)上這樣做的目的                                              。

⑵Y在實(shí)驗(yàn)室中的用途              （列舉一例）。

   ⑶反應(yīng)②的化學(xué)方程式是_____________________________________________。

⑷反應(yīng)③的離子方程式是                                             。

五．（本題包括1小題，共9分）

20．下圖表示各物質(zhì)之間的轉(zhuǎn)化關(guān)系，其中反應(yīng)的部分產(chǎn)物已被省去。①、②為工業(yè)生產(chǎn)及應(yīng)用中常見(jiàn)反應(yīng)，B是一種具有漂白作用的鹽，Y易潮解，F(xiàn)是一種淡黃色固體。

19．原子序數(shù)依次增大的A、B、C、D四種短周期元素。元素A的原子半徑在短周期中最小，元素C的單質(zhì)在空氣中含量最多，D所在周期的各元素單質(zhì)沸點(diǎn)變化如圖I（原子序數(shù)按遞增順序連續(xù)排列）。B、C、D三種元素均能與A形成等電子的三種分子，且化合物中各原子的個(gè)數(shù)比為：

化合物

甲

乙

丙

原子個(gè)數(shù)比

B∶A=1∶3

C∶A=1∶2

D∶A=1∶2

⑴元素D在元素周期中的位置                     。

⑵B、C形成的一種化合物X是一種原子晶體，晶體  

中B、C原子均達(dá)到穩(wěn)定結(jié)構(gòu)，則X的化學(xué)式為    

         ；X的熔點(diǎn)         金剛石（填“大于”、

“等于”或“小于”）。

⑶寫出圖I中沸點(diǎn)最高的單質(zhì)與NaOH溶液反應(yīng)的離子方程式：                                               。

⑴粗硅與HCl反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量SiCl₄沸點(diǎn)57.6℃）和HCl（沸點(diǎn)－84.7℃），提純SiHCl₃采用的方法為：____________________。

⑵用SiHCl₃與過(guò)量H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）：

①裝置B中的試劑是________________________，裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是：___________________________________________________________。

②反應(yīng)一段時(shí)間后，裝置D中觀察到的現(xiàn)象是________________________，裝置D不能采用普通玻璃管的原因是____________________________________，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)___________________________________。

③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及____________________________________。

④為鑒定產(chǎn)品硅中是否含微量鐵單質(zhì)，請(qǐng)?jiān)O(shè)計(jì)一個(gè)簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)方案，簡(jiǎn)述有關(guān)實(shí)驗(yàn)步驟。                                                                        

                                                              。

18．（16分）已知：制備純硅的主要步驟如下：

①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；②粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl₃：Si+3HClSiHCl₃+H₂；③SiHCl₃與過(guò)量H₂在1000～1100℃反應(yīng)制得純硅。

已知：SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

②用10 mL量筒量取5.80 mL鹽酸；   

③用稀醋酸可除去熱水瓶?jī)?nèi)的水垢；

④檢驗(yàn)鹵代烴中鹵素時(shí)，可將鹵代烴直接加入硝酸酸化的硝酸銀溶液中

⑤金屬鈉著火可用干燥的細(xì)沙撲滅；

⑥用排水法收集氫氣時(shí)，不需要檢驗(yàn)純度，可直接點(diǎn)燃；

⑦檢驗(yàn)碳酸鈉溶液中是否混有氫氧化鈉可先加足量的氯化鈣溶液，再滴入酚酞試液；

⑧可用過(guò)濾法除去氧氫化鐵膠體中少量的氯化鐵和鹽酸。